納米材料導(dǎo)論納米粒子制備方法(完整版)
【正文】 對(duì)照射激光光子具有選擇吸收性。 氣體中通常都含有微量的雜質(zhì)氧和吸附水，這些雜質(zhì)在合成反應(yīng)進(jìn)行前應(yīng)予以除去，否則會(huì)混雜于產(chǎn)品中，或影響合成反應(yīng)進(jìn)行。(儀器的調(diào)整 ) ? 其次，要作好反應(yīng)室凈化處理，即進(jìn)行抽真空準(zhǔn)備，同時(shí)充人高純惰性保護(hù)氣體。 如 SiH C2H4對(duì) C02激光光子都具有較強(qiáng)的吸收，相應(yīng)吸收系數(shù)是氣氛壓力的函數(shù)。 例如用連續(xù)輸出的 CO2激光輻照硅烷氣體分子(SiH4)時(shí)，硅烷分子很容易熱解 : ? 激光制備納米粒子裝置一般有兩種類(lèi)型：正交裝置和平行裝置 ． 其中 正交裝置 使用方便 ， 易于控制 ， 工程實(shí)用價(jià)值大 ． 激光加熱速率為 106108 ℃ ／ S 加熱到反應(yīng)最高溫度的時(shí)間小于 104S 被加熱的反應(yīng)氣流將在反應(yīng)區(qū)域內(nèi)形成穩(wěn)定分布的火焰，火焰中心處的溫度一般遠(yuǎn)高于相應(yīng)化學(xué)反應(yīng)所需要的溫度，因此反應(yīng)在 103s內(nèi)即可完成。 為了保證化學(xué)反應(yīng)所需要的能量，需要選擇對(duì)入射激光具有強(qiáng)吸收的反應(yīng)氣體 為了保證反應(yīng)生成的核粒子快速冷凝，獲得超細(xì)的粒子，需要采用 冷壁反應(yīng)室 ?種類(lèi)： 水冷式反應(yīng)器壁，透明輻射式反應(yīng)器壁。 如 NH3屬于堿性氣體，應(yīng)考慮使用堿性脫水劑除去其中的水分，否則純化過(guò)程中會(huì) 引發(fā)某些化學(xué)反應(yīng) ，大大降低 NH3原料的利用率。 ? 反應(yīng)氣配比 是一個(gè)關(guān)鍵性因素。 等離子體法制備納米粒子的基本原理： 等離子體法制備納米粒子的主要過(guò)程： ? 實(shí)驗(yàn)裝置 :主要包括等離子體發(fā)生裝置、反應(yīng)裝置、冷卻裝置、收集裝置和尾氣處理裝置 ? 相應(yīng)的制備過(guò)程主要有： 等離子體產(chǎn)生、原料蒸發(fā)、化學(xué)反應(yīng)、冷卻凝聚、粒子捕集和尾氣處理等過(guò)程 γ射線(xiàn)輻照法 常溫下采用 γ射線(xiàn)輻照金屬鹽的溶液可以制備出納米微粒 金屬 產(chǎn)物
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