半導(dǎo)體制造工藝之光刻原理課件-閱讀頁(yè)
2025-03-13 14:53本頁(yè)面
【正文】 備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) 光柵掃描（左）和矢量掃描 28 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) 電子束光刻問(wèn)題： 1）速度慢！ 29 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) 電子束光刻問(wèn)題： 2）電子散射及二次電子：線條寬 束斑 ?真空下工作 ?焦深大 ?直寫(xiě)，無(wú)掩膜版 30 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) 電子束源： 熱電子發(fā)射 場(chǎng)發(fā)射 光發(fā)射 ?電子束發(fā)射后 , 被準(zhǔn)直或聚焦，然后加速到 20 kV ?束斑直徑 ≈100 197。換言之，通過(guò)光照造成抗蝕劑產(chǎn)生化學(xué)或物理變化，這種變化可使抗蝕劑產(chǎn)生圖案。在電子束圖形曝光中，分辨率好壞是由 電子散射 決定的。因此入射電子在行進(jìn)中會(huì)散開(kāi)，直到能量完全損失或是因背散射而離開(kāi)為止。當(dāng)利用同步輻射光儲(chǔ)存環(huán)進(jìn)行批量生產(chǎn)時(shí)，一般選擇 X射線源。 XRL是利用類似光學(xué)遮蔽接近式曝光的一種遮蔽式曝光。為了避免 X射線在光源與掩模版間被吸收，通常曝光都在氦的環(huán)境下完成。激發(fā)態(tài)原子回到基態(tài)時(shí)，會(huì)釋放出 X射線，此 X射線被原子吸收，故此過(guò)程一直持續(xù)進(jìn)行。 34 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) 35 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) X射線圖形曝光的幾何效應(yīng) 36 半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ) 第四章 光刻原 理 (下 ) 離子束圖形曝光 離子束圖形曝光比光學(xué)、 X射線與電子束圖形曝光技術(shù)有更高的分辨率，因?yàn)殡x子有較高的質(zhì)量而且比電子有較小的散射。下圖為 60keV的 50個(gè)氫離子注入 PMMA及不同襯底中的電腦模擬軌跡。每種都有其限制：光學(xué)法的衍射現(xiàn)象、電子束的鄰近效應(yīng)、 X射線的掩模版制作復(fù)雜、EUV的掩模版空片的制作困難、離子束的隨機(jī)空間電荷效應(yīng)。采用混合與配合的方法，可利用每一種圖形曝光工藝的優(yōu)點(diǎn)來(lái)改善分辨率與提供產(chǎn)率。對(duì)于每一代新技術(shù)，由于要求更小的特征尺寸與更嚴(yán)格的套準(zhǔn)容差，圖形曝光技術(shù)更成為推動(dòng)半導(dǎo)體工業(yè)的關(guān)鍵性技術(shù)。 , March 22, 2023 ? 雨中黃葉樹(shù)，燈下白頭人。 :53:2023:53Mar2322Mar23 ? 1故人江海別，幾度隔山川。 :53:2023:53:20March 22, 2023 ? 1他鄉(xiāng)生白發(fā)，舊國(guó)見(jiàn)青山。 。 2023年 3月 22日星期三 2時(shí) 53分 20秒 14:53:2023 March 2023 ? 1做前，能夠環(huán)視四周；做時(shí)，你只能或者最好沿著以腳為起點(diǎn)的射線向前。 , March 22, 2023 ? 很多事情努力了未必有結(jié)果，但是不努力卻什么改變也沒(méi)有。 :53:2023:53Mar2322Mar23 ? 1世間成事，不求其絕對(duì)圓滿，留一份不足，可得無(wú)限完美。 :53:2023:53:20March 22, 2023 ? 1意志堅(jiān)強(qiáng)的人能把世界放在手中像泥塊一樣任意揉捏。 。 2023年 3月 22日星期三 2時(shí) 53分 20秒 14:53:2023 March 2023 ? 1空山新雨后，天氣晚來(lái)秋。 , March 22, 2023 ? 閱讀一切好書(shū)如同和過(guò)去最杰出的人談話。 :53:2023:53Mar2322Mar23 ? 1越是無(wú)能的人，越喜歡挑剔別人的錯(cuò)兒。勝人者有力，自勝者強(qiáng)。 2023年 3月 22日星期三 下午 2時(shí) 53分 20秒 14:53: ? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過(guò)于提升自我。 2023年 3月 22日星期三 2時(shí) 53分 20秒 14:53:2023 March 2023 ? 1一個(gè)人即使已登上頂峰，也仍要
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