【總結】第五章物理氣相淀積物理氣相淀積—PVD(physicalvapordeposition)—利用某種物理過程(蒸發(fā)或濺射),實現(xiàn)物質的轉移,即原子或分子由源轉移到襯底(硅)表面上,淀積成薄膜。淀積特點:物理過程技術:①真空蒸發(fā):優(yōu)點:淀積速率較高,相對高的真空度,薄膜質量較好缺點:臺階覆蓋能力差,淀積
2025-05-12 12:31
【總結】CH3微系統(tǒng)科技的技巧微技術?微小化及機體化的技術、主要結合微電子學與傳統(tǒng)感覺器和致動器之技術經(jīng)修正來滿足MST的特殊需求:(構成毫微米和微米及薄層)(構成3D立體構造)(製造平面微小光學元件)(在耦合、導引及解偶合)(力量、移動、輸送)層技術?指生產(chǎn)微
2025-05-06 03:48
【總結】第六章沉積環(huán)境和沉積相第一節(jié)概述一、沉積環(huán)境、沉積相的定義1、沉積環(huán)境:在物理上、化學上和生物上均有別于相鄰地區(qū)的一塊地球表面。2、鑒別沉積環(huán)境:A物理方面:介質性質、流體流動性質、水體密度、水深等;B化學方面:沉積介質的PH、EH、鹽度等;C生物方面:動物和植物
2025-05-15 06:51
【總結】第三節(jié)河流相一.概述河流的分類?(Rust,1978)的劃分方案:?標準:河道分叉參數(shù):〈1單河道〉1多河道?彎曲
2025-04-29 13:28
2025-05-01 05:25
【總結】10氣相沉積技術教學目的和要求學習蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜、化學氣相沉積等氣相沉積技術的基本原理、主要特點、常見方法(技術種類),薄膜的形成過程等。重點掌握各種氣相沉積技術的基本原理、主要特點。參考書:楊邦朝、王文生,薄膜物理與技術,電子科技大學出版社,1994前言一、薄膜材料的定義
2025-05-12 04:31
【總結】化學氣相沉積ChemicalVaporDeposition,CVD主要內(nèi)容:?CVD的基本原理?CVD的特點?CVD方法?CVD的現(xiàn)狀和展望一、CVD的基本原理化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)利用氣態(tài)物質在一固體表面上進行化學反應,生成固態(tài)沉積物
2025-05-06 12:13
【總結】磁控濺射鍍膜及其應用曹達華QQ:36496431MSN:濺射原理濺射原理1
2025-04-30 01:29
【總結】第一講第一章薄膜的形成《薄膜材料物理》研究生課程參考教材:?薄膜物理,曲喜新編著,上??茖W技術出版社1986,上海?薄膜物理,薛增泉、吳全德、李潔,電子工業(yè)出版社,1991,北京第一講第一章薄膜的形成課程主要內(nèi)容?第一章:薄膜的形成?第二章:薄膜的力學性質
2025-01-07 07:51
【總結】第三講第二章薄膜的力學性質第二章薄膜的力學性質第三講薄膜的主要力學性能:附著性質—由薄膜成長的初始階段內(nèi)應力機械性能第三講第二章薄膜的力學性質§薄膜的附著性質(重要)理論上—需對結合界的了解。使用上—決定了薄膜元器件的穩(wěn)定性
2025-01-08 12:31
【總結】油氣田地下地質學subsurfaceGeologyofOilandGasFields第二章油層對比及細分沉積相StratigraphicCorrelationAndDivisionofSedimentaryMicrofacies地層劃分(stratigraphicdivision)是將油田
2025-04-29 05:07
【總結】磁控濺射鍍膜及其應用博士精密機械技術研發(fā)處濺射原理濺射原理1.先讓惰性氣體(通常為Ar氣)產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象產(chǎn)生帶電的離子;2.帶電離子經(jīng)電場加速后撞擊靶材表面,使靶材原子被轟擊而飛出來,同時
2025-03-21 03:12
【總結】ChemicalVaporDeposition化學氣相沉積WhatistheDeposition?GasLiquidSolidCondensationVaporization1、基本介紹?氣相沉積技術:?化學氣相沉積法(ChemicalVaporDeposition
2025-01-14 09:49
【總結】第二部分碎屑巖沉積學與沉積相?碎屑巖巖石學?沙漠?沖積扇與扇三角洲體系?河流體系?三角洲體系第一章碎屑巖巖石學一、碎屑巖的分類、組成及結構:四大組成、砂巖結構與膠結類型碎屑巖的組成1、碎屑顆粒(ClasticGrain):包括各種礦物顆粒和巖屑,如長石、石英、云母、重礦物顆粒、巖屑等。2、基質(Matrix):與碎屑顆
2025-04-17 00:11