制造工藝過程與方法-文庫吧在線文庫
【正文】 不發(fā)生任何化學(xué)反應(yīng)的情況下進行。金屬為 ()Tm 、鹽類為 、硅酸鹽為 ()Tm 固相法 高溫?zé)Y(jié)法 自蔓延高溫合成法 固相縮聚 熱分解法 ? 燒結(jié) 是一種合成加工方法。 ? 定義：以固態(tài)物為原料，通過固相反應(yīng)和燒結(jié)等過程制備材料的方法。 3冷凍干燥法 —— 金屬鹽溶液在較低溫度下噴霧生成小液滴，小液滴在較短的時間內(nèi)急速冷凍，接著在迅速減壓條件下加熱，使水升華，生成小的鹽粒。 水熱法 ? 定義：指在水溶液中或大量水蒸氣存在下，高溫高壓或高溫常壓所進行的化學(xué)反應(yīng)過程。 ? 3高純度：醇鹽原料易于提純，且反應(yīng)溶液與容器不易發(fā)生反應(yīng)（低溫）保證了純度高。 ? 其主要應(yīng)用領(lǐng)域是： 無機非金屬材料領(lǐng)域（玻璃 陶瓷 纖維 薄膜）。 2均勻沉淀法 定義： 控制反應(yīng)條件，從而控制反應(yīng)速度，使沉淀反應(yīng)緩慢而均勻的進行。 拉出聚合物膜 己二胺 NaOH水溶液 己二酰氯的 CHCl3溶液 界面聚合膜 牽引 己二酰氯與己二胺之界面縮聚 液相沉淀法主要用于制備氧化物。 乳液聚合 特點： 1以水為介質(zhì)，熱量易排除，溫度較低，易控制。 ? 界面法是指在 各種界面條件下 發(fā)生反應(yīng)來制備材料的方法： 懸浮聚合 乳液聚合 界面縮聚 懸浮聚合 ? 定義： 是指單體以小液滴狀懸浮在水中進行的聚合。 ? 缺點： (1)單體濃度低，反應(yīng)慢，生產(chǎn)能力低?？缮a(chǎn)：聚酰胺，聚酯，聚碳酸酯等。如：聚乙烯，聚甲基丙烯甲酯（有機玻璃），聚氯乙烯。 ? 高爐是根據(jù)逆流反應(yīng)器原理建造的豎式鼓風(fēng)爐。 ? 2玻璃形成階段（ 10001250℃ ） 低共熔混合物開始熔化，隨間溫度升高，硅酸鹽和剩余石英砂?；ト?，直到石英砂顆粒完全熔化。 液相法 溶膠凝膠法 界面法 熔融法 溶液法 液相沉淀法 噴霧法 水熱法 加熱溫度高低 高溫熔融法 低溫熔融法 熔融法 ?玻璃的熔制 ?高爐的煉鐵 ?本體聚合 ?熔融縮聚 (1)玻璃的熔制過程 ? 指利用熔室將玻璃配合料加熱熔化，制成適合成型使用的玻璃液的過程。 化學(xué)氣相沉積 Chemical Vapor Deposition (CVD) ? 熱分解反應(yīng) ? SiH4 Si+2H2 (650℃) ? 還原反應(yīng) ? SiCl4+2H2 Si+4HCl(1200℃) ? 氧化反應(yīng) ? SiH4+O2 SiO2+2H2 (450℃) ? 形成化合物 ? SiCl4+CH4 SiC+4HCl(1400℃) 化學(xué)反應(yīng)類型 化學(xué)氣相沉積 Chemical Vapor Deposition (CVD) 1. 進氣口 2. 燈絲列 3. 燈絲電源 4. 基體 5. 試樣臺 6. 偏壓電源 7. 冷卻水 8. 熱電偶 9. 真空泵 熱絲化學(xué)氣相沉積原理 化學(xué)氣相沉積 Chemical Vapor Deposition (CVD) ? 優(yōu)異的性能 ? 高硬度 ? 高彈性模量 ? 低摩擦系數(shù) ? 高熱導(dǎo) ? 高絕緣 ? 寬能隙和高的載流子遷移率 ? 高的光學(xué)透過率 ? 良好的化學(xué)穩(wěn)定性 金剛石薄膜 化學(xué)氣相沉積 Chemical Vapor Deposition (CVD) 納米金剛石薄膜 硬度和彈性模量與天然金剛石單晶接近，且表面極其光滑平整，光學(xué)透過率高，摩擦系數(shù)極低（大大低于普通的微米晶粒金剛石膜） 具有高的韌性和場發(fā)射電壓，預(yù)計在 工具涂層、光學(xué)涂層、微機電系統(tǒng)、高性能大屏幕顯示、半導(dǎo)體功率器件的金剛石封裝 等一系列高技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域會有十分光明的市場前景。 ? 后用于 Ti 、 Zr等金屬的提純，提高金屬線板材的耐熱、耐磨性。 為了滿足這些要求，刀具材料獲得了迅速發(fā)展：（ 1）超硬顆粒硬質(zhì)合金材料提高了其硬度和耐磨性；（ 2）陶瓷和金屬陶瓷刀具材料的發(fā)展明顯改善了其強度和韌性；（ 3）新型涂層材料及制備工藝使涂層的韌性和耐磨性得到顯著提高，其中 納米結(jié)構(gòu)超硬薄膜引人關(guān)注 。 ? 特點 ：膜成分基本上與靶材相同，易獲得復(fù)雜組成的合金。 缺點：蒸發(fā)源材料與蒸鍍材料易形成化合物或合金。 氣相法 液相法 固相法 J J Manufacturing Process and Technique J 不發(fā)生 化學(xué)反應(yīng) 物理氣相沉積法 PVD 化學(xué)氣相沉積法 CVD 氣相聚合 氣相法 Deposition 發(fā)生氣相 化學(xué)反應(yīng) Physical Vapor Deposition PVD是利用電孤、高頻電場、等離子體等高溫?zé)嵩磳⒃霞訜嶂粮邷?，使之氣化或形成等離子體，驟冷，使之凝聚成各種形態(tài)的材料（如：晶須、薄膜、晶粒等）。 b. 電子轟擊法：將電子集中轟擊蒸發(fā)材料的一部分而進行加熱。薄膜與基體之間的結(jié)合力大。 納米級硬質(zhì)復(fù)合多層膜 納米多層（約 200層） 復(fù)合膜的超硬效應(yīng) 單層膜： TiN 21GPa， NbN 14GPa 納米多層膜： TiN/NbN 51GPa 離子鍍 應(yīng)用 納米多層膜的 超硬度和超模量效應(yīng) 與涂層的 組成材料、調(diào)制周期（ λ）、及層之間的界面 等有關(guān) 超硬薄膜的納米多層化還 顯著改善薄膜的韌性和抗裂紋擴展能力 形成超硬度的條件： ? 自發(fā)形成穩(wěn)定、規(guī)則的納米結(jié)構(gòu)
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