掃描電子顯微分析-閱讀頁
2025-01-12 05:37本頁面
【正文】 子在試樣上方的角分布也服從余弦分布，但與背散射電子不同的是二次電子在試樣傾斜時仍為余弦分布，見圖 283。像的襯度是形貌襯度，襯度形成主要決定于試樣表面相對于入射電子束的傾角。 掃描電子顯微分析 掃描電鏡圖象及其襯度 掃描電子顯微分析 掃描電鏡圖象及其襯度 由于二次電子能量小，用閃爍體探測器探測時，只要在收集極上加 250V正電壓，即可把二次電子吸引過來，見圖 2－ 78b， 所以二次電子像沒有明顯的陰影效應(yīng)。 圖 2－ 85為與圖 2－ 79同一區(qū)域的二次電子像。 掃描電子顯微分析 掃描電鏡圖象及其襯度 4． 吸收電子像 當(dāng)電子束照射在試樣上時，如果不存在試樣表面的電荷積累，則進(jìn)入試樣的電流應(yīng)等于離開試樣的電流。對于厚試樣， IT＝ 0， 則有： I0= IB + IS + IA 在相同條件下，背散射電子發(fā)射系數(shù) η 比二次電子發(fā)射系數(shù) δ 大得多，現(xiàn)假設(shè)二次電子電流 I0＝ C為一常數(shù)，則吸收電流與背散射電子電流存在互補(bǔ)關(guān)系，即： IA = （ I0 － Ｃ）－ IB。 掃描電子顯微分析 掃描電鏡圖象及其襯度 掃描電子顯微分析 掃描電鏡試樣制備 1．對試樣的要求 試樣可以是塊狀或粉末顆粒，在真空中能保持穩(wěn)定，含有水分的試樣應(yīng)先烘干除去水分。 新斷開的斷口或斷面，一般不需要進(jìn)行處理，以免破壞斷口或表面的結(jié)構(gòu)狀態(tài)。 對磁性試樣要預(yù)先去磁，以免觀察時電子束受到磁場的影響。對于塊狀導(dǎo)電材料，除了大小要適合儀器樣品座尺寸外，基本上不需要進(jìn)行什么制備，用導(dǎo)電膠把試樣粘結(jié)在樣品座上，即可放在掃描電鏡中觀察。以避免電荷積累，影響圖象質(zhì)量。 掃描電子顯微分析 掃描電鏡試樣制備 試樣大小要適合儀器專用樣品座的尺寸，不能過大，樣品座尺寸各儀器不均相同，一般小的樣品座為Φ3 ～ 5mm， 大的樣品座為 Φ30 ～ 50mm， 以分別用來放置不同大小的試樣，樣品的高度也有一定的限制，一般在 5～ 10mm左右。鍍膜 鍍膜的方法有兩種，一是真空鍍膜，另一種是離子濺射鍍膜。離子濺射鍍膜優(yōu)點(diǎn)是： （ 1）裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，濺射一次只需幾分鐘，而真空鍍膜則要半個小時以上。 （ 3）對同一種鍍膜材料，離子濺射鍍膜質(zhì)量較好，能形成顆粒更細(xì)、更致密、更均勻、附著力更強(qiáng)的
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