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納米材料導(dǎo)論納米粒子制備方法(參考版)

2024-10-21 18:58本頁(yè)面
  

【正文】 等離子體法制備納米粒子的基本原理: 等離子體法制備納米粒子的主要過程: ? 實(shí)驗(yàn)裝置 :主要包括等離子體發(fā)生裝置、反應(yīng)裝置、冷卻裝置、收集裝置和尾氣處理裝置 ? 相應(yīng)的制備過程主要有: 等離子體產(chǎn)生、原料蒸發(fā)、化學(xué)反應(yīng)、冷卻凝聚、粒子捕集和尾氣處理等過程 γ射線輻照法 常溫下采用 γ射線輻照金屬鹽的溶液可以制備出納米微粒 金屬 產(chǎn)物 溶液 輻照 劑量 平均 粒徑( nm) Cu +++(CH3)2CHOH 16 Ni +NH3H2O++(CH3)2CHOH 8 Pd ++(CH3)2CHOH 10 Cd +(NH4)2SO4+1mol/L NH3H2O++(CH3)2CHOH 20 Au +Pt ++ mol/L(CH3)2CHOH 4 Sn ++(CH3)2CHOH 20 Pb (CH3COO)2++ mol/L(CH3)2CHOH 45 Co +++ mol/L(CH3)2CHOH 22 。 實(shí)例: 激光誘導(dǎo)氣相合成 Fe/ C/ Si超微粒子 ? 原料 SiH C2H Fe(CO)5 ? 能量吸收過程: SiH4 → SiH4* (活化態(tài) ) C2H4 → C2H4* (活化態(tài) ) ? 能量將發(fā)生轉(zhuǎn)移和均化: SiH4* +Fe(CO)5 → Fe(CO)5*(活化態(tài) ) + SiH4 C2H4 * + Fe(CO)5 → Fe(CO)5* (活化態(tài) ) + C2H4 SiH4* + C2H4 → C2H4* (活化態(tài) ) + SiH4 反應(yīng)氣體分子的解離,即 Fe(CO)5*→ Fe * + 5CO SiH4*
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