精密與特種加工技術(shù)第十一章其他精密與特種加工技術(shù)-wenkub.com
2025-05-06 14:52 本頁面
【正文】 磁性磨料研磨加工技術(shù)還可以用于油泵齒輪、軸瓦、軸承、異型螺紋滾子等的研磨拋光。 44 2．磁力研磨階梯形零件 (下圖所示 ) 利用磁力研磨方法拋光圓柱階梯形零件，可以將棱邊上20~30高度的毛刺在幾分鐘內(nèi)去除，研磨成的棱邊圓角半徑為 ，這是其他方法無法或者很難實現(xiàn)的，在精密耦合件中用來拋光和去毛刺十分有效。同時，磁極形狀的設計應使磁性磨料在加工間隙中受到更大的磁場力，從而提高磁力研磨的加工效率。加工間隙大小的值應根據(jù)具體的加工要求而定。一般粗加工時應選用較大的磁場強度。 40 加工工藝參數(shù)對加工質(zhì)量的影響 1. 磁場強度的影響 加工間隙中的磁感應強度大小可以通過改變勵磁電壓的大小來控制。把工件放入 NS磁極中間，并使工件相對 N極和 S極保持一定的距離，當工件相對磁極作相對運動時，磁性磨料將對工件表面進行研磨加工。這兩種方式都能進行拋光、去毛刺和棱邊倒圓。 SHRINC方法也可用在準分子激光照明情況下，并可與相移掩模結(jié)合使用。 ，而振幅可能相同，也可能不同，隨相移掩模種類而定。通常、采用刻蝕系數(shù) Kf來反映刻蝕向縱向深入和向側(cè)向刻蝕的情況，刻蝕系數(shù)表示為 Et=2D/(W2W1)=D/R。制造工藝可分為版圖設計、掩模原版制造、主掩模制造和工作掩模制造四個主要階段。光刻是加工制作半導體結(jié)構(gòu)或器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝技術(shù)，其原理與印刷技術(shù)中的照相制版相似：在硅等基體材料上涂覆光致抗蝕劑 (或稱為光刻膠 )，然后利用極限分辨率極高的能量束來通過掩模對光致抗蝕劑層進行曝光 (或稱光刻 )。為了引導介質(zhì)到所需的零件部位進行切削，可以對夾具進行特殊設計，在某些部位進行阻擋、拐彎、干擾，迫使黏彈性磨料通過所需要加工的部位。它主要用于傳遞壓力，攜帶磨粒流動以及起潤滑作用。切削均勻性可以保持在被切削量的10%以內(nèi)，因此，也不至于破壞零件原有的形狀精度。磨料流動加工可以去除在 ，可以去除前面工序 (如電火花加工、激光加工等 )形成的表面變質(zhì)層和其他表面微觀缺陷。 24 擠 壓 珩 磨 擠壓珩磨在國外稱磨料流動加工 (Abrasive Flow Machining， AFM)，是 20世紀 70年代發(fā)展起來的一項表面加工的新技術(shù)，最初主要用于去除零件內(nèi)部通道或隱蔽部分的毛刺而顯示出優(yōu)越性，隨后擴大應用到零件表面的拋光。切割不銹鋼、鋁及其合金的厚度一般為 3~100mm。除了平面成形切割外，還有用于車削、開槽、鉆孔和刨削的等離子體加工設備。 加工后的表面粗糙度 Ra通常為 ~，熱影響層分布的深度為 1~5mm，決定于工件的熱學性質(zhì)、加工速度、切割深度，以及所采用的加工參數(shù)。對厚度小于 25mm的金屬，切縫寬度通常為 ~5mm；厚度達 150mm的金屬，切縫寬度為 10~20mm。 ~7176。在電弧外圍不斷送入工質(zhì)氣體，回旋的工質(zhì)氣流還形成與電弧柱相應的氣體鞘，壓縮電弧，使其電流密度和溫度大大提高。該裝置由直流電源供電，鎢電極 5接陰極，工件 9接陽極。因此，一般情況下水射流的工業(yè)切割均采用磨料射流介質(zhì)。水射流的應用起源于采礦業(yè)，后來較多用于工業(yè)清洗、工業(yè)除銹和工業(yè)切割。鍍前還應對工件表面除油、去銹等作凈化處理。 其特點是：有很好的均鍍能力，鍍層厚度均勻，這對大表面和精密復雜零件很重要；被鍍工件可為任何材料，包括非導體如玻璃、陶瓷、塑料等；不需電源，設備簡單；鍍液一般可連續(xù)、再生使用。溫度從室溫到 90℃ ，時間自數(shù)秒到數(shù)分鐘，只有材料、溶液成分經(jīng)試驗后才能確定最佳值。其缺點是化學拋光效果比電解拋光效果差，且拋光液用后處理較麻煩。它與化學蝕刻 (化學銑削 )的主要區(qū)別是不靠樣板人工刻形、劃線，而是用照相感光來確定工件表面要蝕除的圖形、線條，因此可以加工出非常精細的文字圖案，目前已在工藝美術(shù)、機制工業(yè)和電子工業(yè)中獲得應用。如在航空和航天工業(yè)中常用于局部減小結(jié)構(gòu)件的質(zhì)量，對大面積或不利于機械加工的薄壁形整體
環(huán)評公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1