真空濺射鍍膜技術(shù)ppt課件(已改無錯(cuò)字)
2023-06-01 22:20:16 本頁面
【正文】 ? 鍍前將真空室抽空至 ?103Pa以上真空 ， 然后通入 Ar作為工作氣體 ， 使真空度保持在 ? ?101Pa。 ? 當(dāng)接通高壓電源后 ， 在蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生氣體放電 。由于工件接在放電的陰極 ， 便有離子轟擊工件表面 ， 對工件作濺射清洗 。 ? 經(jīng)過一段時(shí)間后 ， 加熱蒸發(fā)源使鍍料氣化蒸發(fā) ， 蒸發(fā)后的鍍料原子進(jìn)入放電形成的等離子區(qū)中 ， 其中一部分被電離 ，在電場加速下轟擊工件表面并沉積成膜 ；一部分鍍料原子則處于激發(fā)態(tài) ， 而未被電離 ， 因而在真空室內(nèi)呈現(xiàn)特定顏色的輝光 。 電 鍍 真空蒸發(fā) 真空濺射 離子鍍膜 鍍覆物質(zhì) 金 屬金屬某些化合物金屬、合金、化合物、陶瓷、高分子物質(zhì)金屬、合金、陶瓷、化合物 方 法 電 解 真空蒸鍍 真空等離子體法離子束法真空等離子體法離子束法粒子動(dòng)能 ( E v) ? 0. 2 0. 1 ? 1. 0 幾個(gè) ? 10 0 幾十 ? 50 00沉積速率 中 等 高 ( ? 1 ? m / m i n)( 3 ? 75 ? m
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