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制造工藝過程與方法-文庫吧資料

2025-05-04 00:55本頁面
  

【正文】 水的無機(jī)物:如碳酸鈣、滑石粉、硅藻土等。 ? 注意: 水介質(zhì)的存在,有利于聚合熱的排出 。一個(gè)小液滴相當(dāng)于本體聚合中的一個(gè)單元。 所使用的溶劑一般有三種情況: ? 原料和生產(chǎn)物都溶解于溶劑中 ? 原料溶解于反應(yīng)介質(zhì)中,產(chǎn)物不溶或部分溶于介質(zhì) ? 原料部分溶解或完全不溶于反應(yīng)介質(zhì),產(chǎn)物完全可溶。 ? 常用于:氯乙烯、 丙烯腈 、丙烯酸酯 、丙烯酰胺的聚合反應(yīng),也用于生產(chǎn)各種粘合劑,涂料,合成纖維的紡絲液。 (4)溶劑回收費(fèi)用較高。 (2)聚合物的相對分子質(zhì)量較低。 (3)引發(fā)劑分散均勻,引發(fā)效率高。 ? 特點(diǎn): (1)散熱容易,反應(yīng)速度便于控制。 缺點(diǎn) : ▲ 反應(yīng)影響因素增多,工藝復(fù)雜; ▲ 若需除去溶劑時(shí),后處理復(fù)雜:溶劑回收,聚合物的析出,殘留溶劑對產(chǎn)品性能的影響等。 ? 缺點(diǎn) :反應(yīng)溫度較高,不適合于合成熔點(diǎn)太高的單體,或熱穩(wěn)定性差的高聚物。 ? 優(yōu)點(diǎn) :高分子化合物的質(zhì)量好 ,設(shè)備簡單,效率高,可連續(xù)生產(chǎn)。 ? 特點(diǎn) :不用溶劑或介質(zhì),副反應(yīng)很少 。 聚合體系中只加單體和少量的催化劑,不加入任何溶劑,聚合過程中原料單體和生成的聚合物均處于熔融狀態(tài)。 缺點(diǎn) :體系粘度大,聚合熱不易擴(kuò)散, 反應(yīng)難以控制 ,易局部過熱,造成產(chǎn)品發(fā)黃。 尤其是制透明制品。 ? 4區(qū)域熔融法 :熔質(zhì)(晶體成分)分凝,生長晶體。 ? 3焰熔法 :原料細(xì)粉進(jìn)入燃燒室,被熔化,落在粒晶上使晶體生長。 運(yùn)行過程 (示意圖 ) ? 固體由上部下沉 ? 氣體自下部向上運(yùn)動(dòng) ? 下部導(dǎo)入熱風(fēng),產(chǎn)生熱量,供給 CO ? 熔化并分離礦料,反應(yīng)溫度達(dá)到所需 ? 底部鐵的熔點(diǎn)由 1530 ℃ 降到 1150 ℃ ? 底部 ,排放鐵水 ? 生鐵上部,由渣口排放廢礦渣 ( 3)熔體生長單晶 晶籽提拉法 坩堝下降法 焰熔法 區(qū)域熔融法 方法 將欲生長晶體的原料熔化, 然后在一定條件下使之凝固,變成單晶 基本原理 ? 1晶粒提拉法 :其特點(diǎn)是:生長速度快,單晶質(zhì)量高。 ( 2)金屬的冶煉過程 ? 本質(zhì):破壞金屬與氧的結(jié)合?;瘜W(xué)組成趨向一致,條紋和熱不均勻性消除。但還有條紋,液體溫度也不均勻。形成不夠均勻的透明玻璃液 —— 仍含有大量氣泡,條紋。所發(fā)生的物理的、化學(xué)的、物理化學(xué)的變化是在固體狀態(tài)下進(jìn)行的。 生產(chǎn)玻璃的主要原料: ? SiO2(砂巖) ? CaO(石灰石 方解石 白云石等) ? Na2O(純堿 芒硝)。 ? 化學(xué)反應(yīng) :固相反應(yīng)、 鹽類的分解、 水合物的分解、 結(jié)合水的排出 等。 ? 目的:是獲得均勻,純凈,透明,無氣泡并適合成型的玻璃液。 按材料制備時(shí)反應(yīng)狀態(tài)、反應(yīng)溫度不同可分為:熔融法,溶液法,界面法,液相沉積法,溶膠-凝膠法,水熱法,噴霧法等。 ? 流化床內(nèi)的氣固混合物分為兩相:乳化相(高溫相)和氣泡相(低溫相)。具有下面兩個(gè)特點(diǎn): ? 傳熱性好 溫度均勻 ? 氣相聚合省去了溶劑的精制與回收 流化床氣相聚合設(shè)備 關(guān)鍵設(shè)備包括: ? 1流化床器反應(yīng)器 ? 2循環(huán)氣體壓縮機(jī) ? 3循環(huán)氣體冷卻器 ? 4調(diào)溫水換熱器 ? 5引發(fā)劑加料器 ? 6產(chǎn)品出料罐和產(chǎn)品吹送罐。 化學(xué)氣相沉積 Chemical Vapor Deposition (CVD) 金剛石膜的主要應(yīng)用實(shí)例 刀具 ? CVD法的特點(diǎn): 1)可以在遠(yuǎn)比材料熔點(diǎn)低的溫度下進(jìn)行材料合成; 2)對于由兩個(gè)以上元素構(gòu)成的材料,可以調(diào)整這些材料的組分; 3)可以得到特定的晶體結(jié)構(gòu),還可以使其沿特定的結(jié)晶方向排列; 4)可以控制材料的形態(tài)(粉末狀、纖維狀、塊狀); 5)不需要燒結(jié)助劑,得到高純度高密度的材料; 6)結(jié)構(gòu)控制一般能從微米級的亞微米級,在某些條件下能達(dá)到; 7)能夠制成復(fù)雜形狀的制品; 8)能夠?qū)?fù)雜形狀的底材進(jìn)行涂覆; 9)能夠容易地進(jìn)行多層涂覆; 10)能夠進(jìn)行亞穩(wěn)態(tài)物質(zhì)和新材料的合成。不同化學(xué)物質(zhì)的濃度差。 下面以 TiCl4+CH4+H2混合體析出 TiC過程為 例,進(jìn)行介紹。 ? CVD原理 以金屬蒸氣,揮發(fā)金屬鹵化物,氫化物,金屬有機(jī)化合物等蒸氣為原料,進(jìn)行氣相熱解反應(yīng),或兩種以上單質(zhì)或化合物的反應(yīng),再凝聚生成各種形態(tài)的材料。 ? 特殊復(fù)合材料、刀具 、 大規(guī)模集成電路、鐵電材料、絕緣材料、磁性材料的薄膜制備技術(shù)。 應(yīng)用: ? 最早(一八八○年)用 CVD制備碳 、 鎢絲燈。 ? 具體操作 :真空容器中,加熱蒸發(fā)原料,使其凝聚在基板或鐘罩壁上。粒徑 100nm以下 —— 即納米粉。 納米級硬質(zhì)復(fù)合多層膜 納米多層(約 200層) 復(fù)合膜的超硬效應(yīng) 單層膜: TiN 21GPa, NbN 14GPa 納米多層膜: TiN/NbN 51GPa 離子鍍 應(yīng)用 納米多層膜的 超硬度和超模量效應(yīng) 與涂層的 組成材料、調(diào)制周期( λ)、及層之間的界面 等有關(guān) 超硬薄膜的納米多層化還 顯著改善薄膜的韌性和抗裂紋擴(kuò)展能力 形成超硬度的條件: ? 自發(fā)形成穩(wěn)定、規(guī)則的納米結(jié)構(gòu) ? 第二相的厚度為單層 ? 沉積氣氛的氮?jiǎng)莞? ? 沉積溫度高 ? 雜質(zhì)含量足夠低 離子鍍 應(yīng)用 納米復(fù)合膜的主要應(yīng)用實(shí)例 納米多層膜鉆頭 納米復(fù)合膜鉆頭 納米多層膜鉆頭切削試驗(yàn) ? 應(yīng)用范圍: 可制備單一氧化物、復(fù)雜氧化物、碳化物、金屬微粉。使我國早日從制造大國變?yōu)橹圃鞆?qiáng)國需要從多方面努力,其中加工的高速化和精密化是重要的方面,這對所需的工具材
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