【導讀】集成電路設計與制造的主要流程框架。半導體器件物理基礎:包括PN結(jié)的物理機制、雙極管、電路的制備工藝:光刻、刻蝕、氧化、離子注入、擴散、掌握正確的設計方法,可以以不變應萬變,(相對分立器件組成的電路而。根據(jù)電路功能和性能的要。集成電路設計的最終輸出是掩膜版圖,通過制版。和工藝流片可以得到所需的集成電路。IC設計特點及設計信息描述。典型的布圖設計方法及可測性設計技術(shù)。對設計正確性提出更為嚴格的要求。分層分級設計和模塊化設計。高度復雜電路系統(tǒng)的要求。一般來說,級別越高,抽象程度越高;級別越低,細節(jié)越。一組相互套合的圖形,各層版圖相。需要較多的人工干預。某些設計階段無自動設計軟件,通過模擬分析軟。各級設計需要驗證。經(jīng)過優(yōu)化設計、并通過設計規(guī)則檢查和反復工藝驗證,藝制備,可達到最大的成品率。