高一化學利用化學反應制備物質(編輯修改稿)
2024-12-19 12:13 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 ____。 (3)在改正的裝置中 ,① 洗氣瓶中的 H2O,② 濃H2SO4,③ 燒杯中的 NaOH溶液分別起什么作用？ 用 MnO 2 和濃鹽酸共 熱制得的氯氣中 , 有揮發(fā)出來的 HCl 氣體和水蒸氣 , 題目要求制得干燥、純凈的氯氣 , 因此這兩種雜質必須要除去。用水洗法是為了除去 H Cl 氣體 , 這個裝置必須在前；用濃硫酸洗氣瓶是為了除掉水蒸氣 ,它應該在后 , 圖中盛水的洗氣瓶的進出氣導管裝反了。 答案 : ( 1 ) Mn O4＋ 4HCl ( 濃 ) ==== =△MnCl2＋Cl2↑ ＋ 2H2O ( 2 ) ① 燒瓶下面缺石棉網(wǎng) ② 鐵圈下面缺酒精燈 ③ 盛濃硫酸的洗氣瓶和盛水的洗氣瓶位置顛倒了 ④ 盛水的洗氣瓶中的氣體入口導管應插入液面下 , 而出口導管應靠近瓶塞 ( 3 ) ① 吸收未反應的氯化氫 ； ② 吸收水蒸氣 , ③ 吸收多余的氯氣 。 1. 關于實驗室制取 Cl2的反應 , 下列說法錯誤的是 ( ) A ． 還原劑是 H Cl , 氧化劑是 Mn O2 B ． 每生成 1 m ol Cl2, 轉移電子的物質的量為 2 m o l C ． 每消耗 1 m ol MnO2, 起還原作用的 HCl 消耗4 m ol D ． 生成的 Cl2中 , 除含有一些水蒸氣以外 ,還含有HCl 雜質 解析 : 根據(jù)氧化還原反應原理 ,MnO2為氧化劑 ,HCl是還原劑 ,每生成 1 mol Cl2轉移 2 mol電子 ,HCl既表現(xiàn)還原性又表現(xiàn)酸性 ,且各為一半 ,因此 C錯誤；濃鹽酸具有揮發(fā)性 ,所得 Cl2中必然含有水蒸氣和 HCl雜質。 答案 : C 二、常見氣體的制取 氣體的制取一般包括氣體的發(fā)生裝置、凈化裝置、收集裝置和尾氣處理裝置四部分。 1． 氣體發(fā)生裝置 反應特點 氣體發(fā)生裝置 典型氣 體舉例 固體 ―― →△氣體 O2 NH3 固體＋液體 ― → 氣體 H2 CO2 H2S 固體＋液體―― →△氣體 或液體＋液體―― →△氣體 Cl 2 HCl 2. 凈化裝置 裝置 類型 液體除雜劑 ( 不加熱 ) 固體除雜劑 ( 不加熱 ) 固體除雜劑 ( 加熱 ) 適用 范圍 不溶于水( 液 ) 的氣體 常溫下不與除雜 劑反應的氣體 加熱條件下不與 除雜 劑反應的氣體 裝置 示 意圖 3. 收集裝置 裝置 類型 排水 ( 液 ) 集氣法 向上排空氣 集氣法 向下排空氣 集氣法 裝置 示意圖 適用 范圍 不溶于水( 液 ) 的氣體 密度大于空 氣的氣體 密度小于空 氣的氣體 典型 氣體 H ONO 、 CO Cl HCl 、CO SO2 H NH3 尾氣中若有易
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