x射線光電子能譜分析(參考版)
2025-05-14 16:46本頁面
【正文】 NiP合金的 Ni 2p3/2 XPS譜 a 清潔表面； b 1barO 403K氧化 1小時(shí) 金屬態(tài)的鎳 Ni 較 高 氧 化 態(tài) 的 鎳 Ni3+ NiP合金的 O 1s XPS譜 a 清潔表面； b 1barO 403K氧化 1小時(shí) 氧 化 鎳 中 的 氧 表面污染的氧 P2O5 中 的 氧 NiP合金中 P的 2p XPS譜 a 清潔表面； b 1barO 403K氧化 1小時(shí) P2O5 中 的 磷 氧吸附對表面 B和 Ni的影響 NiB合金表面 AES譜 1L= 104Pa 60s 元素態(tài)硼主要在 180eV處有一個(gè)強(qiáng)峰 氧化態(tài) B于處 172eV的 譜線出現(xiàn)并逐漸變強(qiáng) 在催化研究中的應(yīng)用 合成氨催化劑的 Fe 2P3/2 芯能級的結(jié)合能隨還原程度 a?f而變化。根據(jù)化學(xué)位移的數(shù)值，可以給出待測樣品的化學(xué)狀態(tài)的信息。 體相 Pd原子濃度為 40%的 AgPd合金 Ar轟擊表面清潔處理后，由 于 Ag的濺射幾率較高，合金 表面 Pd的相對濃度為 57% 高溫退火后，合金穩(wěn)定的表 面組成為 Pd32Ag68，表面為 Ag富集。 表面組成的分析 AgPd合金退火前后的 AES譜 ； 5min. 研究表明，表面組成和體相組成不同，這是由于發(fā)生表面富集或形成強(qiáng)的吸附鍵所導(dǎo)致的。 AES 也不能分析 H、 He，對樣品有一定的破壞作用，但其具有表面靈敏度高（檢測極限小于 1018g）、分析速度快等優(yōu)點(diǎn)，在表面科學(xué)領(lǐng)域主要進(jìn)行 1）表面組成的定性和定量； 2）表面元素的二維分布圖和顯微像； 3）表面元素的三維分布分析 。 UPS主要用于提供 1） 清潔表面或有化學(xué)吸附物的表面的電子結(jié)構(gòu)； 2） 參與表面化學(xué)鍵的金屬電子和分子軌道的組合等信息； 3） 有關(guān)電子激發(fā)和電荷轉(zhuǎn)移的信息 。 應(yīng)用舉例 電子能譜目前主要應(yīng)用于催化、金屬腐蝕、粘合、電極過程和半導(dǎo)體材料與器件等這樣一些極有應(yīng)用價(jià)值的領(lǐng)域，探索固體表面的組成、形貌、結(jié)構(gòu)、化學(xué)狀態(tài)、電子結(jié)構(gòu)和表面鍵合等信息。 電子能譜儀原則上可以分析固體、氣體和液體樣品。 298K吸附一層氣體分子所需時(shí)間 104Pa時(shí)為 1秒； 107Pa時(shí)為 1000秒 樣品處理 氣化 冷凍 氣體 液體 固體 采用差分抽氣的方法把氣體引進(jìn)樣品室直接進(jìn)行測定 塊狀 ：直接夾在或粘在樣品托上在樣品托上；粉末 ：可以粘在雙面膠帶上或壓入銦箔（或金屬網(wǎng)）內(nèi)，也可以壓成片再固定在樣品托上。 降低活性殘余氣體的分壓。 真空系統(tǒng) 電子能譜儀的真空系統(tǒng)有兩個(gè)基本功能。電子進(jìn)入器件后在通道內(nèi)連續(xù)倍增，增益可達(dá) 109 。 半球形電子能量分析器 半球形分析器示意圖 筒鏡形電子能量分析器 筒鏡分析器示意圖 檢測器 檢測器通常為單通道電子倍增器和多通道倍增器 光電子或俄歇電子流
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