【總結(jié)】PN結(jié)的開關(guān)特性PN結(jié)具有單向?qū)щ娦?,可當作開關(guān)使用。理想開關(guān)的特性直流特性:“開”態(tài)時電壓為0,“關(guān)”態(tài)時電流為0。瞬態(tài)特性:打開的瞬間應立即出現(xiàn)穩(wěn)態(tài)電流,關(guān)斷的瞬間電流應立即消失。本節(jié)將討論實際PN結(jié)的開
2025-04-29 02:11
【總結(jié)】集成電路制造工藝?集成電路設計與制造的主要流程框架設計芯片檢測單晶、外延材料掩膜版芯片制造過程封裝測試系統(tǒng)需求集成電路的設計過程:設計創(chuàng)意+仿真驗證集成電路芯片設計過程框架From吉利久
2025-05-02 18:06
【總結(jié)】第四章集成電路制造工藝CMOS集成電路制造工藝?形成N阱?初始氧化?淀積氮化硅層?光刻1版,定義出N阱?反應離子刻蝕氮化硅層?N阱離子注入,注磷?形成P阱?在N阱區(qū)生長厚氧化層,其它區(qū)域被氮化硅層保護而不會被氧化?去掉光刻膠及氮化硅層?P阱離子注入,
2025-04-30 13:59
【總結(jié)】微電子工業(yè)基礎微電子工藝基礎王靜Wangjing0631-5683346微電子工藝基礎一概述1.?1章緒論為什么要學這門課?2
2025-01-01 14:28
【總結(jié)】電鍍工藝學教師:黃曉梅學時:32學時性質(zhì):專業(yè)主干課考試方式:考查教材:《電鍍理論與技術(shù)》安茂忠哈爾濱工業(yè)大學出版社參考文獻?電鍍工藝學?電鍍工藝手冊?電鍍工程?電鍍理論?電鍍技術(shù)?現(xiàn)代實用電鍍技術(shù)表面涂覆技術(shù)表面技術(shù)表面改性技術(shù)表面
2025-05-04 07:05
【總結(jié)】北京大學大規(guī)模集成電路基礎3.1半導體集成電路概述集成電路(IntegratedCircuit,IC)芯片(Chip,Die)硅片(Wafer)集成電路的成品率:Y=硅片上好的芯片數(shù)硅片上總的芯片數(shù)100%成品率的檢測,決定工藝的穩(wěn)定性,成品率對集成電路廠家很重要集成電路發(fā)展的原動力:不斷提高的性能
2025-01-06 13:30
【總結(jié)】微電子工藝設計講義南通大學電子信息學院電子科學與技術(shù)教研室王強目錄1引言2器件結(jié)構(gòu)構(gòu)建3工藝過程4二極管制造設計5雙極性晶體管
2024-11-04 14:09
【總結(jié)】短溝道效應當MOSFET的溝道長度L↓時,分立器件:集成電路:??????MmaxpgmonmD,,,,,fKRgI?但是隨著L的縮短,將有一系列在普通MOSFET中不明顯的現(xiàn)象在短溝道MOSFET中變得嚴重起來,這一系
2025-04-29 00:54
【總結(jié)】當在p-n結(jié)外加一電壓,將會打亂電子和空穴的擴散及漂移電流間的均衡.如中間圖所示,在正向偏壓時,外加的偏壓降低跨過耗盡區(qū)的靜電電勢.與擴散電流相比,漂移電流降低了.由p端到n端的空穴擴散電流和n端到p端的電子擴散電流增加了.因此,少數(shù)載流子注入的現(xiàn)象發(fā)生,亦即電子注入p端,
2025-04-29 01:58
【總結(jié)】第一章1.Whatisawafer?Whatisasubstrate?Whatisadie?什么是硅片,什么是襯底,什么是芯片答:硅片是指由單晶硅切成的薄片;芯片也稱為管芯(單數(shù)和復數(shù)芯片或集成電路);硅圓片通常稱為襯底。2.Listthethreemajortrendsassociatedwithimprovementinmicr
2025-03-25 01:57
【總結(jié)】總復習第一章概論什么是微電子學?有什么意義?晶體管發(fā)明:1947,貝爾,肖克萊等摩爾定律集成電路分類1.數(shù)字、模擬、模數(shù)混合(按電路功能分)2.MOS,雙極,BiMOS(按器件結(jié)構(gòu)類型分)3.SSI,MSI,LSI,VLSI(按規(guī)模分)4.單片,混合(按結(jié)構(gòu)形式分)集成電路按器件結(jié)構(gòu)可分為什
2024-12-28 23:07
【總結(jié)】電子產(chǎn)品制作工藝與實訓主要制作:廖芳2022年12月國家級“十一五”規(guī)劃教材第一章常用電子元器件及其檢測:/主要制作:廖芳2第1章常用電子元器件及其檢測學習要點:1.常用電子元器件的性能、特點、主要參數(shù)、標志方法;2.常用電子元器件的基本檢測方法。:/主要制作:廖芳3
2025-08-04 23:02
【總結(jié)】微電子工藝(5)工藝集成與封裝測試1第10章金屬化與多層互連第五單元工藝集成與封裝測試第12章工藝集成第13章工藝監(jiān)控第14章封裝與測試2第10章金屬化與多層互連第12章工藝集成金屬化與多層互連CMOS集成電路工藝雙極型集成電路工藝3第10
2024-12-28 15:55
【總結(jié)】發(fā)展和變化中的集成電路產(chǎn)業(yè)浙江大學微電子與光電子研究所韓雁2022年3月15日2022/5/31浙大微電子(共68頁)21.概述集成電路產(chǎn)業(yè)是一門充滿創(chuàng)新和變數(shù)的產(chǎn)業(yè)–1958年第一塊集成電路(IC)誕生,半個世紀的歷程演繹了令人興奮不已的快速進步。–IC產(chǎn)業(yè)既是一個
2025-05-12 02:45
【總結(jié)】微電子工藝光刻技術(shù)課程論文題目微電子工藝——光刻工藝學生姓名 學號
2025-05-31 18:02