【文章內(nèi)容簡介】 解） 第七節(jié) 常用的氧化還原滴定法 ? 三、碘量法 （一）概述： 利用單質(zhì)碘的弱氧化性和碘離子的中等強(qiáng)度還原性進(jìn)行滴定分析的方法。 ? I2溶液配制：用 KI溶液配制，形成 I3 ，可減少 I2揮發(fā)性和增加 I2的溶解度 。 ? 碘量法的誤差來源： 1單質(zhì)碘的揮發(fā)， 2碘離子被空氣氧化。為防止 I2揮發(fā)，采取措施： 1加入過量 KI使之生成 I3 ， 2反應(yīng)在室溫和帶玻塞的碘瓶中進(jìn)行， 3反應(yīng)完馬上滴定，滴定時(shí)不要?jiǎng)×覔u動(dòng)溶液。防止 I被空氣氧化的措施：酸度不宜過高，析出 I2反應(yīng)在暗處進(jìn)行，滴定時(shí)速度快些。 第七節(jié) 常用的氧化還原滴定法 （二）碘量法的滴定方式及其應(yīng)用 （碘滴定法） ? 利用單質(zhì) I2的弱氧化性還原一些還原能力較強(qiáng)的物質(zhì)； ? 在酸性、中性、弱堿性介質(zhì)中進(jìn)行滴定不能在 pH11進(jìn)行，否則會(huì)發(fā)生歧化。 ? 標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制和標(biāo)定： I2 +KI(過量 )，用 Na2S2O3 （掌握）和三氧化砷基準(zhǔn)物質(zhì)標(biāo)定。 （滴定碘量法 ） ? 利用 I 的中等強(qiáng)度還原性測定氧化性物質(zhì)； ? 可先使氧化物與過量 KI反應(yīng)析出 I2 ，然后用硫代硫酸鈉滴定 I2 。 第七節(jié) 常用的氧化還原滴定法 ? 用間接碘量法測定氧化物時(shí)，應(yīng)注意： 1. 必須加入過量 34倍的 KI，加快反應(yīng)速度，是氧化物反應(yīng)完全，同時(shí)使析出的 I2與 I生成可溶性 I3 。 2. 反應(yīng)置于暗處進(jìn)行，防止空氣的氧化作用，析出 I2后，應(yīng)馬上用 Na2S2O3滴定，減少 I2的揮發(fā)和 I被空氣氧化。淀粉指示劑近終點(diǎn)時(shí)加入，為什么？ 3. 滴定反應(yīng)酸度控制非常重要，在中性或弱酸性下進(jìn)行，可防止 I2歧化。強(qiáng)酸性下， Na2S2O3分解。 第七節(jié) 常用的氧化還原滴定法 ? Na2S2O3溶液的配制和標(biāo)定（了解）：用新煮沸并冷卻得蒸餾水，可除去 CO3和 O2并殺死細(xì)菌，同時(shí)加入抑制細(xì)菌生長。配好的溶液放于棕色瓶儲(chǔ)藏。標(biāo)定用重鉻酸鉀。 ? 間接碘量法應(yīng)用： 1. 銅合金中銅的測定： 1溶解樣品－ 2加入 KI(作用？ )－ 3析出 I2用 Na2S2O3滴定－ 4近終點(diǎn)是加入 NH4SCN(為什么？作用？ )，和指示劑。另加入 NH4HF2緩沖溶液的目的。此時(shí)最好以純銅標(biāo)定 Na2S2O3 。 2. 葡萄糖酸含量測定（自學(xué)了解） 第七節(jié) 常用的氧化還原滴定法 ? 四、其它氧化還原滴定法（自學(xué)了解 ? 作業(yè)： P253254:2,4,6,9 Nernst 方程式 ? ?標(biāo)志氧化（還原）劑的強(qiáng)弱 ? ? ?越大，氧化態(tài)是越強(qiáng)的氧化劑 ? ? ?越小，還原態(tài)是越強(qiáng)的還原劑 ( O x )( O x / Re d ) ( O x / Re d ) lg( Re d )ana?? ??25℃ 時(shí) : ? ?(標(biāo)準(zhǔn)電位） .與溫度 t有關(guān) . ( Ox )( Ox / R e d ) ( Ox / R e d ) ln( R e d )RT an F a?? ??? ? a(Ox)=[Ox]?(Ox), a(Red)=[Red]?(Red) ? ?(標(biāo)準(zhǔn)電位） a(Ox)=a(Red) =1時(shí)， ? ?? ? 0 .0 5 9lg( O x )( Re d )aan?? ??? ? c (濃度電位） ( Re d ) [ Re d ] 9 ( O x ) [ O x ]9lg lgnn??? ?? ? ?? 一般可知氧化劑和還原劑的分析濃度 c ? ??(條件電位） OxRC ed( R e d )0 . 0 5 9 0 . 0 5 ( O x9lg)lgccnn????? ? ?? c (濃度電位） ( Re d ) [ Re d ] 9 ( O x ) [ O x ]9lg lgnn??? ?? ? ?? ? ?(標(biāo)準(zhǔn)電位） 若有副反應(yīng)發(fā)生： 決定條件電位的因素 1. 離子強(qiáng)度的影響 I ? ?? 3 4 66( F e ( C N ) /Fe ( C N ) ) = 0 . 3 5 5 V?? 9 [ O x ]lRg[ e d ]n?? =+即 : ()?? ?實(shí)際計(jì)算中，忽略離子強(qiáng)度的影響 c ? ? 2. 生成絡(luò)合物的影響 Fe3+/ Fe2+的條件電位 ??(Fe3+/Fe2+) = V 氧化態(tài)形成的絡(luò)合物更穩(wěn)定，結(jié)果是電位降低 . HF H3PO4 H2SO4 HCl HClO4 介質(zhì) ( 1 molL 1) ?? 32( F e / F e )? ??與 Fe3+的絡(luò)合作用增強(qiáng) 特例 ：鄰二氮菲 (ph ) lg? (Fe(ph)33+)= ， lg? (Fe(ph)32+)= 3+ 1242+( F e /F e ) = 1 . 0 6 V ( 1 m o l L H SO )? ?? 已知 ： 例 1 碘量法測 Cu2+, 樣品中含 Fe3+. 計(jì)算 pH=, [F?]=L1時(shí)的 , 能否消除 Fe3+的干擾 ? 3 + 2 +( F e /F e )? ?? 3 + 2 + 2( F e / F e ) = 0 . 7 7 V , ( I / I ) = 0 . 5 4 V??FeF3的 lg?1～ lg?3 為 、 、 lgKH(HF)= *(I=) ? ? 2 31 2 32+3+7 .7F e )F)(F e (F== 1 + [ F ] + [ F ] + [ F ]11=0? ? ???+HF( H )0 . 4 1 . 4 1 F( H )= 1 + [ H ] ( H F) = 1 0[ F ] = [ F ] / = 1 0 m o l LK??? ?Fe3+不再氧化 I， Fe3+ 的干擾被消除 . 解 : 22+3 + 2 + 3 + 2 + Fe3+Fe( F e /F e ) = ( F e /F e ) + 0 .0 5 9 lg= 0 .7 7 = 0 .3 2 0 .0 5 9 7 .7 0 .5 4 V = ( I / )V I???????? ? ? (改變濃度比值 ) Ox , ? ?? 。 Red , ? ?? . 例 : ? ?(Ag+/Ag) = V, 1molL1HCl中 , AgCl , ? ?? = Ag為強(qiáng)還原劑 ( 銀還原器 ) 例 2 計(jì)算 25℃ ,KI 濃度為 1molL1 時(shí)， Cu2+/Cu+電對的條件電位 .（忽略離子強(qiáng)度的影響） 解： 已知 22+2 C u + 4 I = 2 C u I + I?