磁控濺射鍍膜原理與工藝-資料下載頁(yè)
2025-06-29 15:27本頁(yè)面
【正文】 nm/min純銅陶瓷7036200純銅陶瓷7036260純銅陶瓷7036320純銅陶瓷7036310純銅陶瓷7036290純銅陶瓷7036260純銅陶瓷7036225備注：純銅含銅率≥%由工作氣壓與沉積率的關(guān)系表可以看出：在其他參數(shù)不變的條件下，隨著工作氣壓的增大，沉積速率先增大后減小。在某一個(gè)最佳工作氣壓下，有一個(gè)對(duì)應(yīng)的最大沉積速率。氣體分子平均自由程與壓強(qiáng)有如下關(guān)系其中為氣體分子平均自由程, k為玻耳茲曼常數(shù)，T為氣體溫度, d為氣體分子直徑, p為氣體壓強(qiáng)。由此可知，在保持氣體分子直徑和氣體溫度不變的條件下，如果工作壓強(qiáng)增大，則氣體分子平均自由程將減小，濺射原子與氣體分子相互碰撞次數(shù)將增加，二次電子發(fā)射將增強(qiáng)。而當(dāng)工作氣壓過(guò)大時(shí)，沉積速率會(huì)減小，原因有如下兩點(diǎn)：（1）由于氣體分子平均自由程減小，濺射原子的背反射和受氣體分子散射的幾率增大，而且這一影響已經(jīng)超過(guò)了放電增強(qiáng)的影響。濺射原子經(jīng)多次碰撞后會(huì)有部分逃離沉積區(qū)域，基片對(duì)濺射原子的收集效率就會(huì)減小，從而導(dǎo)致了沉積速率的降低。（2）隨著Ar氣分子的增多，濺射原子與Ar氣分子的碰撞次數(shù)大量增加，這導(dǎo)致濺射原子能量在碰撞過(guò)程中大大損失，致使粒子到達(dá)基片的數(shù)量減少，沉積速率下降。通過(guò)試驗(yàn)及對(duì)結(jié)果的分析可以得出如下結(jié)論：在其他參數(shù)不變的條件下，隨著工作氣壓的增大，沉積率先增大后減小。在某一個(gè)最佳工作氣壓下，有一個(gè)對(duì)應(yīng)的最大沉積率。雖然以上工作氣壓與沉積率的關(guān)系規(guī)律只是在純銅靶材和陶瓷基片上得到的，但對(duì)其他不同靶材與基片的鍍膜工藝研究也具有一定的參考價(jià)值。參考文獻(xiàn)［1］王增福. 實(shí)用鍍膜技術(shù). 電子工業(yè)出版社，2008.［2］程守洙，江之永. 普通物理學(xué). 北京：高等教育出版社, 1982.［3］嚴(yán)一心，林鴻海. 薄膜技術(shù). 北京：兵器工業(yè)出版社,1994. ［4］KumruM.[J ].Thin Solid .1. 若不給自己設(shè)限，則人生中就沒有限制你發(fā)揮的藩籬。2. 若不是心寬似海，哪有人生風(fēng)平浪靜。在紛雜的塵世里，為自己留下一片純靜的心靈空間，不管是潮起潮落，也不管是陰晴圓缺，你都可以免去浮躁，義無(wú)反顧，勇往直前，輕松自如地走好人生路上的每一步3. 花一些時(shí)間，總會(huì)看清一些事。用一些事情，總會(huì)看清一些人。有時(shí)候覺得自己像個(gè)神經(jīng)病。既糾結(jié)了自己，又打擾了別人。努力過(guò)后，才知道許多事情，堅(jiān)持堅(jiān)持，就過(guò)來(lái)了。4. 歲月是無(wú)情的，假如你丟給它的是一片空白，它還給你的也是一片空白。歲月是有情的，假如你奉獻(xiàn)給她的是一些色彩，它奉獻(xiàn)給你的也是一些色彩。你必須努力，當(dāng)有一天驀然回首時(shí)，你的回憶里才會(huì)多一些色彩斑斕，少一些蒼白無(wú)力。只有你自己才能把歲月描畫成一幅難以忘懷的人生畫卷。學(xué)習(xí)參
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