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龍翩真空鍍膜自動(dòng)化手冊(cè)-資料下載頁(yè)

2025-06-24 21:34本頁(yè)面
  

【正文】 顯示進(jìn)入此層至此時(shí)之總時(shí)間。 :顯示此層之監(jiān)控波長(zhǎng)(光學(xué)膜厚監(jiān)控)。 (流量):顯示此層所設(shè)定的真空或流量,與通氧模式有關(guān)。 15. 電子鎗:顯示現(xiàn)在所使用之電子鎗。 16. 遮板:顯示遮板開(kāi)或關(guān)。 :1:自動(dòng)換層,0:手動(dòng)換層。 :顯示此層監(jiān)控模式為光學(xué)膜厚或石英膜厚或時(shí)間監(jiān)控。 19. 換層:顯示為手動(dòng)換層或自動(dòng)換層。 :顯示現(xiàn)在石英膜厚(石英膜厚監(jiān)控)。 :顯示現(xiàn)在石英壽命(有石英振盪器之裝置)。 4) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程狀態(tài)訊息”,即可顯示出。 蒸著製程廣波域訊息1) 蒸著膜層若是光學(xué)膜厚監(jiān)控(廣波域監(jiān)控系統(tǒng)),在蒸著源遮板打開(kāi)後。2) 此圖所顯示是一個(gè)蒸著過(guò)程中即時(shí)反應(yīng)的廣波域,橫座標(biāo)是波長(zhǎng)(nm),縱座標(biāo)是光量穿透率(%)。圖中之綠色曲線(xiàn)是設(shè)計(jì)波形,紅色曲線(xiàn)是經(jīng)由監(jiān)控片實(shí)際量測(cè)到之波形。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程廣波域訊息”,即可顯示出。 蒸著製程監(jiān)控波長(zhǎng)訊息1) 蒸著膜層若是光學(xué)膜厚監(jiān)控,在蒸著源遮板打開(kāi)後。2) 此圖所顯示是一個(gè)蒸著過(guò)程中監(jiān)控波長(zhǎng)隨時(shí)間之變化,橫座標(biāo)是時(shí)間軸(sec),縱座標(biāo)是光量變化率(%)。圖中之綠色曲線(xiàn)是設(shè)計(jì)之穿透率變化曲線(xiàn)(由製程分析選取),紅色曲線(xiàn)是實(shí)際變化曲線(xiàn)。譬如說(shuō):低折射率膜層穿透率增加,曲線(xiàn)向上,高折射率膜層穿透率降低,曲線(xiàn)向下。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程監(jiān)控波長(zhǎng)訊息”,即可顯示出。 蒸著製程石英膜厚訊息1) 蒸著膜層若是石英膜厚監(jiān)控,在蒸著源遮板打開(kāi)後。2) 此圖所顯示是一個(gè)蒸著過(guò)程中即時(shí)石英膜厚擷取,膜厚到達(dá)設(shè)定值就會(huì)自動(dòng)切換到下一層。橫座標(biāo)是時(shí)間軸(sec),縱座標(biāo)是石英膜厚(kA),綠色直線(xiàn)是設(shè)定膜厚,紅色曲線(xiàn)是即時(shí)膜厚偵測(cè)值。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程石英膜厚訊息”,即可顯示出。 蒸著製程蒸著速率訊息1) 蒸著膜層若是有設(shè)定蒸著速率,在蒸著源遮板打開(kāi)後。2) 此圖所顯示是一個(gè)蒸著過(guò)程中蒸著速率調(diào)節(jié)變化情形,橫座標(biāo)是時(shí)間軸(sec),縱座標(biāo)是蒸著速率(A/Sec),綠色直線(xiàn)是速率設(shè)定值,紅色曲線(xiàn)是即時(shí)速率偵測(cè)值。由圖可看出蒸著速率是否調(diào)節(jié)適當(dāng)。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程蒸著速率訊息”,即可顯示出。 蒸著製程氧氣流量訊息1) 當(dāng)蒸著源遮板打開(kāi)進(jìn)入實(shí)際蒸著後。2) 此圖所顯示是蒸著過(guò)程中氧流量隨時(shí)間的變化情形,橫座標(biāo)是時(shí)間軸(sec),縱座標(biāo)是流量值(SCCM)。在定流量的模式(通氧模式:4)時(shí),綠色直線(xiàn)是流量設(shè)定值,紅色曲線(xiàn)是流量即時(shí)值;在定真空的模式(通氧模式:3)時(shí),只有顯示流量即時(shí)值,以紅色曲線(xiàn)表示之,由其曲線(xiàn)變化可看出氧流量調(diào)節(jié)是否適當(dāng)。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程氧流量訊息”,即可顯示出。 蒸著製程真空訊息1) 當(dāng)蒸著源遮板打開(kāi)進(jìn)入實(shí)際蒸著後。2) 此圖所顯示是蒸著過(guò)程中真空度隨時(shí)間的變化情形,橫座標(biāo)是時(shí)間軸(sec),縱座標(biāo)是流量值(E5Torr)。在真空的模式時(shí),綠色直線(xiàn)是真空設(shè)定值,紅色曲線(xiàn)是即時(shí)真空值,由其曲線(xiàn)變化可看出氧流量調(diào)節(jié)是否適當(dāng);在定流量的模式時(shí),只有顯示真空即時(shí)值,以紅色曲線(xiàn)表示之。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程真空訊息”,即可顯示出。 蒸著製程鍍藥預(yù)融1) 當(dāng)製程進(jìn)入膜材預(yù)融程序。2) 此圖顯示膜材預(yù)融功率(Power)隨時(shí)間的變化情形,橫座標(biāo)是時(shí)間軸(sec),縱座標(biāo)是功率(電子鎗模式時(shí),1表示100mA)。此圖可看出三段式預(yù)融情形,在此狀態(tài)下,有必要時(shí),隨時(shí)都可利用狀態(tài)訊息圖中的”省略”鍵省略之,跳至下一個(gè)程序,或”放棄”鍵離開(kāi)製程監(jiān)控。3) 圖右上方提供放大、縮小及關(guān)閉功能,蒸著中若關(guān)閉此圖,可藉由點(diǎn)選”蒸著製程鍍藥預(yù)融”,即可顯示出。 線(xiàn)上量測(cè)此主下拉功能細(xì)分下列幾項(xiàng)次功能 量測(cè) 量測(cè)參數(shù) 基準(zhǔn)線(xiàn)參數(shù) 參考光量掃瞄 暗區(qū)掃瞄 1) 鍍膜機(jī)安裝有廣波域光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)方能使有此項(xiàng)功能,有如一臺(tái)可即時(shí)量測(cè)光譜之光譜儀。2) 即時(shí)量測(cè)步驟如下:1. 暗區(qū)掃瞄(非每次需要, 節(jié)所述) 2. 基準(zhǔn)線(xiàn)參數(shù):設(shè)定所儲(chǔ)存之參考光量為何基準(zhǔn),如100%(此值最常使 用)或基材BK7。3. 量測(cè)參數(shù):設(shè)定穿透率量測(cè)範(fàn)圍,如要利用此量測(cè)檢測(cè)光譜雜訊,建議範(fàn)圍設(shè)為99%101%,較易觀察。4. 參考光量掃瞄儲(chǔ)存:如量測(cè)時(shí)間間隔過(guò)久,量測(cè)前建議先進(jìn)行一次參考光量掃瞄儲(chǔ)存。5. 量測(cè):實(shí)際置放量測(cè)物於光路上進(jìn)行量測(cè),若要檢測(cè)光譜雜訊,不必放置任何東西。 量測(cè)1) 將游標(biāo)移至”線(xiàn)上量測(cè)”224?!绷繙y(cè)”點(diǎn)選,在此畫(huà)面即可進(jìn)行穿透率光譜量測(cè)。2) 按鍵說(shuō)明:1. 資料儲(chǔ)存:按下此鍵即可將資料儲(chǔ)存為..\measure\ 檔,以供操作者參考。2. 退出:按下此鍵立即退出量測(cè)。3. 顯示:?jiǎn)我伙@示表示畫(huà)面只保留最新之掃瞄光譜,重覆顯示會(huì)將所有掃瞄過(guò)的光譜同時(shí)顯示在畫(huà)面上,同一按鍵切換顯示。 量測(cè)參數(shù)1) 將游標(biāo)移至”線(xiàn)上量測(cè)”224?!绷繙y(cè)參數(shù)”點(diǎn)選,在此畫(huà)面即可設(shè)定穿透率光譜量測(cè)範(fàn)圍。2) 按鍵說(shuō)明::儲(chǔ)存設(shè)定且關(guān)閉設(shè)定畫(huà)面。:關(guān)閉設(shè)定畫(huà)面。 基準(zhǔn)線(xiàn)參數(shù)1) 將游標(biāo)移至”線(xiàn)上量測(cè)”224?!被鶞?zhǔn)線(xiàn)參數(shù)”點(diǎn)選,在此畫(huà)面即可設(shè)定量測(cè)基準(zhǔn)為何。2) 按鍵說(shuō)明::儲(chǔ)存設(shè)定且關(guān)閉設(shè)定畫(huà)面。:關(guān)閉設(shè)定畫(huà)面。3) *Substate:若選擇基板材料,則基準(zhǔn)光譜與基材光譜一樣,一般使用它,可不必拆下監(jiān)控片就可量測(cè)其光譜量。*Base Line Trans(%):點(diǎn)選之後,可設(shè)定基準(zhǔn)光譜,一般 100 最常使用。 參考光量掃瞄 暗區(qū)掃瞄 其他功能 此主下拉功能細(xì)分下列幾項(xiàng)次功能 計(jì)算NK值(3點(diǎn)) 計(jì)算NK值(單點(diǎn)) 計(jì)算NK值(3點(diǎn)) 1) 將游標(biāo)移至”其他功能”224?!庇?jì)算NK值(3點(diǎn))”點(diǎn)選,在此畫(huà)面即可計(jì)算膜材折射率。2):測(cè)試新的藥材時(shí),計(jì)算設(shè)計(jì)NK值或監(jiān)控NK值;或膜材重新測(cè)試計(jì)算使用。:計(jì)算時(shí),基材必須跟監(jiān)控片基材一致,蒸鍍時(shí)不可有吸收現(xiàn)象,基材本身不可有吸收現(xiàn)象,一次只能做單一藥材。3) 計(jì)算步驟如下: Peak 測(cè)試(高折射率材料)或高點(diǎn)(低折射率材料)所對(duì)應(yīng)之波長(zhǎng)與穿透率,務(wù)必由短波長(zhǎng)循序輸入,計(jì)算後資料儲(chǔ)存於..REC\,其資料格式與TFCal之材料檔資料格式相容,更名存入相關(guān)路徑中,即可供製程分析呼叫或TFCal 分析呼叫,需點(diǎn)按”離開(kāi)”鍵方可離開(kāi)此計(jì)算畫(huà)面 計(jì)算NK值(單點(diǎn)) 1) 將游標(biāo)移至”其他功能”224?!庇?jì)算NK值(單點(diǎn))”點(diǎn)選,在此畫(huà)面即可進(jìn)行簡(jiǎn)單單層膜單點(diǎn)極值穿透率或折射率計(jì)算。2) 使用方法:,輸入基材穿透率(未鍍)後按”基材N計(jì)算”,便可穫得基材折射率;也可反向操作,先輸入基材折射率,再按”基材穿透率”,便可計(jì)算出基材穿透率。 (單一膜材),膜材極值是鍍完後量測(cè)所得(T%),輸入後按”膜材N計(jì)算” ,便可得膜材單點(diǎn)極值折射率;也可反向操作折射率,若已知膜材單點(diǎn)極值折射率,可輸入之,再按”膜材穿透率”便可得單點(diǎn)極值穿透率。*點(diǎn)選單面反射,其操作方式跟2一樣,其輸入值及量測(cè)皆為單面反射率(R%)。3) *注意事項(xiàng):基材本身吸收小,藥材試鍍儘可能避免吸收,方能得到較準(zhǔn)確的計(jì)算值。 系統(tǒng)特色:1) 作業(yè)系統(tǒng): Win2000、Win XP 或 Win Vista2) 單一執(zhí)行檔,含檔案資料建立、分析、監(jiān)控、量測(cè)、提高操作之方便3) 資料輸入有防呆與指示功能,提高資料正確性4) 具有與 TFCalc 分析軟體相同檔案格式,方便資料建立,亦可直接將 TFCalc 設(shè)計(jì)之膜厚轉(zhuǎn)換至製程檔5) 較彈性之硬體設(shè)定,方便除錯(cuò)、硬體設(shè)定互換或關(guān)閉6)多視窗顯示功能,可獨(dú)立放大、縮小或關(guān)閉7)具有溢鍍量扣減分析功能8)分析後,監(jiān)控波長(zhǎng)選擇更具方便性9)可紀(jì)錄及鍍後顯示每一鍍膜層資料,包括廣波域光譜、監(jiān)控波長(zhǎng)光譜變化、物理膜厚、蒸著速率、通氧流量、真空度變化、離子源相關(guān)變化量(Vd, Id…) ,方便檢知,利於問(wèn)題的判斷與解決10)監(jiān)控過(guò)程更具彈性,隨時(shí)可中斷、暫停、省略或放棄11)掃瞄式融藥功能12)監(jiān)控中,參數(shù)變更即時(shí)生效,方便製程調(diào)整13)線(xiàn)上量測(cè)功能,可依狀況變換量測(cè)基準(zhǔn),進(jìn)行量測(cè) 14)自動(dòng)補(bǔ)層功能,大大提高膜層中斷補(bǔ)救之成功率 15)穩(wěn)定的蒸著速率調(diào)整及石英壽命檢測(cè)、自動(dòng)石英振盪片切換,可提高製程之良品率 16)新增一些狀態(tài)檢測(cè),如有不對(duì),立即關(guān)閉遮板,停止電子鎗作動(dòng)及發(fā)出警報(bào),可大大降低不良率的發(fā)生 監(jiān)控系統(tǒng)簡(jiǎn)要 項(xiàng)目:監(jiān)控方式可連接之硬體適用膜堆再現(xiàn)性備註光學(xué)監(jiān)控廣波域監(jiān)控系統(tǒng)(穿透式), 反射式單波長(zhǎng)監(jiān)控(如OPM8,ASAHI…等等)MIRROR、IR、AR、R、G、B Filter佳圖一石英監(jiān)控STM100、SQC12SQM160、ICXTC2???AR、IR、金屬膜堆佳時(shí)間監(jiān)控單層膜、金屬膜較差光學(xué)膜厚監(jiān)控畫(huà)面:石英監(jiān)控畫(huà)面:時(shí)間監(jiān)控畫(huà)面:63 /
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