機械設(shè)計制造及其自動化專業(yè)畢業(yè)設(shè)計(論文)外文資料翻譯-展示頁
2025-06-15 18:14本頁面
【正文】 內(nèi)部的溫度反應(yīng)相當緩慢， 并 需要 很長時間去調(diào)整適應(yīng) 。投影鏡頭 (PL)內(nèi)的 溫度 精度要求一個光刻工具 在接近 ℃ 制造 一個小于 100 nm 的模型 。作為最重要的制造 工藝 設(shè)備，先進的光學光刻工具需要更 嚴格 的微控制環(huán)境 [1]， 如嚴格控制其溫度 、 潔凈度 、 氣壓 、 濕度等 。 該方法已成功地應(yīng)用于光學光刻工具，制作了 臨近尺寸 （ CD） 100納米的 模型 ，其 性能 令人滿意。不同的控制回路和算法的對比實驗 被用來驗證對控制性能的影響。 一種包 含 一個 內(nèi) 部 級聯(lián) 控制 結(jié)構(gòu)（ CCS）和 一個外部 并行 串 聯(lián) 控制 結(jié)構(gòu) （ PCCS）的 新 型 多 閉環(huán) 控制結(jié)構(gòu) 被用來 防止大慣性， 多重遲滯 ， 和 RITC 系統(tǒng)的多重干擾。一個新的遠程間接 溫度 控制（ RITC）方 案 ，提出了 利用 冷卻水 循環(huán)完成對 PL 的間接溫度控制 。 1國家重點實驗室，數(shù)字制造裝備與工藝，華中科技大學 ,武漢 430074， 中國大學 2 天華 學院，上海師范大學，上海 202115，中國 2021 年 5月 27 日 收稿 ； 2021 年 1月 8日 修 訂； 2021 年 1月 22 日 定稿； 2021 年 2 月 6 日 電子 出 版 摘要： 圖像質(zhì)量是光學光刻工具的最重要指標之一， 尤其易 受溫度 、 振動和投影鏡頭（ PL）污染 的影響 。 湖南文理學院芙蓉學院 畢業(yè)設(shè)計 (論文 )外文資料翻譯 學 院 ： 機械工程 學院 專 業(yè)： 機械設(shè)計制造及其自動化 姓 名： 鄧 斐 學 號： 07100202 指導(dǎo)老師 ： 張世安 附 件： ； 。 指導(dǎo)教師評語： 簽名： 年 月 日 附件 1：外文資料翻譯譯文 光刻投影鏡頭多閉環(huán)溫度控制系統(tǒng) 聶宏飛 1，李 曉 平 1，＊ ，何 艷 2。本地溫度 控制的 傳統(tǒng)方法更容易引入振動和污染， 因此研發(fā)多閉環(huán) 溫度控制系統(tǒng)來控制 PL內(nèi) 部 溫度，并隔離振動和污染 的影響 。嵌入溫度 控制 單元（ TCU） 的 加熱器和冷卻器 用于控制 冷卻水的溫度 ，并且， TCU 必須遠離 PL,以 避免震動和污染的影響。 一種非線性比例積分（ PI）的算法應(yīng)用，進一步提高收斂速度和控制過程 的 精度。 結(jié)果表明，精度達到 ℃ 規(guī)格 的 多閉環(huán)溫度控制系統(tǒng)收斂 率快 ，魯棒性強 ，自我適應(yīng)能力好。 關(guān)鍵詞： 投影鏡頭，遠程間接溫度 串級控制結(jié)構(gòu)，并行串 連 控制結(jié)構(gòu) ，非線性比例積分（ PI）的算法 1 簡 介 由于集成電路縮小，更小的臨界尺寸（ CD）要求，生產(chǎn) 過程 的控制越來越嚴格。 溫度波動，特別是導(dǎo)致圖像失真 和 平面圖像轉(zhuǎn)變，成為 了 光學光刻工具對圖像質(zhì)量影響的 一個 關(guān)鍵因素。另外 需要 PL 內(nèi)部溫度 收斂 率 快 以降低光刻技術(shù)的
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