5光電子能譜分析-全文預(yù)覽
【正文】 樣 品和 儀 器之 間便 產(chǎn) 生了一個接觸 電 位差 Δ V=Φ概念的轉(zhuǎn)變引起了表達式的變化。原始概念 ：一束縛電子從所在能級移動到不受原子核吸引而處于最低能態(tài)時所需克服的能量（真空靜止電子）或是電子從結(jié)合態(tài)移到無窮遠(yuǎn)處所做的功。結(jié)合能 Eb的概念電子的動能 Ek可以實際測得的。因此得到：其中（ 2）與電子的逸出深度和能量有關(guān)，而過程（3）則與化學(xué)位移有關(guān)。（ 2）釋放出的電子向固體表面移動；綜上， 光電子發(fā)射可以分為三個過程：由于原子是處于物體內(nèi)部而不是孤立狀態(tài)，當(dāng)受激原子發(fā)射的電子脫離原來原子，就有從表面逸出的 可能性 ，當(dāng)光電子在固體內(nèi)移動，最終逸出固體表面以前所經(jīng)歷的距離是 電子逸出深度 ，它決定于電子能量和電子平均自由程。光電子逸出深度若 還 有多余的能量可以使 電 子克服功函數(shù) Φs， 則電 子將從原子中 發(fā) 射出去，成 為 自由光 電 子。Xray BeamXray peration depth ~1?m.Electrons can be excited in this entire volume.Xray excitation area ~1x1 cm2. Electrons are emitted from this entire areaElectrons are extracted only from a narrow solid angle.1 mm210 nm2激發(fā)源： X射線激發(fā)源：電子、 X射線表面分析法所用的儀器主要有以下幾種：（ 1） 離子探針微區(qū)分析 （ IMMA）（注意與電子探針的區(qū)別）各種表面分析儀及其研究目的AES: Auger Electron Spectroscopy紫外電子能譜 表面分析技術(shù)與普通光譜儀不同，它不是研究光與物質(zhì)的相互作用后所產(chǎn)生的光的特性，而是研究光（或粒子）與物質(zhì)相互作用后被激發(fā)出來的二次粒子（電子、離子）的能量，以達到所要獲得的結(jié)果。表面分析法主要指用一種粒子（電子、離子、中性粒子或光子）作輻射源轟擊樣品，使樣品受激放出 二次粒子 ，測量二次粒子的能量和性質(zhì)。由于表面分析法的分析范圍有限（ 10個原子層的厚度以內(nèi)，即 10nm以內(nèi)），一般物質(zhì)的表面極易受到周圍環(huán)境的污染。 借助各種表面分析儀，對物體 10nm以內(nèi)的表面層進行分析，可得到的信息有：（ 1）物質(zhì)表面層（包括吸附層）的 化學(xué)成分 ，除氫元素以外的元素都可以從表面分析法獲得定性和定量的結(jié)果。表面分析可以得到的信息光電子能譜分析1（ 4） 物質(zhì)表面層的物理性質(zhì) 。表面分析法的
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