配位滴定法第五節(jié)金屬指示劑(編輯修改稿)
2025-06-15 20:36 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 ： 沉淀中存在沉淀不完全、共沉淀和沉淀吸附等現(xiàn)象，應(yīng)用不夠廣泛。 沉淀掩蔽劑 常見沉淀掩蔽劑及其使用條件 (P388) 掩蔽劑 被掩蔽離子 待測(cè)離子 pH 指示劑 硫酸鹽 Ba3+,Sr2 Ca2+,Mg2+ 10 鉻黑 T NH4F Ba3+,Sr2+,Ca2+,Mg2+ Zn2+,Cd2+,Mn2+ 10 鉻黑 T H2SO4 Pb2+ Bi3+ 1 二甲酚橙 硫化鈉 或銅試劑 Cu2+,Pb2+,Bi3+,Hg2+Cd2+ Ca2+,Mg2+ 10 鉻黑 T KI Cu2+ Zn2+ 56 PAN NaOH Mg2+ Ca2+ 12 鈣指示劑 氧化還原掩蔽法 通過氧化還原反應(yīng)，改變干擾離子的價(jià)態(tài)從而消除干擾的方法。 消除干擾使用還原試劑將時(shí)。值與之相近的離子共存）（等、與在滴定?????????????2324334323}{lg,]})([l g {,]})([l g {FeFeMYKHg、 Sn、 I n、 Sc、 T h、 B iZ r OFeYIIFeKYIIIFeKfff???三、解蔽作用 使用掩蔽劑將多組分離子中的干擾離子掩蔽住，滴定完待測(cè)離子后，再使用試劑將掩蔽的干擾離子釋放出來。 ????????????????OHCNH O C HZnOHH C H OCNZnCNZnCNZnZnKCNZnPb4444])([])([422224242222解蔽作用配位掩蔽掩蔽含量時(shí)，可利用和滴定溶液中第七節(jié) 配位滴定法的方式及應(yīng)用 EDTA金屬配合物一般情況下都比較穩(wěn)定，配位滴定可以采取直接滴定、反滴定、置換滴定和間接滴定等多種方式 . 一、配位滴定方式 直接滴定法 封閉現(xiàn)象且待測(cè)離子對(duì)指示劑無滴定終點(diǎn)，）應(yīng)有適當(dāng)指示劑指示（反應(yīng)離子不能有水解和沉淀）在選定條件下，被測(cè)（接測(cè)定等一些金屬離子不能直如的反應(yīng)要迅速，）被測(cè)組分與（度為滴定終點(diǎn)時(shí)的分析濃）必須滿足（配位滴定必備條件：43E D T A2)39。(10)()39。13333639。??????， I n， G a，AlCrMMYKc ( Mf直接滴定法示例（ 389） 待測(cè)離子 pH 指示劑 其他主要條件 Bi3+ 1 二甲酚橙 HNO3介質(zhì) Fe3+ 2 磺基水楊酸 50600C Th4+ 二甲酚橙 Cu2+ PAN 加乙醇或加熱 Cu2+ 8 紫脲酸銨 Zn2+ ,Cd2+,Pb2+ 二甲酚橙 910 鉻黑 T 氨性緩沖液 Ni2+ 910 紫脲酸銨 氨性緩沖液 50600C Mg2+ 10 鉻黑 T Ca2+ 1213 鈣指示劑或紫脲酸銨
公司管理相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1