利用射頻濺射法鍍金屬薄膜-資料下載頁
2025-06-26 20:55本頁面
【正文】 ，在軸向等距離的環(huán)形表面形成刻蝕區(qū),因而影響沉積薄膜厚度的均勻性,而且靶材利用率僅為20%～30%。而應用旋轉圓柱磁控濺射靶可以解決這一缺點。（2）對于制備的薄膜層不牢的主要原因是基片表面不清潔。經過機械的物理作用和化學的水解作用拋光的光學元件表面，并不是絕對光滑，其表面或多或少殘留部分雜質，非常細微的雜質粉末易腐蝕材料與水氣分子結合產生的水解層等都會使基體表面和膜層之間的結合力變小，在受到機械沖擊或冷熱變化時膜層產生脫落?？梢郧逑辞暗念A處理解決生脫落。解決辦法：首先，用機械的辦法。如脫脂棉球蘸酒精乙醚混合液稍稍用力擦拭鏡片表面，去除粘在鏡片表面不易清洗掉的雜質；去除表面輕微的腐蝕層。其次，超聲波清洗機的清洗。經過堿水去除表面的油污及部分雜質；經過純凈水去除表面的堿性雜質和大部分灰塵(因純凈水呈弱酸性)；經過異丙醇去除表面的水分；烘干即可。（3）氣壓對薄膜結合力的影響薄膜的形成是靶材粒子經過吸附、凝結、表面擴散遷移、碰撞結合形成穩(wěn)定晶核，然后再通過吸附使晶核長大成小島，島長大后互相聯結聚結，最后形成連續(xù)狀薄膜。氣壓的大小影響粒子能量，進而影響薄膜晶核的形成氣壓過低時，濺射粒子能量大，在基片上容易形成小丘或空洞，造成薄膜缺陷；隨著壓強的升高，濺射粒子在飛向基片的過程中與氬氣原子碰撞幾率增加，到達基片時能量減小，有利于去除高能造成的缺陷；但當氣壓太高時，濺射粒子到達基片時能量太低，又影響到薄膜的結晶。（4）濺射功率對薄膜質量的影響在不同濺射功率下制備鋁膜，隨著功率的不斷增加，附著力越來越好實驗說明，功率太小會使膜層結構疏松、顆粒大；提高功率，部分高能濺射粒子產生不同程度的注入現象，在薄膜與基片之間形成偽擴散層，提高附著力。但是，當功率太高時，由于膜層內應力增大，會導致膜層破裂。6 實驗總結本實驗是有關真空鍍膜技術的基礎性實驗，屬于技術性實驗，通過這個實驗讓我進一步熟悉真空獲得和測量，學會使用磁控濺射鍍膜技術，了解磁控濺射鍍膜的原理及方法和了解真空鍍膜技術。同時培養(yǎng)了我嚴謹的作風，提供了極好的學習與實踐機會，獲得了一些鍍膜經驗。5近代物理實驗200705023
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