半導(dǎo)體激光器光刻工藝簡(jiǎn)化-資料下載頁(yè)
2025-04-29 04:29本頁(yè)面
【正文】 切邊與掩膜版上的豎線(xiàn)條垂直 ，即保證管芯解理時(shí)正好解理 110自然解理面。如果晶向未對(duì)準(zhǔn)，會(huì)造成解理困難、無(wú)法形成很好的諧振腔、管芯特性差。 光刻質(zhì)量要求（ 對(duì)版） ? 二次光刻對(duì)版時(shí)要保證與一次光刻的圖形套合準(zhǔn)確，保證氧化層覆蓋好條形臺(tái)面的邊緣，以防電流從條形下面流入，造成分流，使工作電流增加、可靠性變差。 ? 設(shè)計(jì)光刻版時(shí)，加入對(duì)版標(biāo)記，可以加快對(duì)版速度、保證套合準(zhǔn)確。 光刻質(zhì)量要求（ 光刻版保養(yǎng) ） ? 光刻版不能有劃痕和污物，光刻版的損傷會(huì)直接造成圖形的不完整、露光等，對(duì)片子成品率造成直接影響。 ? 保管時(shí)注意不要被劃傷，每次對(duì)版前必須徹底清洗，使用脫脂棉蘸少許洗滌液在去離子水下一邊沖洗一邊輕輕順線(xiàn)條擦拭版表面，最后用大量的去離子水沖洗干凈 。 謝 謝！
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