【正文】 色) 上頁 下頁 目錄 返回 ● 滴定措施 （ 1）加入糊精保護(hù)膠體，防止 AgCl沉淀過分凝聚。 （ 2） Cl在 dm3以上； Br,I,SCN濃度低至 mol dm3時(shí)仍可準(zhǔn)確滴定。 （ 3）避免在強(qiáng)的陽光下進(jìn)行滴定。 （ 4）膠體顆粒對(duì)指示劑的吸附能力略小于對(duì)待測(cè)離子的 吸附力。太大終點(diǎn)提前，太小終點(diǎn)推遲。 AgX吸附能力 ISCNBr曙紅 Cl 熒光黃 （ 5）酸度范圍不同 : 熒光黃 (熒光素 ) 黃綠色 (有熒光 )粉紅色 7～ 10 二氯熒光黃 黃綠色 (有熒光 )紅色 4～ 10 曙紅 (四溴熒光黃 ) 橙黃色 (有熒光 )紅紫色 2～ 10 上頁 下頁 目錄 返回 銀量法的標(biāo)準(zhǔn)溶液 1. 標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制方法 ★ 間接配制法： 標(biāo)定法：利用基準(zhǔn)物質(zhì)確定溶液準(zhǔn)確濃度 比較法：用一種已知濃度的標(biāo)液來確定另一種溶液 的濃度方法 ★ 直接配制法： 基準(zhǔn)物質(zhì) 稱量 溶解 定量轉(zhuǎn)移至容量 瓶 稀釋至刻度 根據(jù)稱量的質(zhì)量和體積計(jì)算 標(biāo)準(zhǔn)溶液的準(zhǔn)確濃度 上頁 下頁 目錄 返回 2. AgNO3標(biāo)準(zhǔn)溶液 方 法： 直接配制法或間接配制法，視 AgNO3純度 而定。 標(biāo)定基準(zhǔn)： NaCl 系統(tǒng)誤差 : 采用相同的標(biāo)定方法和測(cè)定方法 ,抵消方法 的系統(tǒng)誤差。 3. NH4SCN標(biāo)準(zhǔn)溶液 先配制成近似濃度的溶液 , 然后用 AgNO3標(biāo)準(zhǔn)溶液按佛爾哈德法標(biāo)定 。 上頁 下頁 目錄 返回 與沉淀有關(guān)的一些概念與沉淀有關(guān)的一些概念1. 影響沉淀溶解度的因素 (1) 同離子效應(yīng) (2) 鹽效應(yīng) (3) 酸效應(yīng) (4) 絡(luò)合效應(yīng) c(Cl)大于 moldm3時(shí)，絡(luò)合效應(yīng)為主， c(Cl)小于 moldm3時(shí)，同離子效應(yīng)為主； 沉淀劑過量 103~ 102 moldm3， 沉淀的溶解度最小。 Ag+ + Cl = AgCl Cl ??? 34232 A g C l,A g C l,A g C l上頁 下頁 目錄 返回 （ 5）其他影響因素 ● 溫度 ● 沉淀顆粒 ● 溶劑 PbSO4 水中 S=45 mg dm3 30%乙醇水溶液中 S= mg dm3 SrSO4 沉淀 大顆粒 S = 104 mol dm3 S = 104 mol dm3 增大 8% m S = 104 mol dm3 增大 50% 上頁 下頁 目錄 返回 2. 影響沉淀粒度的因素 ● 沉淀的形成過程 構(gòu)晶離子 晶 核 沉淀顆粒 成核作用 長(zhǎng)大過程 晶形沉淀 無定型 沉 淀 成長(zhǎng)，定向排列 凝聚 上頁 下頁 目錄 返回 特點(diǎn) 晶形沉淀 凝乳狀沉淀 無定形沉淀 直徑 ～ 1μm ～ 小于 結(jié)構(gòu) 規(guī)則 ,緊密 疏松 ,無規(guī)則 溶解度 較大 較小 純度 高 含大量水 處理 易過濾 ,洗滌 不易過濾 ,洗滌 示例 BaSO4 AgCl Fe2O3nH2O 105 1010 1010 ● 幾種類型沉淀的比較 θspK上頁 下頁 目錄 返回 Question 17 Solution 怎樣降低沉淀的溶解度 ? 1. 控制操作溫度 2. 控制沉淀的粒度 陳化過程不但能夠降低 沉淀的溶解度，而且也 能使其變得更純凈。 3. 變換溶劑 往水溶液中加入能與水混溶的有機(jī)溶劑（如乙醇、丙 酮等）可以降低沉淀的溶解度。 大晶體 小晶體 轉(zhuǎn)化 上頁 下頁 目錄 返回 ● 分散度 馮 ?韋曼 (Weimarn Von) 經(jīng)驗(yàn)公式： 分散度 =K （ QS） /S Q：沉淀劑加入瞬間構(gòu)晶離子的濃度； S： 沉淀的溶解度； (Q –S)： 過飽和度 ， 引起沉淀作用的動(dòng)力； (Q S） /S： 相對(duì)過飽和度； K： 為常數(shù) ， 與沉淀性質(zhì) 、 介質(zhì)及溫度等有關(guān) . 該式表明：熱溶液 （ S較大 ） 、 稀溶液 （ Q較小 ） 、 加入沉淀劑時(shí)不斷攪拌 （ 降低局部過飽和度 ） 有利于形成分散度較小 （ 即顆粒較大 ） 的沉淀 。 上頁 下頁 目錄 返回 3. 影響沉淀純度的因素 1. 共沉淀 Coprecipitation 沉淀析出過程中 , 將實(shí)驗(yàn)條件下本來可溶的某 些其他組分一起帶下混入沉淀的現(xiàn)象叫共沉淀。 ★ 表面吸附 : 由沉淀表面上離子電荷的不完全平衡而引起 Ba2+ Cl Ba2+ Ba2+ Ba2+ Ba2+ Ba2+ Ba2+ Ca2+ Ca2+ Cl Cl K+ Na+ 吸附層 擴(kuò)散層 ?24SO?24SO?24SO?24SO ?24SO?24SO?24SO ?24SO?24SO?24SO?3NO上頁 下頁 目錄 返回 ★ 吸留： 沉淀生成速率太快 , 導(dǎo)致表面吸附的雜質(zhì)離子 來不及離開沉淀表面 , 而被后來沉淀上去的離 子覆蓋在沉淀內(nèi)部的共沉淀現(xiàn)象。 不能用洗滌方法除去，可通過陳化或重結(jié) 晶的方法予以減少。 ★ 混晶或固溶體的生成 : 若溶液中雜質(zhì)離子與沉淀構(gòu)晶離子的半徑相近 、 晶體結(jié)構(gòu)相似時(shí) ， 形成混晶共沉淀 。 如 BaSO4－ PbSO4； AgCl－ AgBr； BaSO4－ KMnO4 減少或消除混晶生成的最好方法 ， 是將雜質(zhì)事先 分離除去 。 上頁 下頁 目錄 返回 2. 后沉淀 Postprecipitation 一種本來難于析出沉淀的物質(zhì)，或是形成穩(wěn)定的過飽和溶液而不能單獨(dú)沉淀的物質(zhì)，在另一種組分沉淀之后 被“誘導(dǎo)”而隨后也沉淀下來的現(xiàn)象，且它們沉淀的量隨放 置的時(shí)間而加多。 產(chǎn)生原因可能與主沉淀吸附過量 沉淀劑有關(guān) , 主沉淀表面較高的沉淀 劑濃度導(dǎo)致雜質(zhì)離子濃度與沉淀劑離 子濃度的乘積大于其溶度積常數(shù)。 Zn Cu S S S 上頁 下頁 目錄 返回 ★ 后沉淀引入雜質(zhì)的量，隨沉淀在試液中放置時(shí)間增 加而增加，而共沉淀量受放置時(shí)間影響小。 ★ 不論雜質(zhì)是在沉淀之前就存在的，還是沉淀后加入 的，后沉淀引入雜質(zhì)的量基本上一致。 ★ 溫度升高，后沉淀現(xiàn)象更為嚴(yán)重。 ★ 后沉淀引入雜質(zhì)的量，有時(shí)比共沉淀嚴(yán)重得多。 在重量分析法中，共沉淀和后沉淀是消極因素，而在痕量組分富集分離中，卻是一種積極因素。 共沉淀與后沉淀現(xiàn)象的區(qū)別共沉淀與后沉淀現(xiàn)象的區(qū)別上頁 下頁 目錄 返回 ● 選擇適當(dāng)?shù)姆治霾襟E。 ● 選擇合適沉淀劑。 ● 改變雜質(zhì)的存在形式。 ● 改善沉淀?xiàng)l件。 ● 再沉淀：將得到的沉淀過濾后溶解，再進(jìn)行第二次沉淀。 4. 減少沉淀玷污的方法 沉淀?xiàng)l件 混晶 表面吸附 吸留或包夾 后沉淀 稀 溶 液 慢 沉 淀 攪 拌 沉 化 加 熱 洗滌沉淀 再 沉 淀 0 不定 0 不定 不定 0 + + + + + + + + 0 – 0 – 0 0 + + + + + + 0 +