【正文】 包括介質(zhì)成分、濃度、雜質(zhì)和溫度。 ? 2 不同之處： ? （ 1）腐蝕產(chǎn)生的條件 ? 小孔腐蝕： 介質(zhì)中需含有活性陰離子，首先有蝕孔再 ? 孔生長(zhǎng)； ? 縫隙腐蝕： 任何介質(zhì)都可產(chǎn)生縫隙腐蝕，首先存在縫隙； ? 孔蝕的電勢(shì)值高于縫隙腐蝕的電勢(shì)值。 縫內(nèi) O2少，電位負(fù)，為陽極區(qū)， 縫外 O2多，電位正，為陰極區(qū)?？p內(nèi) O2很快被耗盡，而縫外 O2不易擴(kuò)散到縫隙深處。 ? 4 縫隙腐蝕使金屬構(gòu)件強(qiáng)度降低；縫隙擴(kuò)寬導(dǎo) ? 致裝配困難、漏水、漏氣。 ? 2 幾乎所有的腐蝕介質(zhì)都可使金屬或合金產(chǎn)生 ? 縫隙腐蝕。如灰塵、砂 ? 粒、腐蝕產(chǎn)物?；蛘哒f引起縫內(nèi)金屬腐蝕加速的現(xiàn)象稱為縫隙腐蝕。這種腐蝕中，石墨為陰極，形成腐蝕原電池，鐵被優(yōu)先溶解，剩下石墨骨架與鐵銹組成的海綿狀物質(zhì)沉積在鑄鐵的表面，使鑄鐵失去強(qiáng)度與金屬性能。 ? （ 2）盡可能地采用低鋅黃銅； 222 C u C lCuClCu ??CueCu ??? 22砷對(duì)黃銅脫鋅的影響 ?二 石墨化腐蝕 ? 灰鑄鐵上鐵選擇性地溶解而石墨沉積在鑄鐵的表面，這種腐蝕成為鑄鐵的石墨化腐蝕。 黃銅脫鋅腐蝕形態(tài) ? 3 腐蝕機(jī)理（溶解－沉積理論） ? 黃銅溶解；鋅留在溶液中；銅沉積到基體上； ? 脫鋅反應(yīng)： ? 陽極反應(yīng) ? 陰極反應(yīng) eCuCueZnZn?????? 22???? OHeOHO 222122圖6－18 保養(yǎng)前的照片 ? Zn2+留在溶液中，而 Cu+迅速于溶液中的氯化物作用，形成 Cu2Cl2。 ? （ 2）塞（栓）狀脫鋅 ? 多發(fā)生于含鋅量較低的黃銅中和在中性、堿性介質(zhì)中。 ? 2 腐蝕形態(tài)： ? （ 1）層狀或均勻狀脫鋅 ? 多發(fā)生于含鋅量高的黃銅中，且常在酸性介質(zhì)中發(fā)生。 ?腐蝕原電池： ? 電勢(shì)較正的金屬為陰極，電勢(shì)較負(fù)的金屬為陽極而發(fā)生優(yōu)先溶解。 ? Ra＝（ Ir/Ia） 100% ? 再活化率的數(shù)值越大，晶間腐蝕的敏感性越高。 5） mV/min 的掃描速度進(jìn)行陽極極化，當(dāng)電極電位達(dá)到＋ （ SCN）時(shí)反向掃描，以出現(xiàn)再活化后使陽極電流為零的電位作為實(shí)驗(yàn)終點(diǎn)。 ? 此外，國(guó)外近年采用電化學(xué)再活化法（ Electrochemical Potentialtiokiic Reactivation EPR） .具有快速、簡(jiǎn)便、非破壞性檢驗(yàn)等特點(diǎn)。 ? 5 硝酸－氫氟酸法 ? 配制 w(HNO3)=10%和 w(HF)=3%的混合溶液，試樣在70177。 %d 硝酸溶液，將試樣煮沸五個(gè)周期（一個(gè)周期為 48小時(shí)），每次試驗(yàn)需更換新溶液，用失重法評(píng)定結(jié)果。將試樣在此溶液煮沸 120小時(shí)，用失重法予以評(píng)定。 ? 2 硫酸－硫酸鐵法（ Streicher法） ? 質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 50177。我國(guó)制定的不銹鋼晶間腐蝕試驗(yàn)方法，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)為～ 5－ 90。在腐蝕介質(zhì)作用下，晶粒與晶界及其附近區(qū)域構(gòu)成大陰極 —— 小陽極的微電池，從而加速晶粒間界區(qū)的腐蝕。 ? 貧鉻區(qū)含鉻質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于不銹鋼表面形成耐蝕鈍化膜所需要的最低含鉻質(zhì)量分?jǐn)?shù)（ ），因而鈍化態(tài)受到破壞。 ? 2 晶界 σ相析出 ? 3 晶界吸附理論 ?奧氏體不銹鋼的晶間腐蝕 ： ? 固溶處理的奧氏體不銹鋼在較低溫度（ 450～ 850℃ ）加熱或緩慢冷卻過程中，碳傾向于與鉻結(jié)合形成復(fù)雜的碳化物（ Cr23C6），從過飽和的奧氏體中析出而優(yōu)先分布在晶界上。 3 產(chǎn)生晶間腐蝕的兩個(gè)必須具備的條件 ? （ 1）內(nèi)因：晶界物質(zhì)的物理化學(xué)狀態(tài)與晶粒 ? 不同； ? （ 2）外因：特定的環(huán)境條件；腐蝕介質(zhì)能使 ? 晶界、晶粒電化學(xué)性質(zhì)不均勻性 ? 顯示出來。晶粒為腐蝕陰極，晶界、相界產(chǎn)生選擇性溶解。 ? 該廠在沸騰的溶液中，用相同面積的試片進(jìn)行接觸腐蝕試驗(yàn)，“證明”電偶腐蝕不是主要原因． ? 請(qǐng)你分析，是什么原因造成新罐腐蝕穿孔？廠家的試驗(yàn)方法是否合理？采用什么措施來防止新罐腐蝕穿孔？ 第四節(jié) 晶間腐蝕 ?一 晶間腐蝕產(chǎn)生的條件 1 晶間腐蝕的定義： ? 金屬材料在特定的腐蝕介質(zhì)中材料的晶粒晶界、相界產(chǎn)生的腐蝕。 ? 由于 M1,M2上的陰極反應(yīng)速度都是由擴(kuò)散過程控制，由此，陰極反應(yīng)的電流密度等于極限擴(kuò)散電流密度 ? 在 M1,M2接觸前： ? 在 M1,M2接觸后： g? 1corr?LiLC ii ?1? ?LALg iiSiSI g ??? ?)( 112 ? 由 Ig的表達(dá)式得 : ? 當(dāng) M2的面積很大時(shí)（大陰極小陽極）， 時(shí) 112)(。 ?111 )(c o r rgc o r r iiiig ?? ??)l n (lnlnlnln122121221121121SSiiiiCACc o r rc o o rCAACAc o r rc o r rc o r rg????????????????????? 變形 ???????? 21121212 ,),( CAc o r rc o r rc o r rc o r r iiSSF ?????的線性關(guān)系：與12lnlnSS?21212lnlnCACSS ????????)e x p ()(21121122 212CAc o r rc o r rc o r rc o r r CACSiSi????? ?? ????? ?? （ 2）若 與 較接近，接觸后金屬 M1上還存在有自腐蝕的陰極過程的接觸腐蝕效應(yīng)。 ? 三式求解可得： g? 21 , corrcorr ??1122212122111212 lnc o r rc o rCACAc o r rCAAc o r rCACg iSiS???????????????????)l n ()l n (ln 22212112112112c o r rCACc o r rCAACAc o r rc o r rg iSSiI ??????????????????陽極接觸腐蝕電流密度： gg iSIig??11 )( ?)l n (lnlnlnln122212121121121SiSiSIic o r rCACc o r rCAACAc o r rc o r rgg???????????????????? 電偶（接觸）腐蝕效應(yīng) ：接觸前后腐蝕速度的比值。 21 , iig下，?, )(, 2211 CCAA cc bb ?? ????? ?? ???????????? ?????????? ????)e x p()e x p()e x p()e x p(222222111111Ac o o rgCc o r rgc o r rCc o r rgAc o r rgc o r riiii????????????Ig2211 SiSiI g ??g?gI, 2211CCAAc o r rgc o r rgbb ??????????????（ 1）若 離 都比較遠(yuǎn)時(shí)（混合控制）， ? 即對(duì)金屬 M1為陽極極化，對(duì) M2為陰極極化。 ? 如表 64常用材料在土壤中的電偶序，表 65常用金屬在海水中的電偶序。如表 2－ 1。由于同電極電勢(shì)較高的金屬接觸而引起腐蝕速度增大的電化學(xué)腐蝕現(xiàn)象，稱為 電偶腐蝕 或 雙金屬腐蝕、接觸腐蝕 。 表 在 25℃ ， 金 屬 點(diǎn)蝕電勢(shì) br V 金 屬 點(diǎn)蝕電勢(shì)br V Al Cr質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 30％ Cr－ Fe Ni Cr質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 12％ Cr－ Fe Zr Cr 188不銹鋼 Ti ? ?（ 2）同一金屬 Fe－ 15Cr13Ni添加不同的 Mo 含量對(duì)點(diǎn)蝕電勢(shì)的影響。 ? （ 5）溶液 pH值的影響 ? pH10使點(diǎn)蝕電勢(shì)上升； ? pH10時(shí)對(duì)點(diǎn)蝕電勢(shì)影響很小； 圖6－7 2 冶金因素 （ 1）不同金屬在 25℃ ， 的點(diǎn)蝕電勢(shì)。 FeCr孔蝕最低Cl －濃度 ?（ 2）介質(zhì)濃度 ? 點(diǎn)蝕電勢(shì)與鹵素離子濃度的關(guān)系式： ? 對(duì)于 Cr17不銹鋼 ? 對(duì)于 18－ 8不銹鋼 ???????????????IIbrBrBrbrClClbrCCC?????????????BrBrbrClClbrCC??? （ 3）介質(zhì)中其他陰離子作用 ? 介質(zhì)中的存在 OH,NO3,SO42,ClO4等陰離子，對(duì)不銹鋼、鋁的點(diǎn)蝕起緩蝕作用，阻礙點(diǎn)蝕的發(fā)展。 ? 引起再鈍化的原因： ? （ 1）金屬表面結(jié)構(gòu)的改變； ? （ 2）溶液的 pH值不再降低， Cl－ 濃度不再上升； ? （ 3）孔內(nèi)電勢(shì)低于臨界電勢(shì)，處在鈍化區(qū)范圍； ? ① 介質(zhì)的氧化還原電勢(shì)降低； ? ② 孔內(nèi)的歐姆降增大； ?三 影響點(diǎn)蝕的因素 ? 1 環(huán)境因素 ? （ 1）介質(zhì)類型 ? 某些材料在一些特定的介質(zhì)中易產(chǎn)生點(diǎn)蝕。 ? （ 1） 在蝕孔底部： ? Fe和 Cr的溶解反應(yīng) eCrCreFeFe3232??????? （ 2） 在孔下部則壁 ? Cr3+的沉淀反應(yīng)、 Fe2+和部分 Cr3+與 Cl－ 的化合反應(yīng) ? （ 3） 在孔的上部 ? FeCl CrCl3的水解、析氫反應(yīng) 3322322332332C r C lClCrF e C lClFeHOCrOHCr???????????????????????????2323222223)(32)(2HeHHOHCrOHCrHOHFeOHFe?（ 4） 在孔口， ? 沉淀反應(yīng) OHF e O O HOHOHFeHOFeFeOHOHFeHOCrOHOHCrOHCrOHOHCr22432232232)(62)(24)(2)()(??????????????????????（ 5） 在蝕孔外部 ? 吸氧反應(yīng)： ? 銹層還原反應(yīng)： ? 點(diǎn)蝕發(fā)生后，由于自催化作用，溶液的 Cr3+離子一部分和 Fe2+離子一起擴(kuò)散、水解，而另一部分 Cr3+重新沉積在孔內(nèi)壁，使得孔內(nèi)壁形成鉻含量較高的表面層，溶液反應(yīng)集中在孔底部發(fā)生，其結(jié)果蝕孔成為較深坑。其結(jié)結(jié)果是蝕孔內(nèi)金 ? 屬不斷溶解，孔外表面發(fā)生氧的還原，使蝕孔以自 ? 催化過程發(fā)展，導(dǎo)致金屬小孔腐蝕而被破壞。