【摘要】鍍膜工藝北京亞科晨旭科技有限公司2023年12月基本概念真空等離子體真空真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài),是一種物理現(xiàn)象。真空度的高低可以用多個參量來度量,最常用的有“真空度”和“壓強”單位Pa1Pa=1N/㎡=*10-3Torr1mmHg=1Torr=133Pa
2025-03-05 12:21
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料:純硅9-10個9?N型硅:摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié):NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段(FrontEnd)制程晶圓處理制程(Wa
2025-03-05 04:34
【摘要】芯片制造-半導(dǎo)體工藝教程MicrochipFabrication????????----APracticalGuidetoSemicondutorProcessing????????
2025-08-02 13:48
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝第2章 半導(dǎo)體制造工藝概況第2章 半導(dǎo)體制造工藝概況 引言 器件的隔離 雙極型集成電路制造工藝 CMOS器件制造工藝 引言集成電路的制造要經(jīng)過大約450道工序,消耗6~8周的時間,看似復(fù)雜,而實際上是將幾大工藝技術(shù)順序、重復(fù)運用的過程,最終在硅片上實現(xiàn)所設(shè)計的圖形和電學(xué)結(jié)構(gòu)。在講述各個工藝之前,介紹一下集成電路芯片的加工工藝過程
2025-03-05 04:30
【摘要】中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所InstituteofSemiconductors,ChineseAcademyofSciences單擊此處編輯母版文本樣式中科院半導(dǎo)體所照明研發(fā)中心工藝設(shè)備簡介
2025-05-21 17:48
【摘要】一.名詞解釋:①.CZ直拉法:是用包括熔爐,拉晶機械裝置(籽晶夾具,旋轉(zhuǎn)機械裝置),環(huán)境控制裝置的拉晶機進(jìn)行結(jié)晶。多晶硅放入坩堝中,熔爐加熱到超過硅的熔點,將一個適當(dāng)晶向的籽晶放置在籽晶夾具中,懸于坩堝之上,將籽晶夾具插入熔融液中,雖然籽晶將會部分融化,但其未融化的籽晶頂部將會接觸熔融液的表面、將籽晶慢慢拉起,熔融液在固體液體的表面逐漸冷卻,從而產(chǎn)生很大的晶體即從熔融硅中生長單晶硅的基本
2025-04-23 07:12
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝過程2023-7-29目錄?1、概述?2、晶體生長與圓晶制造?3、硅的氧化?4、光刻與刻蝕?5、擴(kuò)散與離子注入?6、薄膜沉積概述工藝集成晶體生長與圓晶制造熱氧化光刻與刻蝕擴(kuò)散與離子注入薄膜沉積測試與封裝晶體生長與圓晶制造?1、直拉法單晶生
【摘要】1、清洗集成電路芯片生產(chǎn)的清洗包括硅片的清洗和工器具的清洗。由于半導(dǎo)體生產(chǎn)污染要求非常嚴(yán)格,清洗工藝需要消耗大量的高純水;且為進(jìn)行特殊過濾和純化廣泛使用化學(xué)試劑和有機溶劑。在硅片的加工工藝中,硅片先按各自的要求放入各種藥液槽進(jìn)行表面化學(xué)處理,再送入清洗槽,將其表面粘附的藥液清洗干凈后進(jìn)入下一道工序。常用的清洗方式是將硅片沉浸在液體槽內(nèi)或使用
2025-07-02 08:02
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝半導(dǎo)體制造工藝l微電子學(xué):Microelectronicsl微電子學(xué)——微型電子學(xué)l核心——半導(dǎo)體器件l半導(dǎo)體器件設(shè)計與制造的主要流程框架設(shè)計芯片檢測單晶、外延材料掩膜版芯片制造過程封裝測試物理原理—制造業(yè)—芯片制造過程由氧化、淀積、離子注入或蒸發(fā)形成新的薄膜或膜層曝光刻蝕
2025-03-05 12:19
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料:純硅9-10個9?N型硅:摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié):NP------+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段
2025-05-20 20:53
【摘要】第一章微電子工藝概述?微電子工藝是指微電子產(chǎn)品的制作方法、原理、技術(shù)。不同產(chǎn)品的制作工藝不同,且繁瑣復(fù)雜,但可以分解為多個基本相同的小單元,就是單項工藝,不同產(chǎn)品的制作就是將單項工藝按需要排列組合來實現(xiàn)的。?芯片制造半導(dǎo)體器件制作在硅片表面僅幾微米的薄層上,在一片硅片上可以同時制作幾十甚至上百個特定的芯片。?芯片制造涉及五個大的制造
2025-05-13 12:40
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識本征材料:純硅9-10個N型硅:摻入V族元素--磷P、砷As、銻SbP型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)PN結(jié):半導(dǎo)體元件制造過程可分為前段(FrontEnd)制程晶圓處理制程(WaferFabrication;簡稱WaferFab)、晶
2025-07-02 12:08
【摘要】擴(kuò)散半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)本章重點?摻雜的目的;?摻雜的方法;?恒定源擴(kuò)散;?有限源擴(kuò)散;?摻雜:摻雜技術(shù)是在高溫條件下,將雜質(zhì)原子以一定的可控量摻入到半導(dǎo)體中,以改變半導(dǎo)體硅片的導(dǎo)電類型或表面雜質(zhì)濃度。?形成PN結(jié)、電阻?磷(P)、砷(As)——N型硅?硼(B)
2025-03-04 11:58
【摘要】集成電路版圖設(shè)計與驗證第三章半導(dǎo)體制造工藝簡介學(xué)習(xí)目的?(1)了解晶體管工作原理,特別是MOS管的工作原理?(2)了解集成電路制造工藝?(3)了解COMS工藝流程主要內(nèi)容??工藝流程?工藝集成?半導(dǎo)體硅原子結(jié)構(gòu):4個共價鍵,比較穩(wěn)定,沒有明顯的自由電子。
2025-05-05 04:54
【摘要】半導(dǎo)體器件原理與工藝半導(dǎo)體器件原理與工藝?概述?半導(dǎo)體襯底?熱氧化?擴(kuò)散?離子注入?光刻?刻蝕?薄膜淀積?CMOS半導(dǎo)體器件原理與工藝摻雜摻雜擴(kuò)散離子注入擴(kuò)散的基本原理擴(kuò)散方法擴(kuò)散層的主要參數(shù)及檢測離子注
2025-02-27 15:11