節(jié)透射電子顯微分析-閱讀頁
2025-05-13 00:21本頁面
【正文】 其中 f0為物鏡焦距 ， M’為中間鏡及投影鏡的總放大倍數(shù) 。 因此 ， 有時也稱為有效相機長度和有效相機常數(shù) 。選區(qū)是通過置于物鏡像平面的專用選區(qū)光闌（或稱視場光闌）來進行的。因此所得到的衍射譜僅與試樣 AB區(qū)相對應(yīng)。 （ 2）微束電子衍射 微束電子衍射是利用經(jīng)聚光鏡系統(tǒng)會聚的、很細的電子束對試樣進行衍射。微束電子衍射的光路原理如圖 2－51b （ 3）高分辨電子衍射 電子衍射的分辨率定義為： r為衍射斑點半徑， R為衍射斑到透射斑的距離。但在選區(qū)衍射時，物鏡后焦平面的第一級衍射譜的分辨率為 r′/f0與熒光屏上得到的分辨率相同。若按圖 251c所示進行衍射，則大大提高了分辨率。原理如圖 251d （ 5）會聚束電子衍射 是近十年來發(fā)展起來的一種電子衍射，它可以給出有關(guān)晶體結(jié)構(gòu)的三維信息。可用于晶體對稱性的測定，微區(qū)點陣參數(shù)的精確測定等。 RrLr ???電子衍射物相分析 衍射譜電子可用于物相分析，它有以下優(yōu)點： ?分析靈敏度非常高，可分析小到幾個納米的微晶。 ?可得到有關(guān)物相大小、形態(tài)和分布的情況（與形貌觀察結(jié)合） 但也因注意，由于其分析靈敏度太高，分析中會出現(xiàn)一些假象。對于晶體，若要研究其內(nèi)部缺陷及界面，就要把晶體制成薄膜試樣。但是晶體的衍射強度卻因其內(nèi)部缺陷、界面而不同，故可根據(jù)衍射襯度成像理論來研究晶體。根據(jù)衍射襯度理論形成的電子圖象稱為衍襯像。 選擇衍射成像 透射電鏡實驗方法中，不僅可以選擇特定的像區(qū)進行電子衍射（選區(qū)電子衍射），也可以選擇一定的衍射束成像，稱為選擇衍射成像。 圖 2－ 53為選擇單光束成像的光路原理，一般成像時以圖中 a的方式進行，物鏡光闌套住其后焦面的中心透射斑，把其它所有衍射斑擋住，即選擇透射束（ 0級衍射束）成像。 若物鏡光闌孔套住某一衍射斑（圖中 b），而把中心透射斑和其它衍射斑擋住，即選擇該衍射束成像。按圖中 b的方式成像時，由于衍射束偏離光軸，暗場像朝一個方向拉長，分辨率不高，因此選擇衍射束成暗場像時大多采用圖中 c的傾斜（ 20）照明方式，使衍射束與光軸相重。 晶體衍射時，一般有多組晶面滿足衍射條件，若轉(zhuǎn)動晶體使其某一晶面精確滿足布拉格條件，而使其它晶面都偏離布拉格條件較多，此時得到的衍射譜中心有一透射斑，另有一很亮的衍射斑，而其余的衍射斑都很弱，這種衍射條件稱為“雙光束條件”。 衍射襯度的產(chǎn)生 現(xiàn)以單相的多晶體薄膜為例說明如何利用衍射成像原理獲得圖像的襯度。又設(shè) A晶粒的各晶面組均完全不滿足布喇格條件，衍射束強度可視為零，于是透射束強度仍近似等于入射束強度 I。此時 A晶粒較亮而 B晶粒較暗。但如果在樣品晶體中存在缺陷，例如有一刃型位錯，圖 2－ 56a中的 D處，則位錯周圍的晶面畸變發(fā)生歪扭，在如圖所示條件下，位錯右側(cè)晶面 B順時針轉(zhuǎn)動，位錯左側(cè)品面 D’反時針轉(zhuǎn)動，使這組晶面在樣品的不同部位滿足布喇格條件的速度不同。薄晶體刃型位錯的衍襯像是一條線，用透射束成像時，為一暗線，用衍射束成像時為一亮線。高分辨率像有晶格條紋像和結(jié)構(gòu)像，如下圖所示。在這樣薄的試樣條件下散射襯度機制已不起作用，入射電子穿過薄試樣只受輕微的散射，不足于產(chǎn)生散射襯度。由于樣品各點的散射波與透射波的相位差不同，在像平面上產(chǎn)生的干涉后的合成波也不同，這就形成了圖象上的襯度。 來自薄試樣的散射電子波與透射電子波的相位差是很微小的，要使微小的相位差轉(zhuǎn)化為明顯的襯度反差，通常通過球差和散焦的作用引入一個附加的相位移。由于散焦作用，在散焦面上得到的物點像不是在 V0而是 V′0。
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