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真空濺射鍍膜技術ppt課件-文庫吧資料

2025-05-07 22:20本頁面
  

【正文】 的清潔和鍍液的純度取決于蒸發(fā)物質的純度取決于靶材料的純度取決于鍍覆物質的純度基板 ( 工件 ) 尺寸受鍍槽大小及電源功率的限制受真空室大小的限制受真空室大小的限制受真空室大小的限制鍍覆能力( 對復雜形狀 )能鍍所有的表面,但厚度不均勻只鍍基片的直射表面只鍍基片的直射表面能鍍基片所有表面,鍍層厚度均勻三種物理氣相沉積技術與電鍍的比較 。由于工件接在放電的陰極 , 便有離子轟擊工件表面 , 對工件作濺射清洗 。 直流二極型離子鍍膜 離子鍍膜 1 2 3 4 5 6 Ar 7 8 9 10 11 1. 鐘罩 2. 工件 3. 擋板 4. 蒸發(fā)源 5. 絕緣子 6. 擋板手輪 7. 燈絲電源 8. 高壓電源 9. 底板 10. 輝光區(qū) 11. 陰極暗區(qū) ? 鍍前將真空室抽空至 ?103Pa以
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