制絨原理及相應問題的對策(編輯修改稿)
2025-05-26 05:05 本頁面
【文章內容簡介】 等離子體刻蝕 等離子體法刻蝕形貌圖 怎樣是“好”的金字塔 ?布滿整個硅片表面 ?小而均勻 Low density texture High density texture 怎樣得到“好”的金字塔 兩個方面實現： ? 提高硅片表面的浸潤能力，如添加 IPA或者把硅片進行酸或堿的腐蝕。 ? 減少溶液的張力，如添加添加劑。添加劑有很多極性或非極性的功能團來降低腐蝕液表面的張力。 關鍵：降低硅片表面 /溶液的界面能 增加反應速度 減緩反應速度 不影響反應速度 添加劑作用 工業(yè)制絨常見問題及對策 影響絨面均勻性的因素： ? 原始硅片表面均勻性 ? 反應溶液均勻性 工藝控制方法 增加 IPA 雨點狀斑點 斑點 白 斑 絨面沒有制滿 減少 NaSiO3 或加大 NaOH 水印 硅酸鈉過量 噴林效果不理想 黑斑 硅酸鈉附著 沒有及時清洗 (堿腐蝕后暴露空氣時間過長 ) 云霧狀白斑 硅片沾污 手指印 脂肪酸沾污 預清洗 硅片表面沾污的來源 ?硅片有手指印，在清洗前看不見，但是清洗后卻清晰可見； ?硅片切割后清洗工藝中的有機物沾污； ? 硅片表面的碳沾污； ?硅片切割時潤滑劑的粘污。如果潤滑劑過粘，會出現無法有效進入刀口的現象，如潤滑劑過稀則冷卻效果不好。這些潤滑劑在高溫下有可能碳化粘附在硅片表面。 ?硅片經過熱堿處理后提出在空氣中，時間過長會與空氣中的氧反應形成一層氧化層，這層氧化層一旦形成就很難再清洗下去了。因此，在堿清洗后不能在空氣中暴露 12秒以上。 表面油脂貨攤沾污的結果 ? 減緩去損傷層的量 ? 無法形成織構化的成核 ? 表面織構化無法形成 制絨注意事項 ? 加強制絨前硅片表面的處理，包括表面的清洗及去除損傷層（粗拋） ? 控制硅酸鈉含量，包括 粗拋 及 制絨 兩道工序 表面油脂去除方案 ? 有機溶劑 +超聲 —— 有機溶劑溶解有機物質 ? 酸性液體去除法 —— 如 RCA工藝：熱硫酸煮硅片 ? 表面活性劑 ? NaOCl熱處理 —— 利用 O自由基的強腐蝕性 方案一、利用 NaOCl預清洗 實驗條件 1 2 傳統(tǒng)織構化工藝
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