鍍膜工藝ppt課件(編輯修改稿)
2025-02-17 18:07 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 scharge)將 氬氣 (Ar)離子撞擊靶材(target)表面 , 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。 濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好 ,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。 新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化 , 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加 , 提高濺鍍速率。 一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍 ,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用 RF交流濺鍍 ,基本的原理是在真 空中利用輝光放電 (glow discharge)將氬氣 (Ar)離子撞擊靶材 (target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。 v1r0 17 真空賤鍍 v1r0 18 粒子碰撞原理： PAGE 01 靶材 氣體 Ar+ 靶材原子等粒子 Ar+ 靶材 氣體 基材 v1r0 19 主要工藝流程： PAGE 03 前處理 裝配 清洗處理 UV光油底漆 成品 真空濺鍍 UV照射烘干 UV光油面漆 UV照射烘干 提高基材待鍍層的附著性 提高基材已鍍層的硬度和配色 真空濺鍍也可根據(jù)基材和靶材的特性直接濺射不用涂底漆，真空濺鍍的鍍層可通過調(diào)節(jié)電流大小和時間來壘加，但不能太厚，太厚了表面原子壘加會出現(xiàn)小小的空洞間隙。厚度范圍 ~2um。 v1r0 20 PVD主要生產(chǎn)設(shè)備 PVD真空爐 PVD真空爐 v1r0 21 掛具 進爐 v1r0 22 PVD鍍膜（鍍鈦）顏色系列 ?鈦 /鋯物理汽化鍍膜是在一真空容器內(nèi)在不鏽鋼表面形成各顏色薄膜層， 這層膜有很好的導(dǎo)電及潤滑能力，顏色多種， 由淺至深為黃銅，金色，玖瑰金，紫銅，煙灰， 黑色等。 在發(fā)絲， ，鏡面，壓花，蝕刻板等基礎(chǔ)上均可鍍色 . v1r0 23 v1r0 24 真空鍍膜的優(yōu)缺點 ?優(yōu)點 ?表面有較好的金屬質(zhì)感且細膩 ?顏色較水電鍍可解決七彩色的問題如魔幻藍、閃銀燈；水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀、亞銀等少數(shù)幾種 ?基材材質(zhì)選用范圍廣，如 PC、 ABS、 PMMA，（水鍍只能選擇 ABS、 ABS+PC） ?通過鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產(chǎn)品中發(fā)出來 ?不污染環(huán)境。 v1r0 25 真空鍍膜的優(yōu)缺點 ?缺點 ?蒸鍍靶材受熔點限制，太高熔點的不易采用 ?真空蒸鍍其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，均需后續(xù)進行特殊的噴涂處理。 v1r0 26 PAGE 01
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