【總結(jié)】1光學(xué)薄膜技術(shù)培訓(xùn)精密薄膜工程部2022年7月15日2目錄?一、光學(xué)薄膜基礎(chǔ)知識?二、真空及真空系統(tǒng)?三、薄膜的制備技術(shù)?四、薄膜制備工藝?五、薄膜材料?六、膜厚的監(jiān)控?七、光學(xué)薄膜的性能和檢測?八、光學(xué)薄膜產(chǎn)品的常見疵病及相應(yīng)的注意事項?九、膜系設(shè)計相關(guān)一、光
2025-01-11 20:57
【總結(jié)】X射線光電子能譜分析X-rayPhotoelectronSpectroscopy表面分析技術(shù)(SurfaceAnalysis)是對材料外層(theOuter-MostLayersofMaterials(100nm))的研究的技術(shù)X-rayBeamX-rayperationdepth~1mm.Electronscanbe
2025-01-03 01:40
【總結(jié)】第十五章X射線光譜與電子能譜分析法一、概述generalization二、X射線與X射線譜X-rayandX-rayspectrum三、X射線的吸收、散射和衍射absorption,diffuseanddiffractionofX-ray第一節(jié)X射線和X射線光譜分析X-rayspectrometry
2025-01-05 06:23
【總結(jié)】1X射線熒光光譜儀2基礎(chǔ)知識簡介3什么是儀器分析?儀器分析是一大類分析方法的總稱,一般的說,儀器分析是指采用比較復(fù)雜或特殊的儀器設(shè)備,通過測量物質(zhì)的某些物理或物理化學(xué)性質(zhì)的參數(shù)及其變化來獲取物質(zhì)的化學(xué)組成、成分含量及化學(xué)結(jié)構(gòu)等信息的一類方法?;蛘哒f通過施加給測試樣品一定的能量,然后分析其對聲、光、電等物理或物理化學(xué)信
2025-01-04 02:44
【總結(jié)】X射線光電子能譜(XPS)聊城大學(xué)趙笛XPS的基本原理?XPS是一種基于光電效應(yīng)的電子能譜,它是利用X射線光子激發(fā)出物質(zhì)表面原子的內(nèi)層電子,通過對這些電子進(jìn)行能量分析而獲得的一種能譜。?這種能譜最初是被用來進(jìn)行化學(xué)分析,因此也叫做化學(xué)分析電子能譜(ESCA)。XPS的基本原理?在
2025-01-03 01:39
【總結(jié)】X射線光電子能譜X射線光電子能譜能解決什么問題? X射線光電子能譜怎樣識別? X射線光電子能譜要注意那些問題?內(nèi)容 ?。薄』驹砑白V的認(rèn)識 ?。病《ㄐ?、定量分析和深度分析 ?。场嶒灂r應(yīng)注意的問題1 基本原理及譜的認(rèn)識 概述基本原理譜的認(rèn)識非導(dǎo)電樣品的荷電校正 概述X射線光電子能譜(
2025-01-05 06:19
【總結(jié)】第七章電子能譜X-射線光電子能譜儀,是一種表面分析技術(shù),主要用來表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)?;驹?使用X-射線與樣品表面相互作用,利用光電效應(yīng),激發(fā)樣品表面發(fā)射光電子,利用能量分析器,測量光電子動能,根據(jù)=。我們就是為了得到樣品的結(jié)合能!§電
2025-01-05 05:53
2025-01-05 06:20
【總結(jié)】X—射線光電子能譜(X-rayPhotoelectronSpectroscopy)?XPS的發(fā)展?基本概念?XPS的工作流程及原理?XPS譜線中伴峰的來源?XPS譜圖中伴峰的鑒別?利用XPS譜圖鑒別物質(zhì)?XPS的實驗方法?XPS譜圖的解釋步驟?XPS的特點主要內(nèi)容:
2024-10-18 21:53
【總結(jié)】(普通合伙)(普通合伙)(溧水)(上海)投資有限公司南京分武漢中合建筑設(shè)計事務(wù)所南京分所((普通合伙)24/24
2025-06-22 13:51
【總結(jié)】第五章X-射線光電子能譜(X-rayPhotoelectronSpectroscopy(XPS)ESCA)一概述n表面分析技術(shù)(SurfaceAnalysis)是對材料外層(theOuter-MostLayersofMaterials(100?))的研究的技術(shù)。包括:n1電子譜學(xué)(ElectronSpectr
2025-02-13 18:52
2024-08-13 10:34
【總結(jié)】《X射線熒光光譜分析的基礎(chǔ)知識》講義廖義兵X射線是一種電磁輻射,其波長介于紫外線和γ射線之間。它的波長沒有一個嚴(yán)格的界限,。對分析化學(xué)家來說,,,24nm則是最輕元素Li的K系譜線。1923年赫維西(Hevesy,G.Von)提出了應(yīng)用X射線熒光光譜進(jìn)行定量分析,但由于受到當(dāng)時探測技術(shù)水平的限制,該法并未得到實際應(yīng)用,直到20世紀(jì)40年代后期,隨著X射線管、分光技術(shù)和半導(dǎo)體探測器
2025-06-19 15:24
【總結(jié)】2022/8/18第十五章X射線光譜與電子能譜分析法第三節(jié)X射線衍射分析一、晶體特性propertyofcrystal二、多晶粉末衍射分析法multiplecrystalpowderdiffractionanalysis三、單晶衍射分析法singlecrystaldiffraction
2024-07-30 01:54
【總結(jié)】2021/6/15物質(zhì)成分的光譜分析第六章X-射線熒光光譜分析X射線學(xué)X射線透視學(xué)X射線衍射學(xué)X射線光譜學(xué)X射線熒光光譜分析?1929年施賴伯(Schreiber)首次應(yīng)用X射線熒光光
2025-05-13 07:46