【正文】 系統(tǒng)特色:1) 作業(yè)系統(tǒng)： Win2000、Win XP 或 Win Vista2) 單一執(zhí)行檔，含檔案資料建立、分析、監(jiān)控、量測、提高操作之方便3) 資料輸入有防呆與指示功能，提高資料正確性4) 具有與 TFCalc 分析軟體相同檔案格式，方便資料建立，亦可直接將 TFCalc 設(shè)計之膜厚轉(zhuǎn)換至製程檔5) 較彈性之硬體設(shè)定，方便除錯、硬體設(shè)定互換或關(guān)閉6)多視窗顯示功能，可獨立放大、縮小或關(guān)閉7)具有溢鍍量扣減分析功能8)分析後，監(jiān)控波長選擇更具方便性9)可紀(jì)錄及鍍後顯示每一鍍膜層資料，包括廣波域光譜、監(jiān)控波長光譜變化、物理膜厚、蒸著速率、通氧流量、真空度變化、離子源相關(guān)變化量(Vd, Id…) ，方便檢知，利於問題的判斷與解決10)監(jiān)控過程更具彈性，隨時可中斷、暫停、省略或放棄11)掃瞄式融藥功能12)監(jiān)控中，參數(shù)變更即時生效，方便製程調(diào)整13)線上量測功能，可依狀況變換量測基準(zhǔn)，進(jìn)行量測 14)自動補層功能，大大提高膜層中斷補救之成功率 15)穩(wěn)定的蒸著速率調(diào)整及石英壽命檢測、自動石英振盪片切換，可提高製程之良品率 16)新增一些狀態(tài)檢測，如有不對，立即關(guān)閉遮板，停止電子鎗作動及發(fā)出警報，可大大降低不良率的發(fā)生 監(jiān)控系統(tǒng)簡要 項目：監(jiān)控方式可連接之硬體適用膜堆再現(xiàn)性備註光學(xué)監(jiān)控廣波域監(jiān)控系統(tǒng)(穿透式), 反射式單波長監(jiān)控(如OPM8,ASAHI…等等)MIRROR、IR、AR、R、G、B Filter佳圖一石英監(jiān)控STM100、SQC12SQM160、ICXTC2???AR、IR、金屬膜堆佳時間監(jiān)控單層膜、金屬膜較差光學(xué)膜厚監(jiān)控畫面：石英監(jiān)控畫面：時間監(jiān)控畫面：63 / 63。*點選單面反射，其操作方式跟2一樣，其輸入值及量測皆為單面反射率(R%)。2) 使用方法：，輸入基材穿透率(未鍍)後按”基材N計算”，便可穫得基材折射率；也可反向操作，先輸入基材折射率，再按”基材穿透率”，便可計算出基材穿透率。3) 計算步驟如下： Peak 測試(高折射率材料)或高點(低折射率材料)所對應(yīng)之波長與穿透率，務(wù)必由短波長循序輸入，計算後資料儲存於..REC\，其資料格式與TFCal之材料檔資料格式相容，更名存入相關(guān)路徑中，即可供製程分析呼叫或TFCal 分析呼叫，需點按”離開”鍵方可離開此計算畫面 計算NK值(單點) 1) 將游標(biāo)移至”其他功能”224。2)：測試新的藥材時，計算設(shè)計NK值或監(jiān)控NK值；或膜材重新測試計算使用。 參考光量掃瞄 暗區(qū)掃瞄 其他功能 此主下拉功能細(xì)分下列幾項次功能 計算NK值(3點) 計算NK值(單點) 計算NK值(3點) 1) 將游標(biāo)移至”其他功能”224。3) *Substate：若選擇基板材料，則基準(zhǔn)光譜與基材光譜一樣，一般使用它，可不必拆下監(jiān)控片就可量測其光譜量。2) 按鍵說明：：儲存設(shè)定且關(guān)閉設(shè)定畫面。 基準(zhǔn)線參數(shù)1) 將游標(biāo)移至”線上量測”224。2) 按鍵說明：：儲存設(shè)定且關(guān)閉設(shè)定畫面。 量測參數(shù)1) 將游標(biāo)移至”線上量測”224。2. 退出：按下此鍵立即退出量測?！绷繙y”點選，在此畫面即可進(jìn)行穿透率光譜量測。5. 量測：實際置放量測物於光路上進(jìn)行量測，若要檢測光譜雜訊，不必放置任何東西。3. 量測參數(shù)：設(shè)定穿透率量測範(fàn)圍，如要利用此量測檢測光譜雜訊，建議範(fàn)圍設(shè)為99%101%，較易觀察。 線上量測此主下拉功能細(xì)分下列幾項次功能 量測 量測參數(shù) 基準(zhǔn)線參數(shù) 參考光量掃瞄 暗區(qū)掃瞄 1) 鍍膜機安裝有廣波域光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)方能使有此項功能，有如一臺可即時量測光譜之光譜儀。此圖可看出三段式預(yù)融情形，在此狀態(tài)下，有必要時，隨時都可利用狀態(tài)訊息圖中的”省略”鍵省略之，跳至下一個程序，或”放棄”鍵離開製程監(jiān)控。 蒸著製程鍍藥預(yù)融1) 當(dāng)製程進(jìn)入膜材預(yù)融程序。在真空的模式時，綠色直線是真空設(shè)定值，紅色曲線是即時真空值，由其曲線變化可看出氧流量調(diào)節(jié)是否適當(dāng)；在定流量的模式時，只有顯示真空即時值，以紅色曲線表示之。 蒸著製程真空訊息1) 當(dāng)蒸著源遮板打開進(jìn)入實際蒸著後。在定流量的模式(通氧模式:4)時，綠色直線是流量設(shè)定值，紅色曲線是流量即時值；在定真空的模式(通氧模式:3)時，只有顯示流量即時值，以紅色曲線表示之，由其曲線變化可看出氧流量調(diào)節(jié)是否適當(dāng)。 蒸著製程氧氣流量訊息1) 當(dāng)蒸著源遮板打開進(jìn)入實際蒸著後。由圖可看出蒸著速率是否調(diào)節(jié)適當(dāng)。 蒸著製程蒸著速率訊息1) 蒸著膜層若是有設(shè)定蒸著速率，在蒸著源遮板打開後。橫座標(biāo)是時間軸(sec)，縱座標(biāo)是石英膜厚(kA)，綠色直線是設(shè)定膜厚，紅色曲線是即時膜厚偵測值。 蒸著製程石英膜厚訊息1) 蒸著膜層若是石英膜厚監(jiān)控，在蒸著源遮板打開後。譬如說：低折射率膜層穿透率增加，曲線向上，高折射率膜層穿透率降低，曲線向下。2) 此圖所顯示是一個蒸著過程中監(jiān)控波長隨時間之變化，橫座標(biāo)是時間軸(sec)，縱座標(biāo)是光量變化率(%)。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能，蒸著中若關(guān)閉此圖，可藉由點選”蒸著製程廣波域訊息”，即可顯示出。2) 此圖所顯示是一個蒸著過程中即時反應(yīng)的廣波域，橫座標(biāo)是波長(nm)，縱座標(biāo)是光量穿透率(%)。 4) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能，蒸著中若關(guān)閉此圖，可藉由點選”蒸著製程狀態(tài)訊息”，即可顯示出。 ：顯示現(xiàn)在石英膜厚(石英膜厚監(jiān)控)。 ：顯示此層監(jiān)控模式為光學(xué)膜厚或石英膜厚或時間監(jiān)控。 16. 遮板：顯示遮板開或關(guān)。 (流量)：顯示此層所設(shè)定的真空或流量，與通氧模式有關(guān)。 12. 層時間：顯示進(jìn)入此層至此時之總時間。 10. POWER：顯示此層蒸鍍功率現(xiàn)在值。 8. 流量：顯示現(xiàn)在流量設(shè)定值。 6. 掃瞄點：顯示現(xiàn)在監(jiān)控掃瞄點數(shù)。 4. 坩堝：顯示坩堝現(xiàn)在位置。 ：顯示現(xiàn)在蒸鍍之膜層。其微調(diào)增量見製程組態(tài)參數(shù)。 率：在固定功率蒸著的情況下，可利用此鍵即時進(jìn)行功率微調(diào)，其微調(diào)增量見製程組態(tài)參數(shù)。：在沒有設(shè)定速率蒸著的膜層，此功能鍵無效。：按下此功能，將切為自動換層。 略：按下此功能，將省略正在進(jìn)行之步驟，如電子鎗預(yù)融、坩堝監(jiān)控片定位、真空調(diào)節(jié)、等待真空、等待時間等等，進(jìn)行下一個步驟。若要繼續(xù)蒸著就需點按”自動繼續(xù)”或手動繼續(xù)，方能打開遮板繼續(xù)蒸鍍。若是設(shè)定手動換層時，膜層到達(dá)設(shè)定膜厚，勢必按下此鍵，才能完成此層，進(jìn)入下一層。2) 此畫面除了顯示蒸著的設(shè)定與即時訊息外，也提供了幾項按鍵功能，若系統(tǒng)是完全自動，在無異?；蛐薷牡那闆r下，無需動用到這些功能。若有需要修改膜厚，亦可利用此功能，記錄原監(jiān)控波長，分析後再點選相同監(jiān)控波長，可增加監(jiān)控的準(zhǔn)確性。2) 使用者點選監(jiān)控波長後，可藉由此監(jiān)控波長顯示，再次確認(rèn)是否選擇適當(dāng)、是否需重新點選。 監(jiān)控波長顯示1) 將游標(biāo)移至”製程監(jiān)控”224。5) 一般在外在溫度變化不大的環(huán)境下，是不太需要常常作暗區(qū)掃瞄。3) 在進(jìn)行暗區(qū)掃瞄取樣時，切記要關(guān)閉光源或遮住光量，使其無法進(jìn)入光譜系統(tǒng)，確保取樣資料正確。：若需更新，就需利用”儲存”鍵儲存退出?！卑祬^(qū)掃瞄”點選，即可進(jìn)入暗區(qū)掃瞄畫面，提供了”功能”、”儲存”、”取消”及”顯示”等功能。4) 若系統(tǒng)有設(shè)定參考光量檢測，建議操作者等抽氣穩(wěn)定、溫定穩(wěn)定及在新監(jiān)控片下掃瞄儲存光量資料，再進(jìn)入蒸著製程。如參考光量基準(zhǔn):50000，容差上限:%，容差下限:%，若初始光量沒有落在4500052500之間則會出現(xiàn)報警。：按下此鍵，再經(jīng)通關(guān)密碼，即可儲存此光量資料作為 製程中自動參考光量掃瞄檢查基準(zhǔn)，其是否檢查與檢查容差設(shè)定底下說明。：當(dāng)參考光量在製程中自動掃瞄時，會自動儲存，切勿人為儲存；手動進(jìn)入?yún)⒖脊饬繏呙椋粜韪?，就需利用”儲存”鍵儲存退出。”參考光量掃瞄”點選，即可進(jìn)入?yún)⒖脊饬繏呙閿X取畫面，提供了”功能”、”儲存檢測光量” 、”設(shè)定檢測光量容差”、”儲存”、”取消”及”顯示”等功能。7) 若系統(tǒng)含有電極功能，也是使用此參數(shù)組預(yù)融、作動，但SCSC2與SC3是沒有作用的。建議如有新添加膜材，則預(yù)融時間要拉長，一般第一層高折射率材料需特別注意。2) 參數(shù)說明: ：電子鎗設(shè)定組編碼(按順序編號)，提供呼叫使用 2. TR1：第一段預(yù)融上升時間設(shè)定(sec) 3. TS1：第一段預(yù)融停留時間設(shè)定(sec) 4. TS1：第一段預(yù)融停留時間設(shè)定(sec) 5. TR2：第二段預(yù)融上升時間設(shè)定(sec) 6. TS2：第二段預(yù)融停留時間設(shè)定(sec) 7. TR3：第三段預(yù)融上升時間設(shè)定(sec) 8. TS3：第三段預(yù)融停留時間設(shè)定(sec) 9. PW1：第一段預(yù)融電流設(shè)定(010) 10. PW2：第二段預(yù)融電流設(shè)定(010) 11. PW3：第三段預(yù)融電流設(shè)定(010) 12. SC1：第一段預(yù)融(TR1跟TS1)所使用的電子鎗掃瞄組 13. SC2：第二段預(yù)融(TR2跟TS2)所使用的電子鎗掃瞄組 14. SC3：第三段預(yù)融(TR3跟TS3)所使用的電子鎗掃瞄組 ：作動之電子鎗遮板編號 ：作動之修正板編碼 0：修正板維持現(xiàn)狀，沒有動作 1：左修正板上，右修正板下 2：左修正板下