機(jī)械原理第十章平面機(jī)構(gòu)的平衡(編輯修改稿)
2025-03-27 17:25 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 對(duì)系統(tǒng)的影響可以完全有兩分力 F1 、 F2對(duì)系統(tǒng)的影響所代替； F F39。 F L1 L2 L Ⅰ Ⅱ F2 F1 在平衡基面上分別對(duì)兩個(gè)分力F1 、 F2進(jìn)行平衡，得平衡力 F39。 和F ，從而完成對(duì)集中質(zhì)量點(diǎn)的平衡。 F F39。 F 將力 F平行分解到兩個(gè)平衡基面上，得 F1和 F2 ，即 平衡原理 L1 L2 L Ⅰ Ⅱ F2 = F L1 L (4) F1 = F L2 L (3) F2 F1 F = F1 + F2 F1 L1 = F2 L2 即 F1 = F39。 F2 = F F = F1 + F2 (1) F1 L1 = F2L2 (2) 可解得 平衡基面 平衡基面 l1 l2 l3 l F1 F2 F3 r1 m1 m2 r2 m3 r3 F39。3 F3 F39。1 F1 F39。2 F2 Ⅱ Ⅰ 平衡基面 平衡基面 L1 L2 L3 L F1 F2 F3 r1 m1 m2 r2 m3 r3 F39。2 F39。1 F39。3 F3 F1 F2 Ⅱ Ⅰ F39。1 = F1 L L1 L F1 = F1 L1 L F39。2 = F2 L L2 L F2 = F2 L2 L L F39。3 = F3 L L3 L F3 = F3 L3 m39。 r39。 F39。 F39。1 + F39。2 + F39。3 +F39。 = 0 F1 + F2 + F3 +F = 0 從而求得 m39。r39。和 mr 。 m F r L1 L2 L3 L F1 F2 F3 r1 m1 m2 r2 m3 r3 Ⅱ Ⅰ F2 Ⅰ F1 Ⅰ F3 Ⅰ F2 F1 F3 Ⅱ Ⅱ Ⅱ 步驟： (1) 分別將各回轉(zhuǎn)平面上集中質(zhì)量點(diǎn) mi所
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