玻璃深加工設(shè)備(編輯修改稿)
2025-03-22 16:23 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 排列的滾刷。兩個(gè)毛刷相對(duì)旋轉(zhuǎn)，玻璃從他們中間通過(guò)。滾刷的長(zhǎng)度應(yīng)當(dāng)略大于玻璃片的最大寬度。刷毛的直徑在 ～，旋轉(zhuǎn)速度大約為 680r/min。如圖。 該設(shè)備包括一排清洗區(qū)。每個(gè)清洗區(qū)都裝備著一對(duì)滾刷和一些噴嘴，這些噴嘴分布在位于玻璃上下表面處的兩個(gè)水管上。同樣，噴淋寬度也應(yīng)該略大于玻璃片的寬度。玻璃片由傳動(dòng)輥來(lái)傳送：在垂直傳送設(shè)備中垂直地成對(duì)排列，水平傳送設(shè)備中則水平地成行排列。 4 玻璃熱彎設(shè)備 平板玻璃彎曲工藝比較簡(jiǎn)單：把切割好尺寸大小的玻璃，放置在根據(jù)彎曲弧度設(shè)計(jì)的模具上，放入加熱爐中，加熱到軟化溫度，使玻璃軟化，然后退火，即可制成熱彎玻璃。 熱彎玻璃的生產(chǎn)可以是半連續(xù)生產(chǎn)或間歇生產(chǎn)；半連續(xù)生產(chǎn)一般是在隧道式窯爐中進(jìn)行：帶滾輪的模具放置在鋼軌上，把切好的平板玻璃放在模具上，推進(jìn)隧道窯預(yù)熱（預(yù)熱時(shí)間以玻璃不炸裂為準(zhǔn)），后面的模具把前面的推入軟化區(qū)（溫度為 800～ 900℃ ），依次進(jìn)入退火（ 550～ 570℃ ）、冷卻、最后作為成品（ 40～ 50℃ ）從另一端推出，隧道窯產(chǎn)量大，但退火質(zhì)量較差，再處理時(shí)破碎率高； 間歇式生產(chǎn)一般在間歇式窯爐內(nèi)進(jìn)行：把切好的原片放置到模具上，然后灑上一層隔離劑，再放上另一片玻璃，依次可放上其他原片（最多 10片），放入間歇窯中，封閉窯門，開(kāi)始升溫至 900 ℃ 左右，停止加熱，讓玻璃隨爐冷卻，同時(shí)進(jìn)行退火。一個(gè)周期一般要 24h。間歇式生產(chǎn)產(chǎn)量小，玻璃表面可能出現(xiàn)麻點(diǎn)（隔離劑引起的），但玻璃的應(yīng)力較小，再處理時(shí)破碎率低。 熱彎玻璃可以使用電加熱 5 玻璃鋼化設(shè)備 采用將玻璃加熱，然后迅速冷卻的方法，以增加玻璃的機(jī)械強(qiáng)度和熱穩(wěn)定性的方法稱為物理鋼化法。由于采用了加熱及吹風(fēng)冷卻，通常稱之為熱鋼化法或風(fēng)鋼化法。 用化學(xué)方法改變玻璃表面組分，以增加玻璃的機(jī)械強(qiáng)度和熱穩(wěn)定性的方法稱為化學(xué)鋼化法。由于它是通過(guò)離子交換使玻璃增強(qiáng)，又稱為離子交換法。 物理鋼化法根據(jù)生產(chǎn)過(guò)程中玻璃的支撐辦法又可分為垂直吊掛法 〔 垂直法 )、水平法、水平支持法 (自重法 〕 、氣墊法等。 化學(xué)鋼化法根據(jù)變換離子的類型及離子交換處理的溫度又可分為低于轉(zhuǎn)變點(diǎn)溫度的離子交換法及高于轉(zhuǎn)變點(diǎn)溫度的離子交換法。 水平法是玻璃在水平狀態(tài)進(jìn)行輸送、加熱、成型、淬冷等工藝過(guò)程生產(chǎn)鋼化玻璃的方法。根據(jù)配備的設(shè)備，可生產(chǎn)平面、單彎、雙曲面彎、雙折板等品種的鋼化玻璃。本法有多種類型的生產(chǎn)線。常用的為 水平輥道往復(fù)式平鋼化玻璃生產(chǎn)線。 生產(chǎn)能力計(jì)算 鋼化玻璃生產(chǎn)線的生產(chǎn)能力取決于加熱爐的生產(chǎn)能力，加熱爐的生產(chǎn)能力按下式計(jì)算 : 式中 A— 加熱爐爐膛面積 s— 所生產(chǎn)玻璃的厚度，以 mm計(jì)，因次不計(jì)入計(jì)算結(jié)果 。 n1— 每天工作班數(shù) (班 )。 n2— 每年工作天數(shù) (d)。 ?1— 裝載系數(shù)，垂直法為 50% 70%，水平法為 50% 70%。 ?2時(shí)間利用系數(shù) (%)。 根據(jù)各種加熱爐長(zhǎng)期生產(chǎn)實(shí)際經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，每 1 mm厚度玻璃所需的加熱時(shí)間為 40s。每班工作 8h，當(dāng)一班或兩班生產(chǎn)時(shí)，上班后需將加熱爐從保溫溫度升至工作溫度，要除去這些非生產(chǎn)時(shí)間。 6 玻璃的表面處理設(shè)備（鍍膜玻璃） 如果在平板玻璃上鍍膜，這種膜必須具有以下特點(diǎn)： 與平板玻璃的性能兼容； 膜層材料的可用性以及實(shí)現(xiàn)工業(yè)規(guī)模的鍍膜設(shè)備所要求的工藝過(guò)程的可能性； 在大面積表面上形成足夠平坦的膜層的可行性； 控制膜層厚度的可操作性； 達(dá)到適當(dāng)?shù)腻兡に俣鹊哪芰Γ? 經(jīng)濟(jì)生存能力； 環(huán)保性。 這些要求在很大程度上限制了可使用的鍍膜技術(shù)的數(shù)量。 當(dāng)前，在平板玻璃上采用的薄膜技術(shù)可以分為： 真空工藝，也就是平常所說(shuō)的物理氣相沉積。 Physical Vapor Deposition 化學(xué)工藝，也就是平常所說(shuō)的化學(xué)氣相沉積。 Chemical vapor deposition 化學(xué)鍍膜法是將銀氨溶液和還原液噴灑到玻璃表而后產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成膜層，膜都是金屬膜 。其化學(xué)沉積法產(chǎn)品的類型是硅膜，凝膠法是氧化物膜和金屬膠體膜。 磁控濺射 濺射原理如下 :磁控濺射是在濺射裝置中設(shè)置磁場(chǎng)以控制電子運(yùn)動(dòng)方向，束縛電子運(yùn)動(dòng)軌跡，從而提高工作氣體的電離幾率和有效地利用電子能量，提供大量的轟擊靶材的正離子，形成高密度的等離子區(qū)，由于正離子轟擊靶材而產(chǎn)生濺射，濺射粒子的中性靶原子在基片上沉積
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