真空濺射鍍膜技術(shù)ppt課件-資料下載頁(yè)
2025-05-01 22:20本頁(yè)面
【正文】 / m i n)慢 ( ? 0. 1 ? m / m i n) 高 ( ? 1 ? m / m i n)( 達(dá) 50 ? m / m i n)附著力 較 好 一 般 好 很 好膜的性質(zhì) 可能有針孔、凸起不太均勻 高密度、針孔少 高密度、針孔少基片溫度 ( ? C) 30 ? 20 0 150 ? 50 0 150 ? 80 0壓強(qiáng) ( P a ) ? 6. 5 ? 102A r 1. 3 ? 101 ? 6. 5 1. 3 ? 101 ? 6. 5 膜的純度取決于鍍槽的清潔和鍍液的純度取決于蒸發(fā)物質(zhì)的純度取決于靶材料的純度取決于鍍覆物質(zhì)的純度基板 ( 工件 ) 尺寸受鍍槽大小及電源功率的限制受真空室大小的限制受真空室大小的限制受真空室大小的限制鍍覆能力( 對(duì)復(fù)雜形狀 )能鍍所有的表面，但厚度不均勻只鍍基片的直射表面只鍍基片的直射表面能鍍基片所有表面，鍍層厚度均勻三種物理氣相沉積技術(shù)與電鍍的比較
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