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半導(dǎo)體制造工藝之光刻原理課件(參考版)

2025-03-05 14:53本頁(yè)面

　　

【正文】下午 2時(shí) 53分 20秒下午 2時(shí) 53分 14:53: MOMODA POWERPOINT Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Fusce id urna blandit, eleifend nulla ac, fringilla purus. Nulla iaculis tempor felis ut cursus. 感謝您的下載觀看專家告訴。 2023年 3月下午 2時(shí) 53分 :53March 22, 2023 ? 1業(yè)余生活要有意義，不要越軌。 :53:2023:53:20March 22, 2023 ? 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 14:53:2023:53:2023:53Wednesday, March 22, 2023 ? 1知人者智，自知者明。 14:53:2023:53:2023:533/22/2023 2:53:20 PM ? 1越是沒有本領(lǐng)的就越加自命不凡。下午 2時(shí) 53分 20秒下午 2時(shí) 53分 14:53: ? 楊柳散和風(fēng)，青山澹吾慮。 2023年 3月下午 2時(shí) 53分 :53March 22, 2023 ? 1少年十五二十時(shí)，步行奪得胡馬騎。 2023年 3月 22日星期三下午 2時(shí) 53分 20秒 14:53: ? 1楚塞三湘接，荊門九派通。 14:53:2023:53:2023:53Wednesday, March 22, 2023 ? 1不知香積寺，數(shù)里入云峰。 14:53:2023:53:2023:533/22/2023 2:53:20 PM ? 1成功就是日復(fù)一日那一點(diǎn)點(diǎn)小小努力的積累。下午 2時(shí) 53分 20秒下午 2時(shí) 53分 14:53: ? 沒有失敗，只有暫時(shí)停止成功！。 2023年 3月下午 2時(shí) 53分 :53March 22, 2023 ? 1行動(dòng)出成果，工作出財(cái)富。 2023年 3月 22日星期三下午 2時(shí) 53分 20秒 14:53: ? 1比不了得就不比，得不到的就不要。 14:53:2023:53:2023:53Wednesday, March 22, 2023 ? 1乍見翻疑夢(mèng)，相悲各問年。 14:53:2023:53:2023:533/22/2023 2:53:20 PM ? 1以我獨(dú)沈久，愧君相見頻。 38 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章光刻原理 (下 ) 各種圖形曝光技術(shù)的比較如下光學(xué) 248/193nm SCALPEL EUV X射線離子束光刻機(jī) 光源激光電子束極遠(yuǎn)紫外線同步輻射離子束衍射限制有沒有有有沒有曝光法折射式折射式折射式直接光照全區(qū)折射式步進(jìn)與掃描是是是是步進(jìn)機(jī) 200mm硅晶片的產(chǎn)率（片 /h） 40 3035 2030 30 30 掩模版縮小倍率 4x 4x 4x 1x 4x 光學(xué)鄰近修正需要不需要需要需要不需要輻射路徑穿透穿透反射穿透印刷式抗蝕劑單層或多層單層單層表面成像單層單層化學(xué)放大抗蝕劑是是不是是不是 39 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章光刻原理 (下 ) 光刻總結(jié) 理論分辨率： NAkR?1?短波長(zhǎng)光源大 NA：透鏡系統(tǒng)、浸潤(rùn) 小 k1： RET及工藝和光刻膠改進(jìn) 實(shí)際分辨率：光刻膠、曝光系統(tǒng)、光源 PSM OPC OAI 焦深 : 22 )(

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