【正文】 量大，在基片上容易形成小丘或空洞，造成薄膜缺陷；隨著壓強的升高，濺射粒子在飛向基片的過程中與氬氣原子碰撞幾率增加，到達基片時能量減小，有利于去除高能造成的缺陷；但當氣壓太高時，濺射粒子到達基片時能量太低，又影響到薄膜的結(jié)晶。如脫脂棉球蘸酒精乙醚混合液稍稍用力擦拭鏡片表面，去除粘在鏡片表面不易清洗掉的雜質(zhì)；去除表面輕微的腐蝕層。觀測鐘罩內(nèi)真空度在3Pa以上以后；（2）將低閥置于“抽系統(tǒng)位置”，打開高閥，接通擴散泵開關(guān)對擴散泵加熱。在濺射過程中，由于磁場力的作用，一方面在陰極靶的周圍，形成一個高密度的輝光等離子區(qū)，在該區(qū)域電離出大量的Ar+來轟擊靶的表面，濺射出大量的金屬粒子向工件表面沉積；另一方面，二次電子在加速飛向靶表面的同時，受到磁場B的洛倫茲力作用，以擺線和螺旋線的復(fù)合形式在靶表面作圓周運動。1 實驗?zāi)康蘑?熟悉真空獲得的操作過程和方法；② 了解磁控濺射鍍膜的原理及方法；③ 學會使用磁控濺射鍍膜技術(shù)。磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業(yè)主要方法之一。氬氣在靜電場正的作用下，電離并產(chǎn)生高能的氬離子Ar+和二次電子。氣動調(diào)節(jié)閥由執(zhí)行機構(gòu)和調(diào)節(jié)機構(gòu)組成。接通擴散泵冷水。經(jīng)過機械的物理作用和化學的水解作用拋光的光學元件表面，并不是絕對光滑，其表面或多或少殘留部分雜質(zhì)，非常細微的雜質(zhì)粉末易腐蝕材料與水氣分子結(jié)合產(chǎn)生的水解層等都會使基體表面和膜層之間的結(jié)合力變小，在受到機械沖擊或冷熱變化時膜層產(chǎn)生脫落。6 實驗總結(jié)本實驗是有關(guān)真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)性實驗，屬于技術(shù)性實驗，通過這個實驗讓我進一步熟悉真空獲得和測量，學會使用磁控濺射鍍膜技術(shù)，了解磁控濺射鍍膜的原理及方法和了解真空鍍膜技術(shù)。清理鍍膜室，扣下鐘罩。故有時又稱為故障開啟型。平面磁控靶按靶面形狀分，又有圓形和矩形兩種，它制備的膜厚均勻性好，對大面積的平板可連續(xù)濺射鍍膜，適合于大面積和大規(guī)模的工業(yè)化生產(chǎn)。外涂料有丙烯酸類、氨基甲酸酯類。利用射頻濺射法鍍金屬薄膜實驗3 利用射頻濺射法鍍金屬薄膜實驗時間：