【摘要】第一章半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)測(cè)試題(高三)姓名班次分?jǐn)?shù)一、選擇題1、N型半導(dǎo)體是在本征半導(dǎo)體中加入下列物質(zhì)而形成的。A、電子;B、空穴;C、三價(jià)元素;D、五價(jià)元素
2025-03-31 06:15
【摘要】第二章1一個(gè)硅p-n擴(kuò)散結(jié)在p型一側(cè)為線性緩變結(jié),a=1019cm-4,n型一側(cè)為均勻摻雜,雜質(zhì)濃度為3×1014cm-3,,求零偏壓下的總耗盡層寬度、內(nèi)建電勢(shì)和最大電場(chǎng)強(qiáng)度。解:x=0處E連續(xù)得xn=x總=xn+xp=,負(fù)號(hào)表示方向?yàn)閚型一側(cè)指向p型一側(cè)。2一個(gè)理想的p-n結(jié),ND=1018cm-3,NA=1016cm-3,τp=
2025-07-10 22:18
【摘要】模擬電子電路與技術(shù)基礎(chǔ)西安電子科技大學(xué)微電子學(xué)院主講教師:張進(jìn)成教材:模擬電子電路及技術(shù)基礎(chǔ)(第二版),孫肖子主編,西安電子科技大學(xué)出版社,2022年1月授課順序:第二篇(半導(dǎo)體器件及集成電路--原理基礎(chǔ)篇):4-10章第一篇(模擬集成電路系統(tǒng)--應(yīng)用基礎(chǔ)篇):1-3章教師聯(lián)系方式:電子郵件
2025-05-05 05:34
【摘要】筆試習(xí)題一:(書(shū)中第2頁(yè))1.什么是絕對(duì)坐標(biāo)?答:在絕對(duì)坐標(biāo)系(世界坐標(biāo)系)中的坐標(biāo),也就是點(diǎn)相對(duì)于絕對(duì)坐標(biāo)系(世界坐標(biāo)系)原點(diǎn)的坐標(biāo)。2.什么是相對(duì)坐標(biāo)?答:在繪圖過(guò)程中,后一點(diǎn)相對(duì)于前一點(diǎn)的坐標(biāo)。也就是以前一點(diǎn)為坐標(biāo)系的原點(diǎn)而計(jì)算出來(lái)的坐標(biāo),表示時(shí)前面要加符號(hào)“@”。3.@符號(hào)的用途是什么?答:@符號(hào)的用途是表明坐標(biāo)的性質(zhì),也就是說(shuō)這是相對(duì)坐標(biāo)。4.當(dāng)使
2025-06-29 08:57
【摘要】第一章基本概念與基本原理1理想電流源的外接電阻越大,則它的端電壓()。(a)越高 (b)越低 (c)不能確定2理想電壓源的外接電阻越大,則流過(guò)理想電壓源的電流()。(a)越大 (b)越小 (c)不能確定3圖示
2025-06-13 21:29
【摘要】制程及原理概述半導(dǎo)體工業(yè)的制造方法是在硅半導(dǎo)體上制造電子元件(產(chǎn)品包括:動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器、靜態(tài)記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密復(fù)雜的集成電路(IntegratedCircuit,簡(jiǎn)稱(chēng)IC)所組成;IC之制作過(guò)程是應(yīng)用芯片氧化層成長(zhǎng)、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴(kuò)散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù),所須制程多達(dá)二百至三百個(gè)步驟。隨著電子信息產(chǎn)品朝輕薄短小化的方向發(fā)展,半導(dǎo)體制造方法亦朝著高
2025-06-22 15:39
【摘要】半導(dǎo)體器件原理與工藝半導(dǎo)體器件原理與工藝?概述?半導(dǎo)體襯底?熱氧化?擴(kuò)散?離子注入?光刻?刻蝕?薄膜淀積?CMOS半導(dǎo)體器件原理與工藝摻雜摻雜擴(kuò)散離子注入擴(kuò)散的基本原理擴(kuò)散方法擴(kuò)散層的主要參數(shù)及檢測(cè)離子注
2025-02-27 15:11
【摘要】比較詳細(xì)的數(shù)值分析課后習(xí)題答案1、(,題1)用二分法求方程在[1,2]內(nèi)的近似根,要求誤差不超過(guò)10-3.【解】 由二分法的誤差估計(jì)式,,因此取,。符號(hào)012+12345678
2025-06-30 21:25
【摘要】一、判斷下列說(shuō)法是否正確,用“√”和“×”表示判斷結(jié)果填入空內(nèi)。(1)在N型半導(dǎo)體中如果摻入足夠量的三價(jià)元素,可將其改型為P型半導(dǎo)體。()(2)因?yàn)镹型半導(dǎo)體的多子是自由電子,所以它帶負(fù)電。()(3)PN結(jié)在無(wú)光照、無(wú)外加電壓時(shí),結(jié)電流為零。()(4)處于放大狀態(tài)的晶體管,集電極電流是多子漂移運(yùn)動(dòng)形成的。()
2025-06-29 17:39
【摘要】半導(dǎo)體器件習(xí)題-PN結(jié)和三極管田野3月14日作業(yè)?1、討論影響共射極電流增益的因素;?2、比較多晶硅發(fā)射極晶體管與擴(kuò)散晶體管的優(yōu)越性。1、討論影響共射極電流增益的因素??出現(xiàn)在P278表?其中NB、NE為基極、發(fā)射極摻雜濃度DB、
2025-05-12 12:44
【摘要】筆試習(xí)題一:(書(shū)中第2頁(yè))1、什么是絕對(duì)坐標(biāo)?答:在絕對(duì)坐標(biāo)系(世界坐標(biāo)系)中的坐標(biāo),也就是點(diǎn)相對(duì)于絕對(duì)坐標(biāo)系(世界坐標(biāo)系)原點(diǎn)的坐標(biāo)。2、什么是相對(duì)坐標(biāo)?答:在繪圖過(guò)程中,后一點(diǎn)相對(duì)于前一點(diǎn)的坐標(biāo)。也就是以前一點(diǎn)為坐標(biāo)系的原點(diǎn)而計(jì)算出來(lái)的坐標(biāo),表示時(shí)前面要加符號(hào)“@”。3、@符號(hào)的用途是什么?答:@符號(hào)的用途是表明坐標(biāo)的性質(zhì),也就是說(shuō)這是相對(duì)坐標(biāo)。4、當(dāng)使用LIN
【摘要】第一章氣體的pVT性質(zhì)物質(zhì)的體膨脹系數(shù)與等溫壓縮率的定義如下試推出理想氣體的,與壓力、溫度的關(guān)系。解:根據(jù)理想氣體方程0℃,的條件常稱(chēng)為氣體的標(biāo)準(zhǔn)狀況,試求甲烷在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的密度。解:將甲烷(Mw=)看成理想氣體:PV=nRT,PV=mRT/Mw甲烷在標(biāo)準(zhǔn)狀況
2025-07-04 20:48
【摘要】《彈性力學(xué)簡(jiǎn)明教程》習(xí)題提示和參考答案第二章 習(xí)題的提示與答案 2-1 是 2-2 是 2-3 按習(xí)題2-1分析。 2-4 按習(xí)題2-2分析。 2-5 在的條件中,將出現(xiàn)2、3階微量。當(dāng)略去3階微量后,得出的切應(yīng)力互等定理完全相同。 2-6 同上題。在平面問(wèn)題中,考慮到3階微量的精度時(shí),所得出的平衡微分方程都相同。其區(qū)別只是在3階微量(即更高階
2025-06-30 15:01
【摘要】半導(dǎo)體制冷片工作原理致冷器件是由半導(dǎo)體所組成的一種冷卻裝置,隨著近代的半導(dǎo)體發(fā)展才有實(shí)際的應(yīng)用,也就是致冷器的發(fā)明。其工作原理是由直流電源提供電子流所需的能量,通上電源后,電子負(fù)極(-)出發(fā),首先經(jīng)過(guò)P型半導(dǎo)體,于此吸熱量,到了N型半導(dǎo)體,又將熱量放出,每經(jīng)過(guò)一個(gè)NP模塊,就有熱量由一邊被送到令外一邊造成溫差而形成冷熱端。冷熱端分別由兩片陶瓷片所構(gòu)成,冷端要接熱源,也就是欲冷卻之。在以往致冷
2025-08-09 06:43
【摘要】半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體器件原理一.半導(dǎo)體基礎(chǔ)二.pn結(jié)三.BJT四.MOS結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)五.MOSFET六.MS接觸和肖特基二極管七.JFET和MESFET簡(jiǎn)介半導(dǎo)體器件硅半導(dǎo)體表面?理想硅表面?鍵的排列從體內(nèi)到表面不變,硅體特性不受影響半導(dǎo)體器
2024-08-29 01:27