鍍膜工藝ppt課件(編輯修改稿)
2025-02-17 18:07 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 scharge)將 氬氣 (Ar)離子撞擊靶材(target)表面 , 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。 濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好 ,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。 新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化 , 造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加 , 提高濺鍍速率。 一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍 ,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用 RF交流濺鍍 ,基本的原理是在真 空中利用輝光放電 (glow discharge)將氬氣 (Ar)離子撞擊靶材 (target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。 v1r0 17 真空賤鍍 v1r0 18 粒子碰撞原理： PAGE 01 靶材 氣體 Ar+ 靶材原子等粒子 Ar+ 靶材 氣體 基材 v1r0 19 主要工藝流程： PAGE 03 前處理 裝配 清洗處理 UV光油底漆 成品 真空濺鍍 UV照射烘干 UV光油面漆 UV照射烘干 提高基材待鍍層的附著性 提高基材已鍍層的硬度和配色 真空濺鍍也可根據(jù)基材和靶材的特性直接濺射不用涂底漆，真空濺鍍的鍍層可通過調(diào)節(jié)電流大小和時間來壘加，但不能太厚，太厚了表面原子壘加會出現(xiàn)小小的空洞間隙。厚度范圍 ~2um。 v1r0 20 PVD主要生產(chǎn)設(shè)備 PVD真空爐 PVD真空爐 v1r0 21 掛具 進(jìn)爐 v1r0 22 PVD鍍膜（鍍鈦）顏色系列 ?鈦 /鋯物理汽化鍍膜是在一真空容器內(nèi)在不鏽鋼表面形成各顏色薄膜層， 這層膜有很好的導(dǎo)電及潤滑能力，顏色多種， 由淺至深為黃銅，金色，玖瑰金，紫銅，煙灰， 黑色等。 在發(fā)絲， ，鏡面，壓花，蝕刻板等基礎(chǔ)上均可鍍色 . v1r0 23 v1r0 24 真空鍍膜的優(yōu)缺點 ?優(yōu)點 ?表面有較好的金屬質(zhì)感且細(xì)膩 ?顏色較水電鍍可解決七彩色的問題如魔幻藍(lán)、閃銀燈；水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀、亞銀等少數(shù)幾種 ?基材材質(zhì)選用范圍廣，如 PC、 ABS、 PMMA，（水鍍只能選擇 ABS、 ABS+PC） ?通過鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產(chǎn)品中發(fā)出來 ?不污染環(huán)境。 v1r0 25 真空鍍膜的優(yōu)缺點 ?缺點 ?蒸鍍靶材受熔點限制，太高熔點的不易采用 ?真空蒸鍍其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理。 v1r0 26 PAGE 01
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