利用射頻濺射法鍍金屬薄膜-資料下載頁
2025-06-26 20:55本頁面
【正文】 ，在軸向等距離的環(huán)形表面形成刻蝕區(qū),因而影響沉積薄膜厚度的均勻性,而且靶材利用率僅為20%～30%。而應(yīng)用旋轉(zhuǎn)圓柱磁控濺射靶可以解決這一缺點(diǎn)。（2）對于制備的薄膜層不牢的主要原因是基片表面不清潔。經(jīng)過機(jī)械的物理作用和化學(xué)的水解作用拋光的光學(xué)元件表面，并不是絕對光滑，其表面或多或少殘留部分雜質(zhì)，非常細(xì)微的雜質(zhì)粉末易腐蝕材料與水氣分子結(jié)合產(chǎn)生的水解層等都會(huì)使基體表面和膜層之間的結(jié)合力變小，在受到機(jī)械沖擊或冷熱變化時(shí)膜層產(chǎn)生脫落?？梢郧逑辞暗念A(yù)處理解決生脫落。解決辦法：首先，用機(jī)械的辦法。如脫脂棉球蘸酒精乙醚混合液稍稍用力擦拭鏡片表面，去除粘在鏡片表面不易清洗掉的雜質(zhì)；去除表面輕微的腐蝕層。其次，超聲波清洗機(jī)的清洗。經(jīng)過堿水去除表面的油污及部分雜質(zhì)；經(jīng)過純凈水去除表面的堿性雜質(zhì)和大部分灰塵(因純凈水呈弱酸性)；經(jīng)過異丙醇去除表面的水分；烘干即可。（3）氣壓對薄膜結(jié)合力的影響薄膜的形成是靶材粒子經(jīng)過吸附、凝結(jié)、表面擴(kuò)散遷移、碰撞結(jié)合形成穩(wěn)定晶核，然后再通過吸附使晶核長大成小島，島長大后互相聯(lián)結(jié)聚結(jié)，最后形成連續(xù)狀薄膜。氣壓的大小影響粒子能量，進(jìn)而影響薄膜晶核的形成氣壓過低時(shí)，濺射粒子能量大，在基片上容易形成小丘或空洞，造成薄膜缺陷；隨著壓強(qiáng)的升高，濺射粒子在飛向基片的過程中與氬氣原子碰撞幾率增加，到達(dá)基片時(shí)能量減小，有利于去除高能造成的缺陷；但當(dāng)氣壓太高時(shí)，濺射粒子到達(dá)基片時(shí)能量太低，又影響到薄膜的結(jié)晶。（4）濺射功率對薄膜質(zhì)量的影響在不同濺射功率下制備鋁膜，隨著功率的不斷增加，附著力越來越好實(shí)驗(yàn)說明，功率太小會(huì)使膜層結(jié)構(gòu)疏松、顆粒大；提高功率，部分高能濺射粒子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在薄膜與基片之間形成偽擴(kuò)散層，提高附著力。但是，當(dāng)功率太高時(shí)，由于膜層內(nèi)應(yīng)力增大，會(huì)導(dǎo)致膜層破裂。6 實(shí)驗(yàn)總結(jié)本實(shí)驗(yàn)是有關(guān)真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)性實(shí)驗(yàn)，屬于技術(shù)性實(shí)驗(yàn)，通過這個(gè)實(shí)驗(yàn)讓我進(jìn)一步熟悉真空獲得和測量，學(xué)會(huì)使用磁控濺射鍍膜技術(shù)，了解磁控濺射鍍膜的原理及方法和了解真空鍍膜技術(shù)。同時(shí)培養(yǎng)了我嚴(yán)謹(jǐn)?shù)淖黠L(fēng)，提供了極好的學(xué)習(xí)與實(shí)踐機(jī)會(huì)，獲得了一些鍍膜經(jīng)驗(yàn)。5近代物理實(shí)驗(yàn)200705023
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