半導(dǎo)體制造工藝課件(ppt98頁)-閱讀頁
2025-03-11 12:21本頁面
【正文】 化圖形隔離技術(shù)lPN結(jié)隔離l場區(qū)隔離l絕緣介質(zhì)隔離l溝槽隔離PN結(jié)隔離工藝絕緣介質(zhì)隔離工藝LOCOS隔離工藝LOCOS隔離工藝溝槽隔離工藝接觸與互連l Al是目前集成電路工藝中最常用的金屬互連材料 , 但 Al連線也存在一些比較嚴重的問題l 電遷移嚴重、電阻率偏高、淺結(jié)穿透等l Cu連線工藝有望從根本上解決該問題l IBM、 Motorola等已經(jīng)開發(fā)成功l 目前，互連線已經(jīng)占到芯片總面積的 70～ 80%；且連線的寬度越來越窄，電流密度迅速增加l幾個概念l 場區(qū)l 有源區(qū)l柵結(jié)構(gòu)材料l Al二氧化硅結(jié)構(gòu)l 多晶硅 二氧化硅結(jié)構(gòu)l 難熔金屬硅化物 /多晶硅 二氧化硅結(jié)構(gòu)l Salicide工藝l 淀積多晶硅、刻蝕并形成側(cè)壁氧化層；l 淀積 Ti或 Co等難熔金屬l RTP并選擇腐蝕側(cè)壁氧化層上的金屬；l 最后形成 Salicide結(jié)構(gòu)封裝工藝流程各種封裝類型示意圖 半導(dǎo)體工藝小結(jié)l前工序l 圖形轉(zhuǎn)換技術(shù)：主要包括光刻、刻蝕等技術(shù)l 薄膜制備技術(shù)：主要包括外延、氧化、化學(xué)氣相淀積、物理氣相淀積 (如濺射、蒸發(fā) ) 等l 摻雜技術(shù)：主要包括擴散和離子注入等技術(shù) 半導(dǎo)體工藝小結(jié)l后工序l劃片l封裝l測試l老化l篩選 半導(dǎo)體工藝小結(jié)l輔助工序l超凈廠房技術(shù)l超純水、高純氣體制備技術(shù)l光刻掩膜版制備技術(shù)l材料準備技術(shù)l 靜夜四無鄰，荒居舊業(yè)貧。 04:50:5504:50:5504:502/1/2023 4:50:55 AMl 1以我獨沈久，愧君相見頻。 04:50:5504:50:5504:50Monday, February 01, 2023l 1乍見翻疑夢，相悲各問年。 01 二月 20234:50:55 上午 04:50:55二月 21l 1比不了得就不比，得不到的就不要。 二月 214:50 上午 二月 2104:50February 01, 2023l 1行動出成果，工作出財富。 4:50:55 上午 4:50 上午 04:50:55二月 21l 沒有失敗，只有暫時停止成功！。 04:50:5504:50:5504:502/1/2023 4:50:55 AMl 1成功就是日復(fù)一日那一點點小小努力的積累。 04:50:5504:50:5504:50Monday, February 01, 2023l 1不知香積寺，數(shù)里入云峰。 01 二月 20234:50:55 上午 04:50:55二月 21l 1楚塞三湘接，荊門九派通。 二月 214:50 上午 二月 2104:50February 01, 2023l 1少年十五二十時，步行奪得胡馬騎。 4:50:55 上午 4:50 上午 04:50:55二月 21l 楊柳散和風(fēng)，青山澹吾慮。 04:50:5504:50:5504:502/1/2023 4:50:55 AMl 1越是沒有本領(lǐng)的就越加自命不凡。 04:50:5504:50:5504:50Monday, February 01, 2023l 1知人者智，自知者明。 二月 21二月 2104:50:5504:50:55February 01, 2023l 1意志堅強的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 二月 214:50 上午 二月 2104:50February 01, 2023l 1業(yè)余生活要有意義，不要越軌。 4:50:55 上午 4:50 上午 04:50:55二月 21MOMODA POWERPOINTLorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Fusce id urna blandit, eleifend nulla ac, fringilla purus. Nulla iaculis tempor felis ut cursus. 感謝您的下載觀看專 家告 訴
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