真空濺射鍍膜技術ppt課件(編輯修改稿)
2025-05-28 22:20 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 沉積三個過程所組成。 真空蒸發(fā)鍍膜原理及其基本過程 被鍍材料蒸發(fā)過程 蒸發(fā)材料粒子遷移過程 蒸發(fā)材料粒子沉積過程 蒸發(fā)材料 蒸發(fā)材料粒子 基片(工件 ) 濺射鍍膜的原理及特點 濺射鍍膜： 在真空室內(nèi)用正離子 (通常是 Ar+)轟擊陰極 (沉積材料做的靶 )，將其原子濺射出，遷移到基片 (工件 )上沉積形成鍍層。 靶面原子的濺射 濺射原子向基片的遷移 濺射原子在基片沉積 靶 基片 濺射原子 正離子 濺射鍍膜也是由三個階段組成。 直流二極型離子鍍膜 離子鍍膜 1 2 3 4 5 6 Ar 7 8 9 10 11 1. 鐘罩 2. 工件 3. 擋板 4. 蒸發(fā)源 5. 絕緣子 6. 擋板手輪 7. 燈絲電源 8. 高壓電源 9. 底板 10. 輝光區(qū) 11. 陰極暗區(qū)
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