【正文】 分，否則純化過(guò)程中會(huì) 引發(fā)某些化學(xué)反應(yīng) ，大大降低 NH3原料的利用率。 例如用連續(xù)輸出的 CO2激光輻照硅烷氣體分子(SiH4)時(shí)，硅烷分子很容易熱解 : ? 激光制備納米粒子裝置一般有兩種類(lèi)型：正交裝置和平行裝置 ． 其中 正交裝置 使用方便 ， 易于控制 ， 工程實(shí)用價(jià)值大 ． 激光加熱速率為 106108 ℃ ／ S 加熱到反應(yīng)最高溫度的時(shí)間小于 104S 被加熱的反應(yīng)氣流將在反應(yīng)區(qū)域內(nèi)形成穩(wěn)定分布的火焰，火焰中心處的溫度一般遠(yuǎn)高于相應(yīng)化學(xué)反應(yīng)所需要的溫度，因此反應(yīng)在 103s內(nèi)即可完成。(儀器的調(diào)整 ) ? 其次，要作好反應(yīng)室凈化處理，即進(jìn)行抽真空準(zhǔn)備，同時(shí)充人高純惰性保護(hù)氣體。 3．激光誘導(dǎo)氣相化學(xué)反應(yīng)合成納米粒子機(jī)制描述 反應(yīng)氣體對(duì)照射激光光子具有選擇吸收性。 反應(yīng)氣 預(yù)混合 ? 可以使各路反應(yīng)氣體分子在 分子水平上 達(dá)到均勻化混合，為高溫氣相化學(xué)反應(yīng)創(chuàng)造條件。這類(lèi)激光器的光束經(jīng)透鏡聚焦后，功率密度可以達(dá)到 103— 104W／ cm2，完全能夠滿足激光誘導(dǎo)氣相化學(xué)反應(yīng)合成各類(lèi)納米粒子的要求。 對(duì)某些有機(jī)硅化合物和羰基鐵一類(lèi)的物質(zhì)，它們對(duì) C02激光無(wú)明顯的吸收。 反應(yīng)氣進(jìn)行 預(yù)熱 處理 ? 為了提高反應(yīng) 氣體的利用率 ，從而提高反應(yīng)收率。 實(shí)例： 激光誘導(dǎo)氣相合成 Fe／ C／ Si超微粒子 ? 原料 SiH C2H Fe(CO)5 ? 能量吸收過(guò)程： SiH4 → SiH4* (活化態(tài) ) C2H4 → C2H4* (活化態(tài) ) ? 能量將發(fā)生轉(zhuǎn)移和均化： SiH4* +Fe(CO)5 → Fe(CO)5*(活化態(tài) ) + SiH4 C2H4 * + Fe(CO)5 → Fe(CO)5* (活化態(tài) ) + C2H