【文章內(nèi)容簡介】 天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 　　流孔下引法制程每日能生產(chǎn) 5~20公噸厚度 3~㎜ 的超薄平板玻璃，因鉑金屬無法承受較高的機械應(yīng)力，因此一般大多采用鉑合金所制成的模具，不過因其在承受外力時流孔常會變形，導(dǎo)致厚度不均勻及表面平坦度無法符合規(guī)格需求為其缺點。 該法系以低黏度的均質(zhì)玻璃膏導(dǎo)入鉑合金所制成的流孔漏板（ SlotBushing）槽中，利用重力和下拉的力量及模具開孔的大小來控制玻璃之厚度，其中溫度和流孔開孔大小共同決定玻璃產(chǎn)量，而流孔開孔大小和下引速度則共同決定玻璃厚度，溫度分布則決定玻璃之翹曲，以流孔下引法技術(shù)拉制超薄平板玻璃如圖所示。 流孔下引法必須要在垂直的方向上進行退火，如果將其轉(zhuǎn)向水平方向則可能會增加玻璃表面與滾輪的接觸及因水平輸送所產(chǎn)生的翹曲，導(dǎo)致不良率大增。這樣的顧慮使得熔爐的建造必須采用挑高的設(shè)計，同時必須精確的考慮退火所需要的高度，使得工程的難度大幅增加，同時也反映在建廠成本上。 ■ 窄縫下拉法流程38 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 基板分類按基板類型分TN STN SSTNTN— 原片只切割磨邊不拋光STN— 普通等級型拋光原片SSTN— 特殊等級型拋光原片高阻 — 面電阻大于 30Ω/口 低阻 — 面電阻 ≤30Ω/口 觸摸屏 —400 Ω/口STN— 是 SuperTwistedNematic的縮寫39 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 TNLCDTN=TwistNematic扭曲向列型扭曲角為 90176。TNLCD特點結(jié)構(gòu)簡單、技術(shù)難度相對低成本低90176。■ TN基板玻璃應(yīng)用40 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 STNLCDSTN=SuperTwistNematic超扭曲向列型扭曲角為 180176。~270176。STNLCD特點扭曲角度的增加，使下列性能得到改善：顯示對比度提高顯示容量增加視角變寬對電阻相當(dāng)敏感，基片需要拋光高容量顯示要求 ITO的電阻低，膜要厚180176。~270176。黃綠模式、藍模式、灰模式■ STN基板玻璃應(yīng)用41 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 TFTLCDTFT=ThinFilmTransistor薄膜晶體管每一個點陣都由薄膜晶體管來控制TFTLCD特點TFT的引入使產(chǎn)品的顯示容量顯著提高：可以在 VGA、 XVGA等模式下工作用于筆記本電腦的顯示屏需要在玻璃基片上制作數(shù)量龐大的 TFT多次鍍膜和多次光刻生產(chǎn)工序很多，必須極嚴(yán)格控制質(zhì)量■ TFT基板玻璃應(yīng)用42 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ITO玻璃簡要生產(chǎn)工藝流程如下：TN型玻璃不需經(jīng)此流程■ 生產(chǎn)流程43 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 手機蓋板介紹蓋板玻璃即保護玻璃，通常叫做 coverlens，蓋板玻璃作為觸控器件的一個重要組成部件，其主要任務(wù)是：保護 LCD、透光性能好、裝飾觸控器件外觀等作用。其主要性能有：■極好的表面光潔度；■極高的表面硬度和超強的抗劃傷能力；■較好的表面強度；■精確地尺寸控制；■具有幾號的視覺效果；■表面硬度高，耐劃傷，透光度好。44 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 手機蓋板生產(chǎn)流程CNC 強化 拋光 /LP 絲印 /鍍膜 清洗 /檢驗對玻璃產(chǎn)品外形、開槽、打孔加工工藝對玻璃產(chǎn)品強化、表面應(yīng)力加工對玻璃產(chǎn)品表面光潔度、平整度進行加工對玻璃產(chǎn)品油墨遮蓋、 LOGO印刷加工， 鍍膜對玻璃產(chǎn)品進行清潔、檢驗判定良品出貨工作出貨45 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 手機蓋板常用玻璃介紹46 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ITO玻璃基本參數(shù)47 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 規(guī) 格 長寬 厚度 垂直度 177。 177。 ≤% 177。 177。 ≤% 177。 177。 ≤% 177。 177。 ≤% 177。 177。 ≤%DL百分表垂直度 =D/L*100%取 L=300mm為宜?！?基片尺寸參數(shù)48 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 基板標(biāo)示角因供應(yīng)商不同，切角位置及尺寸不同。大多數(shù)在右上角 5:2比例無堿玻璃和 DT玻璃 3:3或 4:4比例□ 入廠檢的目的 C1 = 角部正常倒角 (mm) C2 = 角部標(biāo)示倒角 (mm)177。c1c1研磨面浮法方向c1c2c5177。浮法方向識別角2*5mm相同角*49 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 基板倒角代碼 尺寸要求C R P C R PW?W?， 45176。角 W?W? 曲面半徑 R?50mmC型R型50 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 平整度可用 h/1表示，意思為在長度為 L的范圍內(nèi)，表面最高點與最低點的差值為 hLh 玻璃微觀表面玻璃厚度 特殊拋光（ SSTN）(197。/20mm)普通拋光（ STN）(197。/20mm)非拋光 (TN)(197。/20mm) Rt≤400 Rt≤500 Rt≤1500 Rt≤600 Rt≤800 Rt≤2023≤800 Rt≤1000 Rt≤2500 Rt≤1000 Rt≤1200 Rt≤3000■ 基片平坦度參數(shù)51 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 基片平坦度參數(shù)52 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ■ 基片平坦度參數(shù)53 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 LhITO膜面向上計 算方法： Warp=h/L*100%玻璃厚度（mm） 翹 曲度（ %） ≤% ≤% ≤% ≤%玻璃鍍膜后不允許有 S形變形?！?基片翹曲度參數(shù)54 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 基板垂直度 :用 a/L表示 (如圖 ) 用來描述玻璃基板四條邊互相垂直的程度La通常 a/L≤%■ 基片垂直度55 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 距邊緣 5mm以內(nèi)的區(qū)域。國家標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的是距邊緣 3mm以內(nèi)的區(qū)域。（國內(nèi)幾大主要 LCD廠家如天馬、信利的接收標(biāo)準(zhǔn)都是 5mm）■ 基片有效使用面積56 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；創(chuàng)新發(fā)展，走特色陽光道對外秘 ITO層面電阻 /膜厚 /透過率 產(chǎn) 品型號 ITO膜厚 透 過 率(T%) 面 電 阻(Ω/口 ) 膜 層 反射色 酸刻 時間— 150 180A177。30A ≥88% 100— 150 / ≤30秒— 100 220A177。30A ≥87% 70— 90 / ≤30秒— 80 250A177。50A ≥87% 60— 80 / ≤40秒— 60 300A177。50A ≥85% 40— 60 / ≤60秒— 50 350A177。50A ≥84% 37— 50 / ≤60秒— 45 400A177。50A ≥83% 35— 45 / ≤60秒— 40 450A177。50A ≥82% 30— 40 / ≤60秒— 30 700A177。75A ≥81% 20— 30 / ≤80秒— 25 750A177。100A ≥81% 20— 25 白色 ≤100秒— 20 800A177。100A ≥81% 15— 20 亮白色 ≤100秒— 17 1000A177。100A ≥82% 12— 16 黃色 ≤120秒— 15 1150A177。100A ≥83% 11— 15 深黃色 ≤120秒— 10 1800A177。100A ≥87% 7— 10 藍 色 ≤200秒— 7 2023A177。150A ≥82% 6— 7 青 綠 色 ≤250秒— 5 2800A177。200A ≥85% 4— 5 紫色 ≤300秒■ ITO基本參數(shù)57 精英薈萃，共創(chuàng)美好明天；