silvacotcad工藝仿真-文庫吧資料
2025-05-13 18:13本頁面
【正文】 化 工藝步驟 抽取特性 結構操作 Tonyplot顯示 思考 1：到現(xiàn)在是否加深了理解？ 思考 2：這是唯一的模式嗎？ 工藝仿真流程： 17:14 25 Silvaco學習 工藝優(yōu)化 ? 尋找合適的工藝參數(shù) —— 工藝優(yōu)化 ? 工藝優(yōu)化工具 Optimizer ? 啟動方式： CommandOptimizer? ? 可以對多個參數(shù)同時優(yōu)化 ? 優(yōu)化不限于工藝 17:14 26 Silvaco學習 優(yōu)化設置 17:14 27 Silvaco學習 優(yōu)化設置界面， 誤差范圍，尋找次數(shù) 待優(yōu)化的參數(shù)選擇 17:14 28 Silvaco學習 go athena Line x loc= spac= Line x loc= spac= Line y loc= spac= Line y loc= spac= init Diffuse time=30 temp=1200 dryo2 extract name=Tox thickness oxide \ =1 =0 tonyplot 框住待優(yōu)化的工藝（此處是 diffuse） 參數(shù)那一行，在 OptimizerMode 框中選擇 Parameter。 氧化時間 30分鐘， 1000度，氧氣流速 10sccm。 ? 與光電平面印刷仿真器和精英淀積和刻蝕仿真器集成，可以在物理生產流程中進行實際的分析。 17:14 2 Silvaco學習 工藝仿真模塊 ATHENA工藝仿真軟件 SSuprem4二維硅工藝仿真器 MC蒙托卡諾注入仿真器 硅化物模塊的功能 精英淀積和刻蝕仿真器 蒙托卡諾沉積刻蝕仿真器 先進的閃存材料工藝仿真器 光電印刷仿真器 DeckBuild 集成環(huán)境 17:14 3 Silvaco學習 ATHENA工藝仿真軟件 ? 所有關鍵制造步驟的快速精確的模擬，包括CMOS， bipolar， SiGe， SOI， IIIV，光電子學以及功率器件技術 ? 精確預測器件結構中的幾何結構，摻雜劑量分配，和應力 ? 有助于 IDMs，芯片生產廠商以及設計公司優(yōu)化半導體工藝，達到速度、產量、擊穿、泄漏電流和可靠性的最佳結合 17:14 4 Silvaco學習 ATHENA工藝仿真軟件 ? 分析和優(yōu)化標準的和最新的隔離流程，包括 LOCOS， SWAMI，以及深窄溝的隔離 ? 在器件制造的不同階段分析先進的離子注入方法 —— 超淺結注入，高角度注入和為深阱構成的高能量注入 ? 支持多層次雜質擴散，以精確預測襯底與鄰近材料表面的雜質行為 17:14 5 Silvaco學習 ATHENA工藝仿真軟件 ? 考慮多重擴散影響，包括瞬
法律信息相關推薦
鄂ICP備17016276號-1