材料科學(xué)分析技術(shù)(掃描電子顯微鏡)(參考版)
2025-01-02 21:01本頁面
【正文】 演講完畢，謝謝觀看！ 。 50 雙相鋼 51 復(fù)合材料 52 ZnO納 米 線 的二次 電 子 圖 像 多孔氧化鋁模板制備的金納米線的形貌（ a）低倍像（ b）高倍像 納米材料形貌分析 53 原子序數(shù)襯度及其應(yīng)用 ? 原子序數(shù)襯度 是對樣品微區(qū)原子序數(shù)或化學(xué)成分變化敏感的物理信號(hào)作為調(diào)制信號(hào)得到的一種顯示微區(qū)化學(xué)成分差別的像襯度。 49 C 斷裂過程的動(dòng)態(tài)研究 有的型號(hào)的掃描電鏡帶有較大拉力的拉伸臺(tái)裝置，這就為研究斷裂過程的動(dòng)態(tài)過程提供了很大的方便。 45 （ 2）表面形貌襯度像的應(yīng)用 A 斷口分析 材料斷口的微觀形貌往往與其化學(xué)成分、顯微組織、制造工藝及服役條件存在密切聯(lián)系，所以斷口形貌的確定對分析斷裂原因常常具有決定性作用。 2）平面上的 SE產(chǎn)額較小，亮度較低。根據(jù)上述原理畫出二次電子形貌襯度的示意圖二次電子形貌襯度示意圖 44 對于實(shí)際樣品，表面形貌要比上面襯度的情況復(fù)雜得多，但形成二次電子襯度的原理是相同的。成像原理如圖所示，隨入射束與試樣表面法線夾角增大，二次電子產(chǎn)額增大。 42 表面形貌襯度原理及其應(yīng)用5 . 二次電子成像原理SE 信號(hào)主要用于分析樣品表面形貌。（ 5－10 nm范圍） ? 成像原理為：二次電子產(chǎn)額對微區(qū)表面的幾何形狀十分敏感。 39 40 掃描電鏡的像襯度及其應(yīng)用 掃描電鏡的像襯度主要是利用樣品表面微區(qū)特征(如形貌、原子序數(shù)或化學(xué)成分、晶體結(jié)構(gòu)或位向等 )的差異，在電子束作用下產(chǎn)生不同強(qiáng)度的物理信號(hào)，導(dǎo)致陰極射線管熒光屏上不同的區(qū)域不同的亮度差異，從而獲得具有一定襯度的圖像。對于導(dǎo)電性較差或絕緣的樣品若采用常規(guī)掃描電鏡來觀察，則必須通過噴鍍金、銀等重金屬或碳真空蒸鍍等手段進(jìn)行導(dǎo)電性處理。 掃描電鏡的景深為比一般光學(xué)顯微鏡景深大 100500倍，比透射電鏡的景深大 10 倍。 介于光學(xué)顯微鏡和透射電鏡之間。 日立 s570： 35 (2)放大倍數(shù) 掃描電鏡的放大倍數(shù)可用表達(dá)式 M=AC/AS 式中 AC是熒光屏上圖像的邊長， AS是電子束在樣品上的掃描振幅。 33 SEM的分辨率高低與檢測信號(hào)種類有關(guān)。 ? 入射電子束束斑直徑 ? 入射電子束在樣品中的擴(kuò)展效應(yīng) ? 成像方式及所用的調(diào)制信
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1