【文章內(nèi)容簡介】 ume=22177。1176。6水洗水處理因有絡(luò)合物，較不易處理較易處理7自動(dòng)控制成本低高8主要特點(diǎn)蝕刻速度快，側(cè)蝕??；溶銅能力強(qiáng)，蝕刻液容易控制。蝕刻速度易控制，蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量；溶銅量大。六、失效蝕刻液現(xiàn)場再生回用技術(shù)類型、國內(nèi)蝕刻液現(xiàn)場再生回用技術(shù)概況失效堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用技術(shù)國內(nèi)主要分為2類，分別是萃取電解法和隔膜電解法，應(yīng)用成功的失效酸性蝕刻液現(xiàn)場再生回用技術(shù)國內(nèi)采用萃取電解法，即萃取電解法應(yīng)用領(lǐng)域由最初的堿性蝕刻液擴(kuò)展至堿性蝕刻液和酸性蝕刻液，隔膜電解法目前只能處理堿性蝕刻液，萃取電解法在深圳已安裝蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)的線路板企業(yè)得到廣泛使用，而隔膜電解法的蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)僅個(gè)別線路板企業(yè)選用。、堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用技術(shù)、萃取—電解法、萃取—電解法的發(fā)展概況最初真正實(shí)現(xiàn)線路板行業(yè)堿性蝕刻液工業(yè)規(guī)模的現(xiàn)場再生回收應(yīng)用是加拿大的Canadian RECYCLE LTD.，該公司開發(fā)出的循環(huán)蝕刻再生系統(tǒng)成套技術(shù)和設(shè)備，最初由香港錦衛(wèi)有限公司（CONCORD SINO LIMITED）負(fù)責(zé)國內(nèi)市場的代理銷售，2000年在廣州第一套設(shè)備安裝使用，隨后分別派生出多家公司經(jīng)營Canadian RECYCLE ，并逐漸在全套引進(jìn)的基礎(chǔ)上，通過不斷的消化、吸收和改進(jìn)，目前已基本實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化。在廣東省經(jīng)營萃取—電解法回收利用堿性蝕刻液的公司主要有錦衛(wèi)有限公司、富源科技發(fā)展公司、深圳市天綠環(huán)保科技有限公司、廣州思達(dá)工程貿(mào)易有限公司和廣州柏宇電子科技產(chǎn)品有限公司，以上公司提供的設(shè)備外形、工藝控制參數(shù)、運(yùn)行模式基本相同。錦衛(wèi)有限公司、富源科技發(fā)展公司、深圳市天綠環(huán)?？萍加邢薰?、廣州思達(dá)工程貿(mào)易有限公司和廣州柏宇電子科技產(chǎn)品有限公司均未取得環(huán)保工程設(shè)計(jì)、施工和運(yùn)營資質(zhì)，所提供的產(chǎn)品尚未得到相關(guān)部門的鑒定。深圳拓鑫環(huán)保設(shè)備公司和恩達(dá)電路在Canadian RECYCLE ，通過消化、吸收和工程實(shí)踐，調(diào)整了設(shè)備工藝參數(shù)和萃取劑，開發(fā)堿性蝕刻液再生回用裝置，但工藝原理與Canadian RECYCLE 。深圳拓鑫環(huán)保設(shè)備公司開發(fā)的“印制板蝕刻液再生及銅回收技術(shù)與設(shè)備”已被列為國家重點(diǎn)環(huán)境保護(hù)實(shí)用技術(shù)A類，之前該套蝕刻廢液銅回收技術(shù)和設(shè)備通過了國家信息產(chǎn)業(yè)部的技術(shù)鑒定，技術(shù)鑒定意見認(rèn)為，%、%，達(dá)到國內(nèi)先進(jìn)水平。、萃取—電解法的工藝流程目前在國內(nèi)市場銷售的采用萃取—電解方法回收利用堿性蝕刻液的成套設(shè)備均采用萃銅劑萃銅、硫酸反萃、電解回收銅工藝組合，存在的工藝控制參數(shù)差異屬于商業(yè)機(jī)密。工藝原理簡介：失效蝕刻液經(jīng)過濾去除雜物后，直接進(jìn)入萃取系統(tǒng)用有機(jī)萃取劑萃取提銅（銅與蝕刻液分離，進(jìn)入有機(jī)層），分離后的萃取液經(jīng)硫酸反萃處理后，提取反萃取液中的銅（反萃液送到電解槽中用連續(xù)電解沉積工藝生產(chǎn)紫銅板，也可通過結(jié)晶生產(chǎn)硫酸銅晶體，目前已全部生產(chǎn)紫銅板）。萃取后的殘液（蝕刻液）經(jīng)調(diào)整pH及添加少量蝕刻鹽后再生成新的蝕刻溶液，返回蝕刻槽中循環(huán)使用。萃取劑、反萃劑在萃取系統(tǒng)中同樣可以循環(huán)使用，但損耗需定期添加。萃銅劑配方為技術(shù)擁有方的商業(yè)機(jī)密，但主要成份含乙醇和丙醇，萃銅劑可循環(huán)使用2~3年。l 萃取原理：相當(dāng)于液體離子交換（樹脂）銅進(jìn)入有機(jī)溶液中，大約每萃取100公斤銅增加60升水。Cu2++2HR→2H++CuR2H++OH→H2Ol 反萃取原理（用高酸＞200g/L、H2SO4）：銅從有機(jī)溶液中被反萃進(jìn)入水相，有機(jī)相HR與硫酸銅分離又可返回萃取機(jī)中。CuR2+H2SO4→CuSO4+2HR。由于萃取過程放出H+（酸）而中和了蝕刻液的堿（OH）變成水，使蝕刻液體積增大、堿度降低，因此再生蝕刻液時(shí)須補(bǔ)加NH4Cl及氨水，即萃取出銅的蝕刻液經(jīng)補(bǔ)充蝕板鹽、穩(wěn)定劑和氨水后，再生為新鮮蝕刻液，回用于蝕刻工序。工藝流程簡介：l 恩達(dá)電路：恩達(dá)電路已建成完善的失效蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)和含銅廢液銅回收系統(tǒng)，失效蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)所產(chǎn)生的清洗水和蝕刻液增量通過含銅回收系統(tǒng)和低銅回收系統(tǒng)進(jìn)一步深度處理。對(duì)蝕刻后氨洗水工序產(chǎn)生的清洗水，恩達(dá)電路將其排入含銅廢水處理系統(tǒng)。恩達(dá)電路堿性蝕刻液再生及回用處理總工藝流程方框圖見圖12，堿性蝕刻液再生再生處理工藝流程方框圖見圖13。l 其它企業(yè)：除恩達(dá)電路外，其它安裝蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)的線路板企業(yè)均僅設(shè)堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)，未設(shè)含銅和低銅回收系統(tǒng)，堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用所產(chǎn)生的清洗水直接排入生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng)，蝕刻液增量作為危險(xiǎn)廢物委托處理，但部分企業(yè)直接排入生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng)。對(duì)蝕刻后氨洗水工序產(chǎn)生的清洗水，其它企業(yè)均將其納入堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)。其它企業(yè)萃?。娊夥ɑ厥绽脡A性蝕刻廢液和銅的工藝流程圖見圖14。l 恩達(dá)電路與其它企業(yè)堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)的特性比較：恩達(dá)電路與其它企業(yè)堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)的特性比較見表7。表7 恩達(dá)電路與其它企業(yè)堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)的特性比較一覽表序號(hào)項(xiàng)目堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)恩達(dá)電路其它企業(yè)1設(shè)備供應(yīng)商自行研制開發(fā)購買成套設(shè)備2設(shè)備外形比較粗、笨比較精、巧3占地面積相對(duì)較大相對(duì)較小4電解槽配置數(shù)量相對(duì)較多數(shù)量相對(duì)較少5蝕刻液增量處置方法進(jìn)含銅廢液回收系統(tǒng)作為危險(xiǎn)廢物委托處置或排入廢水處理站6蝕刻后氨水洗水處理進(jìn)含銅廢液回收系統(tǒng)并入再生回用系統(tǒng)7水洗水處理進(jìn)含銅廢液回收系統(tǒng)直接排入廢水處理站8萃取劑萃取劑存在差異9萃取溫度變化萃取后溫度有一定程度升高萃取后溫度基本沒有變化，溫升不明顯10反萃溫度變化均不明顯、主要生產(chǎn)設(shè)備萃取—電解方法回收利用系統(tǒng)實(shí)際由2個(gè)處理單元組成，第一個(gè)處理單元為萃取、反萃單元，生產(chǎn)設(shè)備包括萃銅反應(yīng)器、有機(jī)分離器；第二個(gè)處理單元為電解陰極沉銅單元，生產(chǎn)設(shè)備包括電解槽、再生母板器、取銅機(jī)。配套儲(chǔ)罐：包括儲(chǔ)罐、中轉(zhuǎn)罐、蝕刻液調(diào)配罐等。配套廢氣凈化塔：一般配套酸性廢氣噴淋凈化塔。車間儲(chǔ)槽（780噸/年）堿性蝕刻線廢水處理系統(tǒng)含銅回收系統(tǒng)車間儲(chǔ)槽提升泵水洗槽氨水洗槽蝕刻槽含銅回收系統(tǒng)氨水、氯化銨、穩(wěn)定劑蝕刻液增量（2噸/月）提升泵提升泵提升泵提升泵堿性蝕刻液再生系統(tǒng)噴淋凈化塔調(diào)配槽中間槽儲(chǔ)槽萃余液儲(chǔ)槽 電解槽分離槽 反萃 反應(yīng)槽 分離槽 水洗 反應(yīng)槽分離槽 萃取 反應(yīng)槽提升泵反萃劑循環(huán)槽萃取劑循環(huán)槽水洗水循環(huán)槽圖12 恩達(dá)電路堿性蝕刻液再生及回用處理總工藝流程方框圖萃取液失效蝕刻液儲(chǔ)槽 分離槽 分離槽 水洗 反應(yīng)槽 萃取 反應(yīng)槽提升泵提升泵萃取劑萃取劑循環(huán)槽含銅回收系統(tǒng)提升泵水洗水循環(huán)槽氨水（4L/月）自來水再生萃取劑廢氣凈化塔 分離槽 反萃 反應(yīng)槽電解槽富銅液反萃劑（硫酸167公斤/月）%銅提升泵反萃劑循環(huán)槽回收銅后電解液圖13 恩達(dá)電路堿性蝕刻液再生處理工藝流程方框圖萃取液失效蝕刻液儲(chǔ)槽 分離槽 分離槽 水洗 反應(yīng)槽 萃取 反應(yīng)槽提升泵提升泵廢水處理站提升泵蝕刻液調(diào)配系統(tǒng)萃取劑萃取劑循環(huán)槽水洗水循環(huán)槽氨水（4L/月）自來水再生萃取劑廢氣凈化塔%銅 分離槽 反萃 反應(yīng)槽電解槽富銅液回收銅后電解液提升泵反萃劑循環(huán)槽萃取反應(yīng)、分離槽氨水洗水儲(chǔ)槽反萃劑.清洗水回水洗槽含銅有機(jī)層圖14 一般線路板企業(yè)堿性蝕刻液再生處理工藝流程方框圖、主要生產(chǎn)原、輔材料廢蝕刻液、蝕板鹽、氨水、添加劑、萃取劑、硫酸。、主要工藝控制參數(shù)l 恩達(dá)電路：恩達(dá)電路失效堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參見表8。l 其它企業(yè)：其它企業(yè)以生利電子為典型代表，生利電子失效堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參見表9。表8 恩達(dá)電路堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參數(shù)一覽表流量控制流體種類失效蝕刻液稀氨水萃取劑反萃劑流量200升/小時(shí)200升/小時(shí)400升/小時(shí)600升/小時(shí)濃度控制液體種類失效蝕刻液再生蝕刻液（調(diào)配前）工作蝕刻液電解槽液控制指標(biāo)Cu2+、Cu+135~160g/l60~100g/l60~100g/l25~38g/lpH~~~CL200~300 g/l200~300g/l200~300g/l200mg/lH2SO4190~210g/lNH4+50~80g/lNH3130~150g/l400~730ml/l電流強(qiáng)度控制電解液中銅含量20g/l25~30g/l30~40g/l40g/l硫酸濃度190~210g/l190~210g/l190~210g/l190~210g/l電解電流500A800~1000A1000~1800A2000 A萃取劑吸銅量：15~20g/l表9 生利電子堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參數(shù)一覽表流量控制流體種類失效蝕刻液清洗水萃取劑反萃劑流量200177。10升/小時(shí)200177。10升/小時(shí)400177。10升/小時(shí)600177。50升/小時(shí)濃度控制液體種類失效蝕刻液再生蝕刻液（調(diào)配前）工作蝕刻液電解槽液控制指標(biāo)Cu2+、Cu+135~160g/l60~100g/l135~160g/l25~38g/lpH~~~CL170~190 g/l≥185g/l170~190g/l200mg/lH2SO4190~210g/lNH4+50~80g/lNH3130~150g/l400~730ml/l電流強(qiáng)度控制電解液中銅含量20g/l25~30g/l30~40g/l40g/l硫酸濃度190~210g/l190~210g/l190~210g/l190~210g/l電解電流500A800~1000A1000~1800A2000 A萃取劑吸銅量：15~20g/l、隔膜電解法、隔膜電解法的發(fā)展情況由長沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰?004年研發(fā)成功的堿性蝕刻液循環(huán)再生機(jī)采用隔膜電解法，最初使用的單位是湖南株洲電力機(jī)車研究所印制電路板廠，深圳使用的單位共2家，分別是深圳市博敏興電子有限公司和深圳順昌線路板廠，深圳市博敏興電子有限公司的設(shè)備已按環(huán)保主管部門要求停運(yùn)，順昌線路板廠年前將長沙綠銥環(huán)保科技有限公司的產(chǎn)品更換為萃取電解法蝕刻液再生回收設(shè)備。、隔膜電解法的工藝流程目前國內(nèi)提供隔膜電解法堿性蝕刻液循環(huán)再生機(jī)設(shè)備的僅有長沙綠銥環(huán)保科技有限公司。工藝原理簡介：本技術(shù)將膜分離技術(shù)和電沉積工藝相結(jié)合，將待處理廢蝕刻液置于一個(gè)受膜保護(hù)的區(qū)域內(nèi)，保護(hù)廢蝕刻液中的化學(xué)物質(zhì)不被破壞，同時(shí)其中的銅離子以金屬銅的形態(tài)方便回收，因而實(shí)現(xiàn)銅和其它化學(xué)物質(zhì)的選擇性無損分離；這種選擇性無損分離技術(shù)IEMEC在實(shí)現(xiàn)銅選擇性分離回收的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)對(duì)蝕刻有用的組份的回用。 工藝流程簡介：隔膜電解法回收利用堿性蝕刻廢液和銅的工藝流程圖見圖15。圖15 隔膜電解法回收利用堿性蝕刻廢液和銅的工藝流程圖、主要生產(chǎn)設(shè)備主體設(shè)備：蝕刻液循環(huán)再生機(jī)、整流器配套儲(chǔ)罐：包括儲(chǔ)罐、中轉(zhuǎn)罐、蝕刻液調(diào)配罐等。配套廢氣凈化塔：一般配套酸性廢氣噴淋凈化塔。、主要生產(chǎn)原、輔材料廢蝕刻液、蝕板鹽、氨水、添加劑。、主要工藝控制參數(shù)隔膜電解法主要工藝控制參數(shù)見表10。表10 隔膜電解法堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參數(shù)一覽表液體種類失效蝕刻液再生蝕刻液（調(diào)配前）控制指標(biāo)Cu2+55~60g/l70~80g/lCu+75~80g/l15~20g/lpH~~CL235~240g/l230~235g/lNH4+80~84g/l76~80g/l電解槽陰極區(qū)銅含量34~35g/l電解槽電壓電解電流密度150~250A/m2隔膜電解生產(chǎn)過程中蝕刻液中總銅含量顯著下降，其中二價(jià)銅離子含量增加，一價(jià)銅離子含量顯著降低，pH、CL、NH4+含量略有下降，pH、CL、NH4+含量下降主要受副反應(yīng)的發(fā)生。、再生蝕刻液主要工藝控制參數(shù)和使用特點(diǎn)隔膜電解法所得再生蝕刻液主要工藝控制參數(shù)和使用特點(diǎn)見表11。表11 隔膜電解法所得再生蝕刻液主要工藝控制參數(shù)和使用特點(diǎn)一覽表再生蝕刻液主要工藝控制參數(shù)再生蝕刻液主要使用特點(diǎn)序號(hào)項(xiàng)目數(shù)值序號(hào)項(xiàng)目數(shù)值1比重~1蝕刻速度～2堿含量~2可適用的抗蝕層金、鎳、錫、堿性油墨3銅離子≤5g/l3蝕銅量140～180g/L4氯離子160~180 g/l4側(cè)蝕因子≥、萃取—電解法與隔膜電解法的工藝特點(diǎn)比較采用