發(fā)酵過程控制ppt課件(編輯修改稿)
2025-06-02 18:06 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 劑 (NaOH、 HCl、 CaCO3)； ? 發(fā)酵過程中加入生理酸性或堿性基質(zhì) ， 通過代謝調(diào)節(jié) pH； 酸性基質(zhì)：銨鹽 、 糖 、 油脂 、 玉米漿 (脫 NH4＋ ) 堿性基質(zhì)： NO3－ 鹽 、 有機(jī)酸鹽 、 有機(jī)氮 、 氨水 、 尿素 原則 : ① 殘?zhí)歉邥r(shí) ， 不用糖調(diào) pH ② 殘 N高時(shí) ， 不用生理鹽調(diào) pH ? pH控制與代謝調(diào)節(jié)結(jié)合起來 ， 通過補(bǔ)料來控制 pH （ 1） 影響溶解氧 （ DO） 的因素 供氧 耗氧 ?兩大類 ?以關(guān)系式表示 ： ?影響供氧的因素 ： ?影響耗氧的因素 ： ? ? xQCCKO T RdtdC 2OLLaL ??????? ?C* CL 溫度、溶質(zhì)、溶劑、氧分壓 KLa 設(shè)備參數(shù)、操作參數(shù)、發(fā)酵液特性 菌種特性、培養(yǎng)基成分和濃度、菌齡、培養(yǎng)條件 （ T、 pH）、 代謝類型 γ （ 2）發(fā)酵過程中溶氧變化規(guī)律 ? 批式發(fā)酵無 DO控制情況下，溶氧變化規(guī)律為 “ 波谷現(xiàn)象 ” ?溶氧 、 x、 QO 隨時(shí)間變化的關(guān)系 CL x QO2 ?? 平衡點(diǎn)分析 ： ① 當(dāng) CL↑， 即 ， OTRγ ∵ ， ∴ OTR逐漸 ↓至 OTR=γ， 即 ， 高位平衡 當(dāng)處于高位平衡時(shí) ， 表明供氧性能好 。 高位平衡通常發(fā)生在正常情況的前 、 后期 。 ? ?LLa CCKO T R ?? ?0dtdC L ?? ? ???? ? O T R,CC,C LL0dtdC L ??平衡點(diǎn)分析 ： ② 當(dāng) CL↓（ 如對數(shù)生長期 γ 很大 ） ， ， OTRγ ∵ ， ∴ ， ， 稱低位平衡 。 低位平衡通常發(fā)生在正常情況下的對數(shù)期。 γO TR ?0dtdC L ?? ?LLa CCKO T R ?? ? ? ? ???? ? O T R,CC,C LL0dtdC L ?值得注意的幾點(diǎn) ? 自然 “ 波谷現(xiàn)象 ” ， 一般可以自適應(yīng)調(diào)節(jié) （ ） ? 當(dāng) ， 則需要控制 ， 增加 OTR， 防止需氧受阻 。 ? 補(bǔ)料與 “ 波谷現(xiàn)象 ” 對應(yīng)：即補(bǔ)料時(shí)間 、 劑量選擇與溶氧變化有關(guān) 。 a. 不能在波谷時(shí)補(bǔ)料 ， 加重缺氧 b. 一次補(bǔ)料不能過量 ， 防止 ， 菌體停止呼吸 、 死亡 。 ?? O T R,C LCrL CC ?CrL CC ?? （ 1）溶解氧對生長的影響 ? 臨界氧濃度 （ CCr） ： ? 當(dāng) 時(shí) , ? 當(dāng) 時(shí) , ∴ 對生長應(yīng)滿足 , 但并不是越高越好 CrL CC ? ? ?m2O2O ?CrL CC ? ? ?
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