6小議科學(xué)課材料的收集與使用-展示頁
2024-09-25 05:53本頁面
【正文】 范圍內(nèi)。以這種方式制造的最新微處理器的器件有片上集成的電路的22納米尺寸（最新的制程技術(shù)的英特爾2012年）。 光刻工藝（電子集成電路制造過程中使用），特別是利用極端紫外線輻射。然后可以采取的步驟“蝕刻”走，押金或以其他方式修改仍然沒有光致抗蝕劑的樣品的地區(qū)。小議科學(xué)課材料的收集與使用 紫外線與材料科學(xué)使用 一、影印石版術(shù) 紫外線輻射被用于高分辨率的影印石版術(shù)，其特征在于，化學(xué)品的過程被稱為光致抗蝕劑暴露于uv輻射已經(jīng)通過掩模。的光導(dǎo)致的化學(xué)反應(yīng)發(fā)生在光致抗蝕劑，并且在顯影后（暴露或未曝光的光致抗蝕劑去除步驟），由掩模確定的圖案保留在樣品上。 因?yàn)槭怯迷诎雽?dǎo)體制造，集成電路元件和印刷電路板的光刻法，在電子工業(yè)和電路板印制中廣泛使用到紫外線輻
外語相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1