制絨原理及相應(yīng)問(wèn)題的對(duì)策-展示頁(yè)
2025-05-08 05:05本頁(yè)面
【正文】 無(wú)機(jī)溶劑腐蝕： KOH/NaOH+IPA/乙醇溶液等 新方法：腐蝕液＋超聲 有利于獲得更均勻更小的金字塔 等離子體刻蝕 等離子體法刻蝕形貌圖 怎樣是“好”的金字塔 ?布滿(mǎn)整個(gè)硅片表面 ?小而均勻 Low density texture High density texture 怎樣得到“好”的金字塔 兩個(gè)方面實(shí)現(xiàn)： ? 提高硅片表面的浸潤(rùn)能力，如添加 IPA或者把硅片進(jìn)行酸或堿的腐蝕。 ? 水分子的屏蔽效應(yīng)（ screening effect）阻擋了硅原子與 OH根離子的作用，而水分子的屏蔽效應(yīng)又以原子排列密度越高越明顯。 2的速率取決于腐蝕溫度、材料、腐蝕液種類(lèi)及濃度，和攪拌方式無(wú)關(guān)，被成為反應(yīng)限制溶解過(guò)程（ reaction－ rate limited dissolution）。 腐蝕的反應(yīng)物和生成物是利用腐蝕液之濃度梯度然產(chǎn)生的擴(kuò)散現(xiàn)象來(lái)達(dá)到傳質(zhì)的目的。 . Tool , Presented at the 20th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, Barcelona, Spain, 610 June 2022 很好的織構(gòu)化可以加強(qiáng)減反射膜的效果 好的織構(gòu)化的效果 絨面作用： 減少表面反射 提高內(nèi)部光吸收 400 600 800 1000 1200020406080100IQEw av ele ng th (nm) w i tho ut w i th400 600 800 1000 1200020406080100IQEw avele ngt h w i th w i tho utT=200us T=2us 絨面產(chǎn)生原理 腐蝕速率快慢由下列三個(gè)反應(yīng)速度來(lái)決定。單晶制絨原理及相應(yīng)對(duì)策 中科院電工所 王文靜 左圖中藍(lán)色線(xiàn)為拋光后的 Si的反射圖，經(jīng)過(guò)不同織構(gòu)化處理之后的反射圖。 右圖為在織構(gòu)后再沉積 SiNx:H薄膜的反射光譜圖。 ? 腐蝕液流至被腐蝕物表面的移動(dòng)速率； ? 腐蝕液與被腐蝕物表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)速率； ? 生成物從被腐蝕物表面離開(kāi)的速率。所以， 3又可稱(chēng)為擴(kuò)散限制溶解過(guò)程（ diffusion－ limit
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