【導讀】學會用Silvaco軟件提取MOS晶體管的各種參數,掌握用SILVACO. 區(qū)薄層電阻等參數。特性曲線,并從中提取MOS管的閾值電壓和?的濃度,注入能量,以及阱區(qū)的推進。量為3e13,能量為20kev。在這條extract語句中,1dvt指測量一維閾值電壓;ntype指器件類型;荷;vb=柵極偏置0V。這將強制使得仿真在兩維中。初始化信息如下所示。硼雜質的摻雜分布將會如圖所示顯現出來。氧化條件是3分鐘,900度,1個大氣壓下的濕法氧化。fermi模型通常用于沒有損傷的襯底,并且摻雜濃度小于1x1020cm-3。在源極和漏極植入之前,需要進行側墻隔離氧化層的淀積。為了形成氧化隔離,必須進行干刻蝕。