【總結】半導體制備工藝基礎第四章光刻原理(下)光刻膠的一些問題1、由于硅片表面高低起伏,可能造成曝光不足或過曝光。線條寬度改變!1半導體制備工藝基礎第四章光刻原理(下)2、下層反射造成駐波,下層散射降低圖像分辨率。DUV膠—ARCg線和i線膠—使用添加劑,吸光并
2025-02-28 12:03
【總結】集成電路版圖設計與驗證第三章半導體制造工藝簡介學習目的?(1)了解晶體管工作原理,特別是MOS管的工作原理?(2)了解集成電路制造工藝?(3)了解COMS工藝流程主要內容??工藝流程?工藝集成?半導體硅原子結構:4個共價鍵,比較穩(wěn)定,沒有明顯的自由電子。
2025-04-29 04:54
【總結】船體制造工藝程序教學內容:第一節(jié)船體制造與修理工藝的任務和特點一、船體制造與修理工藝船體制造與修理工藝包括船體制造與工藝和船體修理與工藝兩部分內容,它是在綜合采用各種先進技術和現(xiàn)代科學管理的條件下,研究鋼質船舶焊接船體的制造和修理方法與工藝過程的一門應用科學。船體制造一般分為兩個階段,即設計階段和施工階段。本課程研究的范圍屬于施工階段,即怎樣把設計階段經過
2025-07-14 14:40
【總結】Chapter?8離子注入1目標?至少列出三種最常使用的摻雜物?辨認出至少三種摻雜區(qū)域?描述離子注入的優(yōu)點?描述離子注入機的主要部分?解釋通道效應?離子種類和離子能量的關系?解釋后注入退火?辨認安全上的危害2離子注入?簡介?安全性?硬件?制程?概要3材料設計光罩IC生產
2025-03-01 12:19
【總結】半導體制造工藝基礎第五章刻蝕原理兩大關鍵問題:?選擇性?方向性:各向同性/各向異性21rrS?待刻材料的刻蝕速率掩膜或下層材料的刻蝕速率vertlatrrA??1橫向刻蝕速率縱向刻蝕速率圖形轉移過程演示圖形轉移=光刻+刻蝕
2025-03-04 15:10
【總結】半導體制造工藝流程半導體相關知識?本征材料:純硅9-10個9?N型硅:摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結:NP+++++半導體元件制造過程可分為?前段(FrontEnd)制程晶圓處理制程(Wa
2025-03-01 04:29
【總結】半導體制造工藝基礎第六章擴散原理(下)上節(jié)課主要內容1、摻雜工藝一般分為哪兩步?結深?薄層電阻?固溶度?2、兩種特殊條件下的費克第二定律的解及其特點?特征擴散長度?預淀積+退火。預淀積:氣固相預淀積擴散或離子注入。Rs:表面為正方形的半導體薄層(結深),在平行電流方向所呈現(xiàn)的電阻,單位為?/?,反映擴散入硅
2025-03-03 14:53
【總結】半導體制造工藝第4章 氧 化第4章 氧 化 引言 二氧化硅膜的性質 二氧化硅膜的用途 熱氧化原理 氧化設備 氧化膜的質量控制 氧化工藝模擬 引言二氧化硅(SiO2)是一種絕緣介質。它在半導體器件中起著十分重要的作用。硅暴露在空氣中,即使在室溫條件下,其表面也能生長一層4nm左右的氧化膜。這一層氧化膜結構致密,能防止硅表面繼續(xù)被氧
2025-03-01 04:30
【總結】半導體制造工藝張淵主編張淵主編半導體制造工藝高職高?!笆濉彪娮有畔㈩悓I(yè)規(guī)劃教材第1章 緒 論第1章 緒 論 引言 基本半導體元器件結構 半導體器件工藝的發(fā)展歷史 集成電路制造階段 半導體制造企業(yè) 基本的半導體材料 半導體制造中使用的化學品 芯片制造的生產環(huán)境 引言圖1-1 集成電路組成的抽象結構圖
【總結】通信與電子工程學院第三章第三章硅的硅的氧化氧化v緒論vSiO2的結構和性質vSiO2的掩蔽作用v硅的熱氧化生長動力學v決定氧化速度常數和影響氧化速率的各種因素v熱氧化過程中的雜質再分布v初始氧化階段以及薄氧化層的生長vSi-SiO2界面特性下一頁通信與電子工程學院二氧化硅是上帝賜給二氧化硅是上帝賜給IC的材料。的材料。通信與電
2025-02-28 12:01
【總結】半導體制造工藝流程N型硅:摻入V族元素--磷P、砷As、銻Sb P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng) PN結: 半導體元件制造過程可分為 前段(FrontEnd)制程 晶圓處理制程(WaferFabrication;簡稱WaferFab)、 晶圓針測制程(WaferProbe); 後段(BackEnd) 構裝(Packaging)、 測
2025-08-22 13:36
【總結】半導體制造工藝流程半導體相關知識?本征材料:純硅9-10個9?N型硅:摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結:NP------+++++半導體元件制造過程可分為?前段
2025-05-12 20:53
【總結】半導體制造工藝基礎第七章離子注入原理(上)有關擴散方面的主要內容?費克第二定律的運用和特殊解?特征擴散長度的物理含義?非本征擴散?常用雜質的擴散特性及與點缺陷的相互作用?常用擴散摻雜方法?常用擴散摻雜層的質量測量Distributionaccordingtoerrorfunction???
2025-03-04 15:32
2025-03-01 04:27