【導(dǎo)讀】集成電路設(shè)計與制造的主要流程框架。半導(dǎo)體器件物理基礎(chǔ):包括PN結(jié)的物理機(jī)制、雙極管、電路的制備工藝:光刻、刻蝕、氧化、離子注入、擴(kuò)散、掌握正確的設(shè)計方法,可以以不變應(yīng)萬變,(相對分立器件組成的電路而。根據(jù)電路功能和性能的要。集成電路設(shè)計的最終輸出是掩膜版圖,通過制版。和工藝流片可以得到所需的集成電路。IC設(shè)計特點(diǎn)及設(shè)計信息描述。典型的布圖設(shè)計方法及可測性設(shè)計技術(shù)。對設(shè)計正確性提出更為嚴(yán)格的要求。分層分級設(shè)計和模塊化設(shè)計。高度復(fù)雜電路系統(tǒng)的要求。一般來說,級別越高,抽象程度越高;級別越低,細(xì)節(jié)越。一組相互套合的圖形,各層版圖相。需要較多的人工干預(yù)。某些設(shè)計階段無自動設(shè)計軟件,通過模擬分析軟。各級設(shè)計需要驗(yàn)證。經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計、并通過設(shè)計規(guī)則檢查和反復(fù)工藝驗(yàn)證,藝制備,可達(dá)到最大的成品率。