半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)教材(參考版)
2025-03-03 04:28本頁(yè)面
【正文】 4:50:26 上午 4:50 上午 04:50:26二月 21MOMODA POWERPOINTLorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Fusce id urna blandit, eleifend nulla ac, fringilla purus. Nulla iaculis tempor felis ut cursus. 感謝您的下載觀看專 家告 訴。 二月 214:50 上午 二月 2104:50February 01, 2023? 1業(yè)余生活要有意義，不要越軌。 二月 21二月 2104:50:2604:50:26February 01, 2023? 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 04:50:2604:50:2604:50Monday, February 01, 2023? 1知人者智，自知者明。 04:50:2604:50:2604:502/1/2023 4:50:26 AM? 1越是沒有本領(lǐng)的就越加自命不凡。 4:50:26 上午 4:50 上午 04:50:26二月 21? 楊柳散和風(fēng)，青山澹吾慮。 二月 214:50 上午 二月 2104:50February 01, 2023? 1少年十五二十時(shí)，步行奪得胡馬騎。 01 二月 20234:50:26 上午 04:50:26二月 21? 1楚塞三湘接，荊門九派通。 04:50:2604:50:2604:50Monday, February 01, 2023? 1不知香積寺，數(shù)里入云峰。 04:50:2604:50:2604:502/1/2023 4:50:26 AM? 1成功就是日復(fù)一日那一點(diǎn)點(diǎn)小小努力的積累。 4:50:26 上午 4:50 上午 04:50:26二月 21? 沒有失敗，只有暫時(shí)停止成功！。 二月 214:50 上午 二月 2104:50February 01, 2023? 1行動(dòng)出成果，工作出財(cái)富。 01 二月 20234:50:26 上午 04:50:26二月 21? 1比不了得就不比，得不到的就不要。 04:50:2604:50:2604:50Monday, February 01, 2023? 1乍見翻疑夢(mèng)，相悲各問年。 04:50:2604:50:2604:502/1/2023 4:50:26 AM? 1以我獨(dú)沈久，愧君相見頻。38半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章 光刻 (上 )本節(jié)課主要內(nèi)容基于衍射理論的光刻原理投影式（遠(yuǎn)場(chǎng)衍射）：分辨率、焦深、 MTF、不相干度 S接觸 /接近式（近場(chǎng)衍射） :最小尺寸光刻膠：正膠 /負(fù)膠光刻膠的組成i線 /g線（ PAC）DUV（ PAG）掩模版制作光刻機(jī)工作模式：接觸式，接近式，投影式39半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章 光刻 (上 )? 靜夜四無(wú)鄰，荒居舊業(yè)貧。除 ET外，另一稱為反差比（ γ）參數(shù)也用來(lái)表征抗蝕劑。(2)當(dāng)曝光能量增加，抗蝕劑的溶解度也會(huì)增加，直到閾值能量 ET時(shí)，抗 蝕劑完全溶解。c)溶劑：芳香族化合物 (aromatic) 負(fù)膠顯影液35半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章 光刻 (上 ) 36半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章 光刻 (上 )光刻膠的表征參數(shù)： 對(duì)比度 ：膠區(qū)分亮區(qū)和暗區(qū)的能力mJ/
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