5光電子能譜分析-展示頁
2025-01-29 17:32本頁面
【正文】 這時(shí)原子處于受激發(fā)高能量狀態(tài)，有趨于平衡的趨向，以達(dá)到低能量狀態(tài)，這稱為 弛豫過程 。若 還 有多余的能量可以使 電 子克服功函數(shù) Φs， 則電 子將從原子中 發(fā) 射出去，成 為 自由光 電 子。當(dāng)具有一定能量 hν的入射光子與 樣 品中的原子相互作用 時(shí) ，單 個光子把全部能量交 給 原子中某殼 層 上的一個受束 縛 的 電 子，這 個 電 子就 獲 得了能量 hν。光與物質(zhì)的相互作用Xray BeamXray peration depth ~1?m.Electrons can be excited in this entire volume.Xray excitation area ~1x1 cm2. Electrons are emitted from this entire areaElectrons are extracted only from a narrow solid angle.1 mm210 nm2用 X射線作激發(fā)源轟擊出樣品中元素的 內(nèi)層電子 ，并直接測量二次電子的能量，這能量表現(xiàn)為元素內(nèi)層電子的結(jié)合能 Eb。激發(fā)源： X射線（ 4） 光電子能譜（或 X光電子能譜（ XPS）又稱電子能譜化學(xué)分析（ ESCA： 激發(fā)源：電子、 X射線激發(fā)源：紫外光離子探針對二次離子的收集效率比特征 X射線高，因此分析效率高，可以作包括 H元素的成分分析，而且還可以分析同位素。發(fā)射源（信號）：二次離子。表面分析法所用的儀器主要有以下幾種：（ 1） 離子探針微區(qū)分析 （ IMMA）（注意與電子探針的區(qū)別）各種表面分析儀及其研究目的XPS: Xray Photoelectron Spectroscopy離子探針顯微分析 表面分析法是一種 無損分析 ，分析的是最表層的元素信息，分析的靈敏度極高。AES: Auger Electron Spectroscopy紫外電子能譜 常見的表面分析法的比較俄歇電子能譜 表面分析技術(shù)與普通光譜儀不同，它不是研究光與物質(zhì)的相互作用后所產(chǎn)生的光的特性，而是研究光（或粒子）與物質(zhì)相互作用后被激發(fā)出來的二次粒子（電子、離子）的能量，以達(dá)到所要獲得的結(jié)果。二次粒子和輻射源既可是同種也可以是異種。表面分析法主要指用一種粒子（電子、離子、中性粒子或光子）作輻射源轟擊樣品，使樣品受激放出 二次粒子 ，測量二次粒子的能量和性質(zhì)。（對真空度有要求）由于表面分析法的分析范圍有限（ 10個原子層的厚度以內(nèi)，即 10nm以內(nèi)），一般物質(zhì)的表面極易受到周圍環(huán)境的污染。 （ 3） 表面層物質(zhì)的狀
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